专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种涂布模头及涂布装置-CN202320644147.9有效
  • 朱高稳;施伟;周玉望;明文建 - 深圳市新嘉拓自动化技术有限公司
  • 2023-03-28 - 2023-09-05 - B05C5/02
  • 本实用新型公开了一种涂布模头及涂布装置,所述涂布模头包括模头、设于模头上的涂布唇口以及支撑组件,所述支撑组件和涂布唇口沿着箔材的走带方向依次设置,所述支撑组件包括支撑线棒和调节机构,所述调节机构可以调节支撑线棒在水平方向以及垂直方向上的位置,所述支撑线棒的垂直高度大于涂布唇口的垂直高度,所述涂布装置包括所述涂布模头,通过在涂布唇口的前端设置支撑组件,在进行涂布工作时,可以防止箔材与涂布唇口直接接触,可以减少对箔材表面的底涂材料的损耗,具有良好的涂布效果
  • 一种涂布模头装置
  • [发明专利]涂布涂布头的清扫装置-CN200710128038.7有效
  • 土井敏也;甲田正纪;永井久也;黑木贵史 - 中外炉工业株式会社
  • 2007-06-22 - 2008-06-25 - B05B15/02
  • 一种涂布涂布头的清扫装置,设有吸引部(23),在使清扫构件(20)的前端部与设有供给涂布液(1)的狭缝状排出口(12)的涂布涂布头(10)的前端面(11a)接触、使清扫构件沿涂布涂布头的长度方向移动而将附着在涂布涂布头的唇部上的涂布液除去时,该吸引部(23)可对由清扫构件从涂布涂布头上除去后的涂布液进行吸引,并在清扫构件的移动方向后方侧设置有洗净液供给喷嘴(21),该洗净液供给喷嘴(21)与清扫构件一起移动,将洗净液供给到从涂布涂布头上除去涂布液后的清扫构件的前端部在使清扫构件的前端部与涂布涂布头接触状态下使其沿涂布涂布头的长度方向移动而将附着在涂布涂布头的唇部上的涂布液除去时,就能简单而可靠地除去附着在该清扫构件上的涂布液。
  • 涂布用涂布头清扫装置
  • [发明专利]一种镭射膜表面涂布系统-CN202210515261.1有效
  • 何毅松;徐建林 - 绍兴毅龙镭射科技有限公司
  • 2022-05-12 - 2023-01-24 - B05C1/08
  • 本发明公开一种镭射膜表面涂布系统,涉及镭射膜生产设备,其技术方案要点是:包括涂布辊以及导辊组件,所述导辊组件用于传导输送镭射膜,镭射膜在输送过程中两侧经过涂布辊的外周并相互接触,所述涂布辊的旋转方向与镭射膜的输送方向相反;所述涂布辊用于在接触位置涂布镭射膜,所述涂布辊与镭射膜的输送方向倾斜。本发明通过采用差速旋转的方式,能够提高对薄膜表面的试剂涂布效率,提高表面涂布的完整性和均匀性。
  • 一种镭射表面系统
  • [发明专利]涂布装置-CN201010147565.4有效
  • 三浦秀宣 - 富士机械工业株式会社
  • 2010-03-25 - 2010-09-29 - B05C1/08
  • 本发明提供一种以简单且紧凑的结构就能够对基材的表背两面分别恰当地涂布涂布剂的涂布装置。该涂布装置包括:上游侧导辊(1)及下游侧导辊(2),引导并支撑基材(S);两个涂布辊(3、4),设置在两导辊之间,在上游侧与下游侧彼此隔开指定距离,且在向与搬送方向相反的方向旋转的状态下,对基材的其中一面及另一面涂布涂布剂;涂布单元(5、5),分别设于两个涂布辊上,向对应的涂布辊供应涂布剂。涂布单元包括:涂布盒(7),沿着对应的涂布辊的一部分周面设置,形成有涂布剂积聚部(6);涂布剂输送机构(10),将涂布剂输送至涂布剂积聚部内;密封部件(8、9),在对应的涂布辊的旋转方向上游侧及下游侧密封涂布剂积聚部
  • 装置
  • [实用新型]涂布模头及涂布装置-CN202222079161.7有效
  • 刘桓基;孙信;陈晓 - 宁德时代新能源科技股份有限公司
  • 2022-08-09 - 2022-11-01 - B05C5/00
