“硼氮基”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果767493个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]硅基片Ⅲ族氮基半导体生长方法-CN200410074063.8无效
发明人：张宇顺;张雄 -专利权人：张宇顺;张雄
申请日： 2004-09-02 - 公布日： 2006-03-08 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明介绍了III族氮基半导体材料及其制作方法，该材料是在一中间复合过渡层的表面之上生长的，该过渡层的构成如下：一层二硼化锆薄膜或应力消除膜或是两者的复合物；一层可与二硼化锆晶格匹配的Al0.26Ga0.74N，还有粘附于硅(111)基片上的AlxGa(1－x)N(0＝＜x＜＝1)基单层或多层缓冲剂。然后，就有至少一层或多层优质III族氮基半导体材料在中间复合过渡层之上生长。
硅基片族氮基半导体生长方法

[发明专利]可见光响应型多孔氮化硼基复合光催化材料及制备方法-CN201710368777.7有效
发明人：李杰;吴田;唐成春;龚曙光;杨巍;杨曦 -专利权人：湖北第二师范学院;武汉海兴新材料科技有限公司
申请日： 2017-05-23 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： B01J27/24 文献下载
摘要：一种可见光响应型多孔氮化硼基复合光催化材料及其制备方法。该复合光催化剂中的氧化锌和金微米或纳米颗粒均匀分布在多孔氮化硼表面。该方法以多孔氮化硼、氧化锌微米或纳米颗粒和三水合四氯金酸为原料，通过球磨，吸附，分离，洗涤，干燥以及高温烧结等步骤制备可见光响应型多孔氮化硼基复合光催化材料。此外，通过多孔氮化硼表面的硼缺陷或氮缺陷降低光生电子‑空穴对的复合速率；通过多孔氮化硼优良的吸附性能提高水中有机污染物与光催化触媒体接触的速率，从而增强复合材料光催化降解有机污染物的能力。
可见光响应多孔氮化复合光催化材料制备方法

[发明专利]一种汽车用有机硅合成革及其制备方法-CN202310608410.3在审
发明人：陈云铭;赵永峰;叶素文;王天文 -专利权人：浙江康成新材料科技有限公司;江苏纳恩新材料有限公司
申请日： 2023-05-27 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： D06N3/12 文献下载
摘要：本申请公开了一种汽车用有机硅合成革及其制备方法，该有机硅合成革包括基布、粘接层与面层，以质量份计，所述面层包含有如下成分：有机硅基胶：20～50份；交联氢硅油：1～24份；硼杂化乙烯基硅树脂：5～45份；聚硅氮烷：1～15份；铂金催化剂：0.001～0.05份；所述交联氢硅油为具有至少3个键合于硅原子的氢原子的聚硅氧烷；所述聚硅氮烷包括全氢聚硅氮烷与乙烯基聚硅氮烷中的至少一种，1分子乙烯基聚硅氮烷中具有至少一个键合于硅原子的乙烯基
一种汽车有机硅合成革及其制备方法

[发明专利]疏水型自燃N-烃基三唑类双氰基硼烷配合物及其制备方法-CN201810473458.7在审
发明人：管国锋;何宇挺;丁靖;李雪;万辉 -专利权人：南京工业大学
申请日： 2018-05-17 - 公布日： 2018-09-04 - 主分类号： C07F5/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种疏水型自燃N‑烃基三唑类双氰基硼烷配合物及其制备方法。所述N‑烃基三唑类双氰基硼烷配合物的结构如式I所示。制备配合物的方法，其主要步骤是：先由1,2,4‑三氮唑和卤代烃化合物通过N‑烃基化反应，再与氰基硼氢化钠通过N‑硼氢化配位，最终得到目标产物。式I中，R选自烃基取代基中的任意一种。
配合物氰基硼三唑类自燃疏水烃基制备卤代烃化合物氰基硼氢化钠火箭推进剂烃基化反应烃基取代基点火延迟目标产物水稳定性硼氢化三氮唑配位燃料

