专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果3957948个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]-CN96217629.X无效
  • 侯进;侯庆军;侯得舜 - 侯进;侯庆军;侯得舜
  • 1996-07-18 - 1998-02-04 - C25D17/26
  • 本实用新型涉及一种电镀装置,它由振动源、激振器、振动筛、槽和吊架组成,其中激振器的筛内固定三元振动电机,上部通过吊钩挂在吊架上,下部有固定振动筛的法兰盘,振动筛的筛槽内镶嵌阴极触头,筛槽底和壁上有孔,槽固定在吊架上,其内挂阳极板。它具有电镀时间短、生产率高、件质量高的优点,它还能对不能滚的片状、细小、不规则零件进行电镀。
  • 振镀机
  • [实用新型]一种实用便捷的结构-CN202320030740.4有效
  • 马林 - 深圳市中南机械设备有限公司
  • 2023-01-06 - 2023-05-26 - C25D17/18
  • 本实用新型公开了一种实用便捷的结构,涉及到技术领域,包括,所述的下方设置有架台,所述架台的内部设置有与连接的盘,所述盘的两侧采用导电钉进行固定,所述的上方设置有阴极,所述机上方的一侧联通有整流器,所述机上方的另一侧联通有控制器,所述机内部设置有电镀槽体和管路系统,所述的内部设置有内囊,所述内囊内壁的两侧下方均固定连接有伸缩导向杆,两个所述伸缩导向杆的相对均固定连接有半圆密封板
  • 一种实用便捷振镀机结构
  • [发明专利]一种延长晶片寿命的蒸-CN202211267080.8在审
  • 李文浩;李刚;林武;尚大可 - 福建兆元光电有限公司
  • 2022-10-17 - 2022-12-20 - C23C14/24
  • 本发明涉及半导体领域,具体涉及一种延长晶片寿命的蒸,所述延长晶片寿命的蒸的多个所述遮挡部绕遮挡板自转轴线均匀设置,所述镂空部设置在相邻的遮挡部之间;所述镂空部上设有镂空通道;所述镂空通道和遮挡部旋转所扫过平面均阻隔在源和晶片之间本发明的有益效果在于:所述延长晶片寿命的蒸中,蒸材料从源蒸到晶片上的路径时而被遮挡部阻挡,时而由镂空通道连通。因此所述遮挡板的设置使晶片被镀膜较少。不仅使晶片的侦测膜厚精度更高,还使晶片长期处于载荷较低的状态下,延长了晶片的使用寿命。
  • 一种延长晶振片寿命蒸镀机
  • [实用新型]一种延长晶片寿命的蒸-CN202222731826.8有效
  • 李文浩;李刚;林武;尚大可 - 福建兆元光电有限公司
  • 2022-10-17 - 2023-02-10 - C23C14/24
  • 本实用新型涉及半导体领域,具体涉及一种延长晶片寿命的蒸,所述延长晶片寿命的蒸的多个所述遮挡部绕遮挡板自转轴线均匀设置,所述镂空部设置在相邻的遮挡部之间;所述镂空部上设有镂空通道;所述镂空通道和遮挡部旋转所扫过平面均阻隔在源和晶片之间本实用新型的有益效果在于:所述延长晶片寿命的蒸中,蒸材料从源蒸到晶片上的路径时而被遮挡部阻挡,时而由镂空通道连通。因此所述遮挡板的设置使晶片被镀膜较少。不仅使晶片的侦测膜厚精度更高,还使晶片长期处于载荷较低的状态下,延长了晶片的使用寿命。
  • 一种延长晶振片寿命蒸镀机
  • [实用新型]多震盆-CN202123115043.9有效
  • 马林 - 深圳市中南机械设备有限公司
  • 2021-12-13 - 2022-05-03 - C25D17/00
