专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]气液接触-CN90100337.9无效
  • 吉尔伯特·K·陈;卡尔·T·庄 - 格里奇公司
  • 1990-01-23 - 1990-08-15 - B01D3/22
  • 一种用于气液接触塔的改进塔组件。在过程塔中把一层网状填料放在错流筛板塔的上面以提高传质效率。网状填料紧固在筛板塔盘上,在一个实施例中塔是由具有梯形截面的细棒紧密排列而构成的,对初期气泡的生成产生了抑制作用,从而得到更均匀的泡沫高度并降低了塔横向的返混现象。
  • 接触
  • [发明专利]气-液接触-CN200480040983.6有效
  • G·柯尼因;A·V·萨斯特里;M·H·弗特;R·K·惠特 - 国际壳牌研究有限公司
  • 2004-12-21 - 2007-01-31 - B01D3/20
  • 一种适于水平地安装在通常竖直的塔中的气-液接触,所述塔包括带有大体上圆形的外周且具有顶表面和底表面的塔板,所述塔板在底表面和顶表面之间设有用于气体的通道,在所述塔板上,由塔板的虚直径线限定了两个半圆形塔部分;和总共三个用于将液体从塔板的顶表面引导至塔下方的下导管,每个下导管从在塔板中布置的入口延伸至塔下方的下导管出口,其中,两个下导管布置在其中一个半圆形塔部分的拐角处,以及其中,第三下导管大体上沿垂直于直径线的塔半径布置在另一个塔部分上
  • 接触
  • [发明专利]接触输送装置和非接触吸附-CN201510989948.9有效
  • 长妻忠浩;鬼束沙织;藤平清隆 - 炭研轴封精工有限公司
  • 2015-12-24 - 2019-05-21 - B65G51/03
  • 本发明提供精细地控制工件的非接触吸附状态的非接触输送装置和非接触吸附装置。非接触输送装置具备沿输送方向排列的第1和第2非接触吸附,第1和第2非接触吸附分别包括:矩形形状的多孔质垫,呈格子状地配置有多个抽吸孔;连结于多孔质垫的背面的矩形形状的保持件,其表面形成有格子状的加压气体流路以及被该加压气体流路划分成的多个岛状部分,其具备与抽吸孔相对应地设置的连通孔,其连结于多孔质垫时,在连通孔与抽吸孔连通的状态下,岛状部分的顶面紧贴于多孔质垫的背面,在第1和第2非接触吸附连接的区域内,第1非接触吸附的保持件的加压气体流路的至少一部分终止于以沿与输送方向正交的方向延伸的方式配置的端部宽度方向流路
  • 接触输送装置吸附
  • [发明专利]一种接触-CN200910195954.1有效
  • 何军 - 上海宏力半导体制造有限公司
  • 2009-09-16 - 2011-04-20 - H01L23/482
  • 一种接触,属于半导体集成电路的保护电路设计领域。本发明提供的接触包括焊金属层,还包括:通过对有源区同时进行第一类型阱和第二类型阱的中和掺杂而形成的全耗尽层区域,所述全耗尽层区域位于所述焊金属层的正下方、并形成于半导体衬底的上表层。同现有技术相比,全耗尽层区域增大了接触的寄生电容的上电极与下电极之间的距离,降低了其寄生电容值;同时,该全耗尽层区域的制备可利用现有工艺中的离子注入,实现简单,无需额外的制程。
  • 一种接触
  • [实用新型]刃口无接触刀片保护-CN202121992236.X有效
  • 王永胜 - 无锡范丰机械制造有限公司
  • 2021-08-24 - 2022-02-01 - B65D81/05
  • 本实用新型涉及刀片保护技术领域,且公开了刃口无接触刀片保护,包括圆形结构的存刀壳,存刀壳的底部上端的中间位置固定连接有支撑柱,支撑柱外罩套有防碰撞泡棉,存刀壳的底部内壁从外至内依次固定连接有第一环形刀片放置座和第二环形刀片放置座本实用新型能够实现对多个刀片的分开稳定保存,使得刀片刃口无接触,保证了刀片的稳定运输。
  • 刃口接触刀片保护
  • [发明专利]接触及其使用方法-CN201280003574.3有效
  • 艾扎克·尼乌沃特 - 科氏-格利奇有限合伙公司
  • 2012-01-10 - 2013-08-21 - B01D3/26
  • 一种接触,其设置有台和分隔壁,分隔壁形成横跨台分布的由一个或多个罐和一个或多个下导管入口构成的分组。罐具有围绕台中的蒸汽开口的壁,蒸汽开口允许蒸汽流向上行进至罐内。下导管从下导管入口向下延伸并被布置成将液体流输送至位于下面的接触台上的罐的中心内。在罐的壁中设有排放口以允许液体流排出罐。分隔壁将排出的液体流引导至同一分组中的下导管入口并防止或阻止液体流流动至台的低侧。
  • 接触及其使用方法
  • [发明专利]汽-液接触及使用这种的方法-CN03817956.3无效
  • 拉尔夫·H·韦兰;查尔斯·A·格里塞尔;迈克尔·A·雷斯塔里茨;约翰尼·B·里特 - 科克-格利奇有限公司
  • 2003-07-29 - 2005-09-21 - B01D3/20
  • 离心接触(26)和回流接触(28)被交替且垂直地间隔设置在敞开的内部区域中。各接触具有使蒸汽向上流过板、以便与板表面上的液体相互作用的多条蒸汽通道(33)。至少一根中心下导管(40)在回流板上的开口处向下延伸,该导管在与离心板上方隔开处设有将液体输送到离心板上的下排放口。至少一根环形下导管(36)在离心板的周边向下延伸,该导管设有与回流板周围隔开、用以将液体输送到回流板上的下排放口。至少一个离心接触盘在相邻的回流接触盘上方的距离大于至少一个回流接触盘在相邻的离心接触盘上方的距离。该传质塔(20)还可包括单个支撑环(64)、一个或多个挡板(68)或它们的组合。
  • 接触使用这种方法
  • [发明专利]管芯与UBM之间的分离式RDL连接-CN202210782556.5在审
  • 左健;林耀剑 - 星科金朋私人有限公司
  • 2022-07-05 - 2023-04-04 - H01L23/498
  • 在半导体管芯上方形成第一接触、第二接触和第三接触。在第一接触、第二接触和第三接触焊盘上方形成凸点下金属化层(UBM)。UBM将第一接触电连接到第二接触。第三接触与UBM电隔离。导电迹线可以形成为在UBM下的第一接触和第二接触之间延伸。第四接触可以形成在第一接触焊盘上方,并且第五接触可以形成在第二接触焊盘上方。然后在第四和第五接触焊盘上形成UBM。
  • 管芯ubm之间分离rdl连接

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