[发明专利]一种以金属铝粉为铝源的非晶和纳米晶硅硼碳氮铝陶瓷复合材料的制备方法-CN201110027087.8有效
发明人：贾德昌;叶丹;杨治华;段小明;周玉;孟庆昌;张培峰 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2011-01-25 - 公布日： 2011-09-07 - 主分类号： C04B35/515 文献下载
摘要：一种以金属铝粉为铝源的非晶和纳米晶硅硼碳氮铝陶瓷复合材料的制备方法，它涉及一种硅硼碳氮铝陶瓷复合材料的制备方法。它解决了现有制备硅硼碳氮铝材料的方法存在成本高、工艺复杂、难于控制、产量低和成型过程伴有分解的问题。方法：一、称取立方硅粉、六方氮化硼、石墨和金属铝粉为原料；二、原料球磨，得到非晶态的硅硼碳氮铝粉末；三、非晶态的硅硼碳氮铝粉末进行气氛热压烧结即完成。本发明具有制备过程简单、工艺可控、成型过程没有分解、成本低、产量高，适于工业化生产等优点，可成为开发硅硼碳氮铝陶瓷复合材料在工业中应用的有效手段；所得以金属铝粉为铝源的非晶和纳米晶硅硼碳氮铝陶瓷复合材料的力学性能好
一种金属纳米晶硅硼碳氮铝陶瓷复合材料制备方法

[发明专利]一种以氮化铝粉为铝源的非晶和纳米晶硅硼碳氮铝陶瓷复合材料的制备方法-CN201110027089.7有效
发明人：贾德昌;叶丹;杨治华;段小明;周玉;孟庆昌;张培峰 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2011-01-25 - 公布日： 2011-09-07 - 主分类号： C04B35/515 文献下载
摘要：一种以氮化铝粉为铝源的非晶和纳米晶硅硼碳氮铝陶瓷复合材料的制备方法，它涉及一种硅硼碳氮铝陶瓷复合材料的制备方法。它解决了现有制备硅硼碳氮铝材料的方法存在成本高、工艺复杂和难于制造大尺寸块体陶瓷材料的问题。方法：一、称取立方硅粉、六方氮化硼、石墨和氮化铝粉为原料；二、原料球磨，得到非晶态的硅硼碳氮铝粉末；三、非晶态的硅硼碳氮铝粉末进行气氛热压烧结即完成。本发明具有制备过程简单、工艺可控、能够制造大尺寸块体陶瓷材料、成本低、产量高，适于工业化生产等优点，可成为开发硅硼碳氮铝陶瓷复合材料在工业中应用的有效手段；所得以氮化铝粉为铝源的非晶和纳米晶硅硼碳氮铝陶瓷复合材料的力学性能好
一种氮化纳米晶硅硼碳氮铝陶瓷复合材料制备方法

[发明专利]一种氮、硼掺杂非晶碳中空纤维膜的制备方法-CN202110275151.8有效
发明人：吕燕飞;彭雪;蔡庆锋;赵士超 -专利权人：杭州电子科技大学
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： D01F9/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种氮、硼掺杂非晶碳中空纤维膜的制备方法，本发明采用氨硼烷作为氮、硼掺杂剂，苯甲醚作为非晶碳源，铜纤维为生长基底，通过气相法在基底上制备出氮、硼掺杂非晶碳纤维膜，纤维膜厚度从数纳米厚度到100表面生长有碳纤维膜的铜纤维，经过氯化铁溶解去除后，制备成氮、硼掺杂非晶碳中空纤维膜。本发明以氮、硼为掺杂剂，氮、硼原子的引入，易于非晶碳在铜纤维表面的异质成核；苯甲醚作为碳源，苯甲醚中的氧原子高温下对铜氧化刻蚀，在还原性气体氢的作用下，铜纤维表面粗糙度增加促进非晶碳的生长。制备的氮、硼掺杂非晶碳中空纤维，膜厚度可控、尺寸均匀、膜连续无气孔且表面粗糙度小。
一种掺杂非晶碳中空纤维制备方法

