专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]鳍部的制作方法及半导体器件-CN202111515982.4在审
  • 徐长文 - 上海集成电路研发中心有限公司
  • 2021-12-03 - 2023-06-06 - H01L21/8234
  • 本发明提供了一种鳍部的制作方法及半导体器件,所述制作方法包括:提供一衬底,在所述衬底内形成凹槽,并进行氢氟酸清洗;填充隔离材料在所述凹槽内以形成隔离结构;以及刻蚀所述衬底形成鳍线条,所述鳍线条在延伸方向上被所述隔离结构所截断以形成鳍部本发明先形成用于截断鳍线条的凹槽,进行氢氟酸清洗之后填充形成隔离结构,之后再刻蚀衬底形成鳍线条,即将鳍线条的切断步骤前移至鳍线条形成之前,氢氟酸清洗工艺也移至鳍线条形成之前,可以避免氢氟酸清洗对鳍线条侧壁尺寸造成损失,从而在刻蚀形成鳍线条时无需增大鳍线条的尺寸,由此扩大了工艺窗口。
  • 制作方法半导体器件

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