  • 本申请涉及一种涂布模头及涂布装置,涂布模头包括:涂布组件,其内设有沿出料方向X依次布设并直接连通的储料腔及出料狭缝,储料腔用于储存浆料,出料狭缝用于允许浆料通过并流出;以及分散件,具有分散部,分散部位于浆料沿出料方向X的流动路径上,分散部沿出料狭缝的宽度方向Y延伸并用于在该方向上分散浆料。本申请提供一种涂布模头及涂布装置能够缓解电池单体的电极组件中的集流体横向涂布不均匀的问题,从而能够提升涂布模头及电池单体的涂布效果。
  • 涂布模头装置
  • [发明专利]涂布器清洗装置和涂布装置-CN201611149559.6有效
  • 堀内展雄 - 东丽工程株式会社
  • 2016-12-13 - 2020-11-17 - B05B13/04
  • 提供涂布器清洗装置和涂布装置,抑制在涂布器中产生因热变形而导致的变形。涂布器清洗装置对涂布器进行清洗,涂布器从沿一个方向延伸的缝喷嘴喷出涂布液而在基板上形成涂布膜,其中,涂布器清洗装置具有:清洗槽,其是以能够浸渍涂布器的缝喷嘴的方式沿一个方向延伸的形状;清洗液提供部,其向清洗槽提供清洗液;以及振子,其对清洗槽内的清洗液施加振动波,清洗液提供部在长度方向上对清洗槽内提供清洗液,并且清洗液的提供量被设定为与清洗槽的长度方向两端部相比在中央部分多,清洗槽具有使清洗液排出到长度方向两端部的溢流部,构成为在使缝喷嘴浸渍在清洗槽中的状态下,清洗槽内的清洗液的流动从长度方向中央部分朝向溢流部流动。
  • 涂布器清洗装置
  • [发明专利]一种狭缝挤出式高精密平板涂布机及涂布方法-CN202110632139.8在审
  • 全炯俊;黄宇;阙磊;李江山;张开东 - 成都拓米电子装备制造有限公司
  • 2021-06-07 - 2021-08-06 - B05C5/02
  • 本发明公开了一种狭缝挤出式高精密平板涂布机及涂布方法,属于涂布机的技术领域,包括工作台机架,该涂布机还包括:设于工作台机架上的吸附平台定位装置;设于工作台机架上的涂布头Z轴运动机构,所述涂布头Z轴运动机构装有涂布模头机构并驱动涂布模头机构在Z轴方向上作升降运动,且通过涂布模头机构配合吸附平台定位装置的Y轴方向运动对工件涂布;设于工作台机架上且与涂布模头机构相适配的涂布头清洁装置,通过涂布头清洁装置的X轴方向运动对涂布模头机构作清洁;其中,所述涂布模头机构通过管路控制系统连接有涂布液供液装置,涂布头清洁装置连接有清洁液供液装置,以达到可涂布不同粘度的各种材料、能够实现高性能、高均匀性以及高效涂布的目的。
  • 一种狭缝挤出精密平板涂布机方法
  • [发明专利]一种双面涂布装置-CN202310347540.6在审
  • 朱高稳;施伟;周玉望;明文建 - 深圳市新嘉拓自动化技术有限公司
  • 2023-03-28 - 2023-06-06 - B05C13/02
  • 本发明公开了一种双面涂布装置,包括涂布机架,所述涂布机架上依次设有若干过辊、第一涂布机构和第二涂布机构,所述第一涂布机构包括第一涂布模头和第一涂布支撑辊,所述第一涂布模头与第一涂布支撑辊之间留有间隙供箔材通过,所述第二涂布机构包括第二涂布模头和支撑组件,所述支撑组件和第二涂布模头沿着箔材的走带方向依次设置,所述支撑组件包括支撑线棒和调节机构,所述调节机构可以调节支撑线棒在水平方向以及垂直方向上的位置,所述支撑线棒的的垂直高度大于涂布唇口的垂直高度,该装置可以为涂布后的箔材提供稳定的支撑,避免其在输送中发生抖动而影响涂布效果。
  • 一种双面装置
  • [发明专利]涂布装置及涂布方法-CN201911172486.6有效
  • 富藤幸雄;大宅宗明;塩田明仁;铃木启悟 - 株式会社斯库林集团
  • 2019-11-26 - 2022-06-07 - B05B13/04
  • 本发明提供一种抑制涂布不均的涂布装置及涂布方法。本发明的课题在于在通过涂布平台而一边使基板以上浮的状态移动一边对所述基板的上表面供给处理液来进行涂布涂布装置中抑制涂布不均,所述涂布平台包含朝向上方具有气体的喷出口的多个开口部与具有所述气体的抽吸口的多个开口部涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域均在水平面内沿与移动方向正交的列方向排列沿着移动方向排列多个开口部而成的开口行而使基板上浮,在涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域中的至少一个中,针对每个开口行,构成开口行的多个开口部在列方向上分散配置。