[发明专利]一种多孔多晶立方氮化硼的制备方法-CN202111410622.8有效
发明人：张相法;王永凯;位星;王大鹏;薛磊;刘红伟;贾帅中 -专利权人：郑州中南杰特超硬材料有限公司
申请日： 2021-11-19 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： C01B21/064 文献下载
摘要：本发明提供一种多孔多晶立方氮化硼的制备方法。所述多孔多晶立方氮化硼的制备方法包括：包括以下步骤：S1、原料：(1).准备原料：氮硼化物粉料、立方氮化硼微粉、稀盐酸；S2、制备片状氮硼化物结合剂：(1).将上述S1中准备的氮硼化物粉料通过设备压制成片；(2).将上述(1)中压制成片的氮硼化物粉料置于真空炉中进行烧结，致使得到片状氮硼化物结合剂；S3、制备混合料：(1).将上述S1中准备的立方氮化硼微粉通过设备挤压成块状。本发明提供的多孔多晶立方氮化硼的制备方法具有能使加工效率和加工精度大大提高，且耐高温性能极佳，稳定性较好，具有良好的磨削寿命的优点。
一种多孔多晶立方氮化制备方法

[发明专利]氧化石墨烯增强硅硼碳氮陶瓷复合材料及其制备方法-CN202110085758.X有效
发明人：李达鑫;陈庆庆;贾德昌;杨治华;蔡德龙;周玉;高巍 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2021-01-22 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： C04B35/5835 文献下载
摘要：本发明提供了一种氧化石墨烯增强硅硼碳氮陶瓷复合材料及其制备方法，属于陶瓷吸波材料技术领域。所述氧化石墨烯增强硅硼碳氮陶瓷复合材料包括硅硼碳氮陶瓷和分散在所述硅硼碳氮陶瓷内的氧化石墨烯，所述氧化石墨烯与所述硅硼碳氮陶瓷通过酰化反应形成的化学键连接，且所述氧化石墨烯呈平行排列的层状结构。本发明的氧化石墨烯通过酰化反应改性聚硼硅氮烷，聚硼硅氮烷相当于插层材料分布于相邻氧化石墨烯层之间，增大了相邻氧化石墨烯层之间的间距，破坏了氧化石墨烯层间的范德华力，并且氧化石墨烯键合在聚硼硅氮烷上，防止了氧化石墨烯滑移导致的分散不均匀问题
氧化石墨增强硅硼碳氮陶瓷复合材料及其制备方法

[发明专利]一种高分子量的线型聚硼氮烷先驱体的合成方法-CN202210868045.5有效
发明人：王兵;杜贻昂;王应德;邵长伟;王小宙;韩成;龙鑫;李威 -专利权人：中国人民解放军国防科技大学
申请日： 2022-07-21 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： C08G79/08 文献下载
摘要：本发明公开一种高分子量的线型聚硼氮烷先驱体的合成方法，该线型聚硼氮烷先驱体数均分子量为20000～30000，分子式中不含六元环结构，具有线型的柔性链结构。不引入六元环结构，聚合过程中反应位点的活性不会下降，因此可以制备高分子量的聚硼氮烷先驱体。该合成方法以三氯化硼和甲基二硅氮烷为原料制备四氯二硼氮烷，然后向四氯二硼氮烷中加入NHR1R2，通过胺基中的N‑H键取代氯原子接着通过四胺基二硼氮烷低聚和进一步升温搅拌，最终制备得到高分子量的线型聚硼氮烷先驱体。该合成方法工艺简单，且不引入催化剂、抑制剂、表面活性剂等其他物质，成本低。
一种分子量线型聚硼氮烷先驱合成方法

[发明专利]一种质子酸诱导的硼氮链环化反应制备环状硼氮氢化合物的方法-CN201910010779.8在审
发明人：李慧珍;琚明月;康佳盺;陈学年;张凯旋 -专利权人：河南师范大学
申请日： 2019-01-07 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： C01B35/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种质子酸诱导的硼氮链环化反应制备环状硼氮氢化合物的方法，属于环状硼氮氢化合物的合成技术领域。本发明的技术方案要点为：一种质子酸诱导的硼氮链环化反应制备环状硼氮氢化合物的方法，具体过程为：在无水无氧的条件下，将金属硼氮化合物M(B_xN_yH_z)和质子酸HX在四氢呋喃溶液中于‑30～50℃反应制得纯净的环状硼氮氢化合物。本发明比之前的制备方法反应速率快，金属硼氮化合物M(B_xN_yH_z)和质子酸HX溶液混合后即反应完全，并且操作简单，低毒无害，安全可靠。
氮氢化合物环状硼质子酸制备链环硼氮诱导硼氮化合物技术方案要点四氢呋喃溶液金属合成技术溶液混合无水无氧