  • 本实用新型公开了一多震盆,它涉及镀膜设备技术领域;所述的上端固定安装有弹簧,弹簧的上端设置有挂钩,所述的底部通过锁紧螺母与T型柱保持锁紧连接,所述T型柱的底端固定安装有底板,所述底板上插接连接有数个盘,本实用新型可根据产品数量的多少,来选择合适的小盆,实现了不浪费贵金属的功能,而节约贵金属,并且能一次能带多个小盆,多批次生产的功能节约了时间,提高了产能。
  • 一机多震盆振镀机
  • [发明专利]装置与蒸方法-CN201711038771.X有效
  • 刘扬 - 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2017-10-30 - 2019-12-03 - C23C14/24
  • 本发明提供一种蒸装置与蒸方法。本发明的蒸装置在蒸源与晶片之间设置晶片遮挡板,晶片遮挡板能够在遮挡晶片与不遮挡晶片这两种位置之间切换;晶片遮挡板处于遮挡晶片的位置时,蒸材料沉积到晶片遮挡板上,从而避免蒸材料沉积到晶片上;晶片遮挡板处于不遮挡晶片的位置时,蒸材料可以沉积到晶片上;本发明的蒸装置应用于蒸制程时,在蒸的初始阶段即待蒸材料的表面杂质的蒸发阶段,晶片遮挡板处于遮挡晶片的位置,防止杂质沉积到晶片表面;在待蒸材料的表面杂质蒸发完毕后,晶片遮挡板处于不遮挡晶片的位置,蒸材料沉积到晶片表面,率监控装置获得平稳的蒸速率。
  • 装置方法
  • [实用新型]一种真空蒸锅传动结构-CN202221880931.1有效
  • 钱文朔 - 苏州佑伦真空设备科技有限公司
  • 2022-07-20 - 2022-12-09 - C23C14/24
  • 本申请提供一种真空蒸锅传动结构,所述锅传动结构设置在真空蒸的主腔体的上部,电机或马达与磁封轴连接,磁封轴贯穿主腔体的上面板并与其固定,磁封轴用于为摇杆提供旋转的动能,所述磁封轴的下端与水平设置的齿轮固定、带动齿轮旋转,齿轮与水平设置的从齿轮啮合,从齿轮与中空轴承的上端固定,中空轴承的下端边沿处与摇杆固定,使得从齿轮带动中空轴承和摇杆同步旋转,晶水管贯穿从齿轮和中空轴承的中空部,晶水管的下端与晶探头连接,晶探头设置在所述中空部的下方、并且晶探头的直径小于等于所述中空部的直径,使得摇杆旋转时不遮挡晶探头。
  • 一种真空蒸镀机传动结构
  • [发明专利]真空镀膜-CN202110693607.2在审
  • 郑新源;戴铭志;牛晶华;程爽;张莉;袁青松;刘园园 - 上海天马有机发光显示技术有限公司
  • 2021-06-22 - 2021-10-12 - C23C14/24
  • 本申请提供了一种真空镀膜,属于显示屏电子元件镀膜技术领域,该真空镀膜包括腔体;支撑柱,设置在腔体内;载盘,包括连接部件和载板,载板通过连接部件与支撑柱连接,以使载板可沿支撑柱的轴向转动,载板呈环状并具有第一镂空部,载板沿其自身周向分布有多个基板承载区;晶系统,包括至少一个第一晶,第一晶位于第一镂空部并靠近基板承载区设置。本申请所提供的真空镀膜中第一晶能够更靠近基板承载区,由于基板放置于基板承载区,因此第一晶能够更靠近基板,第一晶检测到的蒸速率与镀膜厚度与基板实际的蒸速率与镀膜厚度更接近,从而第一晶能够更准确检测基板的蒸速率与镀膜厚度
  • 真空镀膜
  • [实用新型]一种晶探头结构-CN202221908746.9有效
  • 钱文朔 - 苏州佑伦真空设备科技有限公司
  • 2022-07-22 - 2022-11-22 - C23C14/54