  • 装置方法
  • [实用新型]一种涂布装置及基材加工设备-CN202220518952.2有效
  • 曹海尚;毕汉戎;张琦;耿杰 - 江苏时代新能源科技有限公司
  • 2022-03-09 - 2022-10-18 - B05C5/02
  • 本申请实施例公开了一种涂布装置及基材加工设备,包括:涂布模头,所述涂布模头具有第一涂布口,所述第一涂布口与所述基材对应设置,用于流出所述浆料,并将所述浆料涂布到所述基材上以形成第一涂布区;吹气模块,沿所述基材的运动方向设置于所述涂布模头的下游,所述吹气模块设置于所述基材涂布有所述浆料的一侧,所述吹气模块包括出气口,所述出气口与所述第一涂布区的边缘对应设置,所述出气口用于沿第一方向向所述第一涂布区的边缘吹气以减小所述第一涂布区边缘的浆料厚度,所述第一方向平行于第一面,所述第一面垂直于所述基材并平行于所述基材运动的方向。该涂布装置能够有效改善基材在涂布过程中的厚边、虚边等问题,提高基材的涂布质量。
  • 一种装置基材加工设备
  • [发明专利]涂布装置-CN202010469567.9在审
  • 阵场成行;松本龙儿 - 夏普株式会社
  • 2020-05-28 - 2020-12-01 - B05C9/10
  • 本发明提供一种涂布装置(10),其包括:载置部(11),其载置板状的被涂布物(30);膜材料涂布部(12),将膜材料(31)沿涂布方向涂布在被载置于所述载置部(11)的所述被涂布物(30)的板面(30A);清洁部(21),其相对于所述膜材料涂布部(12),被配置在所述涂布方向的上游侧,通过与所述膜材料涂布部(12)一起相对所述载置部(11)移动,去除所述被涂布物(30)的板面(30A)上的异物;所述膜材料涂布部(12)与所述清洁部(21)被一体设置,藉由一个移动驱动部(17)相对所述载置部(11)沿所述涂布方向移动。
  • 装置
  • [发明专利]涂布器以及涂布装置-CN201410204719.7有效
  • 林田健儿;谷野圣;川竹洋;堀内展雄;伊藤祯彦 - 东丽工程株式会社
  • 2014-05-15 - 2017-10-24 - B05C5/00
  • 本发明提供一种涂布器以及涂布装置,能够迅速排出涂布器(3)的上侧歧管(11)和下侧歧管(12)内的空气。所述涂布器包括流入口(18),用于流入涂布液;排出细缝(21),用于排出涂布液,所述排出细缝在一个方向上长长地形成且在与所述一个方向垂直的方向上狭窄地形成。所述涂布器进一步包括上侧歧管,与流入口连接;下侧歧管,与排出细缝连接;节流流路(22),连接上侧歧管与下侧歧管的同时在一个方向上长长地形成且在与一个方向垂直的方向上狭窄地形成;排气孔(32),在包含该节流流路与下侧歧管的境界
  • 涂布器以及装置
  • [实用新型]一种狭缝挤出式高精密平板涂布-CN202121266079.4有效
  • 全炯俊;黄宇;阙磊;李江山;张开东 - 成都拓米电子装备制造有限公司
  • 2021-06-07 - 2021-12-14 - B05C5/02
  • 本实用新型公开了一种狭缝挤出式高精密平板涂布机,属于涂布机的技术领域,包括工作台机架,还包括:设于工作台机架上的吸附平台定位装置;设于工作台机架上的涂布头Z轴运动机构,所述涂布头Z轴运动机构装有涂布模头机构并驱动涂布模头机构在Z轴方向上作升降运动,且通过涂布模头机构配合吸附平台定位装置的Y轴方向运动对工件涂布;设于工作台机架上且与涂布模头机构相适配的涂布头清洁装置,通过涂布头清洁装置的X轴方向运动对涂布模头机构作清洁;其中,所述涂布模头机构通过管路控制系统连接有涂布液供液装置,涂布头清洁装置连接有清洁液供液装置,以达到可涂布不同粘度的各种材料、能够实现高性能、高均匀性以及高效涂布的目的。
  • 一种狭缝挤出精密平板涂布机

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