[发明专利]一种氮硼掺杂石墨相氮化碳量子点及其制备方法与应用-CN202011511908.0有效
发明人：田颖;井绪峰;王旭;陈唐涵;张军杰;雷若姗;黄飞飞;徐时清 -专利权人：中国计量大学上虞高等研究院有限公司
申请日： 2020-12-18 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C01B21/082 文献下载
摘要：本发明提供了一种氮硼掺杂石墨相氮化碳量子点及其制备方法与应用，属于量子点制备技术领域。本发明先将含氮有机物和硼源混合经热分解得到硼掺杂石墨相氮化碳；然后将硼掺杂石墨相氮化碳与水混合进行充分分散，得到硼掺杂石墨相氮化碳粒径小且分散相对均匀的硼掺杂石墨相氮化碳分散液；再将氨水与硼掺杂石墨相氮化碳分散液混合进行水热反应，将氮掺杂进硼掺杂石墨相氮化碳中；最终所得的氮硼掺杂石墨相氮化碳量子点对三价铁离子的检测灵敏度高。
一种掺杂石墨氮化量子及其制备方法应用

[发明专利]一种中碳钢表面硼氮共渗改性层及其制备方法-CN202211198337.9在审
发明人：聂重阳;朱添麟;应丽霞;曹方萍;王迪;孙泽贤 -专利权人：哈尔滨工程大学
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： C25D11/34 文献下载
摘要：一种中碳钢表面硼氮共渗改性层及其制备方法。本发明属于钢铁表面处理领域。本发明的目的是为了解决目前阳极液相等离子体渗透技术渗硼效率低以及渗硼层与基体硬度梯度不均且梯度较大的技术问题。本发明的方法：步骤1：将氯化铵、硝酸铵和硼源溶于去离子水，得到复合电解液；步骤2：以不锈钢金属槽为阴极，将预处理后的中碳钢置于复合电解液中作为阳极，采用阳极液相等离子体渗透方式进行电解处理，在中碳钢表面生成硼氮共渗改性层本发明的硼氮共渗改性层由硼氮共渗相和马氏体构成，硼氮共渗相含量由表面至基体平缓降低，硼氮共渗相包括Fe2B相、FeB相和FeN0.076
一种中碳钢表面硼氮共渗改性及其制备方法

[发明专利]一种苄基硼酯化合物的制备方法-CN201610313077.3在审
发明人：王剑波;吴超强;吴国骄;张艳 -专利权人：北京大学
申请日： 2016-05-12 - 公布日： 2016-08-24 - 主分类号： C07F5/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种苄基硼酯化合物的制备方法，将芳香硼酸Ar‑B(OH)₂、三甲基硅基重氮甲烷、频哪醇和四丁基氟化铵在有机溶剂中反应得到苄基频哪醇硼酯化合物，其中：Ar代表非杂环芳香基本发明的方法实现了从芳香硼酸出发在一锅的条件下转化得到苄基硼酯化合物，反应条件温和，所涉及的反应不需要严格的无水无氧条件，在空气中即可顺利发生，操作方便简单，对官能团具有较好的容忍性和普适性，并且不需要昂贵的金属催化剂和配体，反应成本较低，可广泛用于制备苄基硼酯化合物。
一种苄基酯化制备方法

[发明专利]一种吡啶基氟硼二吡咯甲川衍生物染料配体及其制备方法-CN201911420103.2有效
发明人：戴劲草;谢浩然 -专利权人：华侨大学
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： C07F5/02 文献下载
摘要：本发明公开一种吡啶基氟硼二吡咯甲川衍生物染料配体，是以1,3,5,7‑四甲基氟硼二吡咯甲川为核心骨架，在其2,6,8‑位接枝上吡啶，从而形成一种新型的BODIPY衍生物，即一种在可见光‑近红外区具有光活性的有机染料配体化合物2,6,8‑[4‑吡啶]‑4,4‑二氟‑1,3,5,7‑四甲基‑4‑硼杂‑3a,4a‑二氮杂‑s‑吲哒西，同时具有优良的金属配位能力和pH传感性。本发明还公开了一种吡啶基氟硼二吡咯甲川衍生物染料配体的制备方法，方法简单易控，具有普遍适应性。
一种吡啶基氟硼二吡咯衍生物染料及其制备方法