  • 本申请提供一种晶探头结构,设置在真空蒸的主腔体上,其特征在于,所述晶探头结构包括:设置在锅上方的晶探头,与晶探头连接的晶水管,晶水管穿过固定件,固定件与主腔体面板固定,回转轴的上端与动力结构连接、下端与挡板部固定,使得动力结构带动回转轴和挡板部旋转,回转轴穿过晶法兰,晶法兰与主腔体面板固定,所述晶探头具有n个晶片,n≥2,挡板部的挡片设置在晶片的下方,挡片遮挡n‑1个晶片。
  • 一种探头结构
  • [发明专利]一种晶测量系统及测量方法和装置-CN202011360421.7有效
  • 廖良生;徐蒙蒙;陈千里;王江南;张川;史晓波;冯敏强 - 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
  • 2020-11-27 - 2023-06-02 - C23C14/24
  • 本发明实施例公开了一种晶测量系统及测量方法和装置,晶测量系统包括移动载台、蒸源、可旋转晶探头以及基板,晶测量系统用于测量蒸速率以及调节晶探头与蒸源之间位置关系;该测量方法包括:获取晶探头的位置信息;调取与位置信息所对应的膜厚调整参数TF;测试得到晶探头的探头测量速率V1,并计算得到基板的材料实际蒸速率V2,V2=V1*TF;若V1和V2中至少一种不满足蒸源所对应的预设蒸条件,则调整蒸源的功率和/或晶探头的位置,直至调整后V1和V2满足预设蒸条件;若V1和V2满足预设蒸条件,则进行蒸工作。本发明根据需求随时调整晶探头速率,延长晶寿命,提高膜厚控制精度。
  • 一种测量系统测量方法装置
  • [实用新型]一种蒸设备-CN202021521382.X有效
  • 乔小平 - 福建华佳彩有限公司
  • 2020-07-28 - 2021-04-02 - C23C14/54
  • 本实用新型涉及一种蒸设备,包括蒸装置、旋转机构、遮挡装置以及膜厚仪;所述旋转机构设置于所述蒸装置一侧,所述旋转机构与所述遮挡装置连接,所述膜厚仪设置于所述遮挡装置一侧;所述膜厚仪包括晶片,所述晶片设置于所述遮挡装置一侧;所述旋转机构用于旋转所述遮挡装置;所述蒸装置用于蒸材料;所述遮挡装置用于调节遮挡蒸材料蒸汽到晶片上的比例。本实用新型的蒸设备通过遮挡装置来调节遮挡蒸材料蒸汽到晶片上的比例,以适应不同蒸材料率的需求,从而延长晶片使用寿命,且实现对膜厚精确的控制。
  • 一种设备
  • [实用新型]一种蒸速率交替监测系统-CN202222545522.2有效
  • 梁英达;张帆 - 广西自贸区睿显科技有限公司
  • 2022-09-26 - 2023-03-24 - C23C14/24
  • 本实用新型涉及一种蒸速率交替监测系统。它解决了现有晶片切换具有监测空窗期且监测稳定性差,的技术问题。本蒸速率交替监测系统包括:晶盘,一侧设有若干圆周间隔分布的晶片;挡板组件,包括转轴,所述转轴驱动连接有设置在所述晶盘一侧的旋转挡板,所述旋转挡板设有间隔设置且位于同一圆形轨迹上的弧形孔和预蒸孔,所述弧形孔与预蒸孔用于供对应晶片露出于挡板组件,所述弧形孔的弧形轨迹所成圆心角大于相邻两个晶片之间所成圆心角。本蒸速率交替监测系统能够完成预蒸片与寿命结束晶片的无缝切换,填补了切换晶片时的空窗时间以及给予了晶片切换后蒸速率波动的过渡缓冲时间,提高蒸速率的精准性。
  • 一种速率交替监测系统

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top