专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种电源控制方法和装置-CN201510190823.X在审
  • 李志勇;樊小军;丁世顺;郭宇婕 - 联想(北京)有限公司
  • 2015-04-21 - 2016-11-23 - G06F1/30
  • 本申请公开的电源控制方法和装置,实时获取主机系统的当前工作状态及电源的预设参数项数值;在此基础上,依据主机系统的当前工作状态及电源的预设参数项数值,对电源进行节能或保护控制。可见,区别于现有技术,本申请同时将电源的预设参数项数值(譬如输出功率或输出电流)及主机系统的当前工作状态,作为电源节能及保护控制的控制依据,从而实现了结合主机系统的实际工作状态对电源进行按需控制,相比于现有技术较为单一、粗略的控制方式,本申请可匹配PC主机系统的实际工作状态对电源进行更为精准的控制。
  • 一种电源控制方法装置
  • [发明专利]提醒操作的执行方法及装置-CN202110606843.6在审
  • 周凌翔;贾巨涛;吴伟;张鹏;崔为之 - 珠海格力电器股份有限公司;珠海联云科技有限公司
  • 2021-05-26 - 2021-09-14 - G06K9/00
  • 本发明提出的一种提醒操作的执行方法及装置,所述方法包括步骤:持续获取用户的面部图像,以及所述用户对应的用户设备的操作数据;通过所述面部图像以及所述操作数据判断所述用户是否处于专注状态;若否,则执行预设提醒操作通过用户的面部图像能够得到用户的面部姿态,从而根据面部姿态判断用户是否处于工作姿态,通过操作数据则能够得到用户在设备上的实际工作量,从而根据实际工作量判断用户是否处于工作状态,进而根据上述工作姿态与工作状态综合判断用户是否处于专注状态,并在用户不处于专注状态时及时提醒用户进行调整;使得能够提升用户的专注力。
  • 提醒操作执行方法装置
  • [发明专利]一种激光成型生产线的控制方法及控制装置-CN202310530917.1在审
  • 赵莉;袁涛 - 陇东学院
  • 2023-05-12 - 2023-07-07 - G05B19/418
  • 上述控制方法包括:获取激光成型生产线中激光设备的实际工作数量和最佳工作数量,实际工作数量为开启状态的激光设备数量之和;根据最佳工作数量调整实际工作数量;根据开启状态的各激光设备的老化程度,调整最佳工作数量本发明基于“激光设备的老化程度越高,其发生故障的频率越高”这一常识,激光设备的老化程度越高,其发生故障的频率越高,其在工作时间内发生故障的可能性也就越大,基于此,通过去除掉激光成型生产线上的相对老化的设备,可以使激光成型生产线在工作时激光设备发生故障的概率相对较小,使得激光成型生产线相对稳定,进而使得激光成型生产线的生产效率更加稳定。
  • 一种激光成型生产线控制方法装置
  • [发明专利]一种均化增粘反应釜装置异常状态检测方法及系统-CN202210435839.2在审
  • 韩义;徐祥东 - 扬州惠特科技有限公司
  • 2022-04-24 - 2022-08-19 - G01M99/00
  • 本发明涉及数据处理技术领域,具体涉及一种均化增粘反应釜装置异常状态检测方法及系统,该方法能够实现生产领域人工智能系统等信息系统集成服务、人工智能优化操作系统、人工智能中间件、函数库等功能,还可以用于计算机视觉软件等应用软件开发;该方法采用相关的电子设备首先获取反应釜装置在每个正常工作模式下对应的模式关联类别序列与关联字典序列,通过实时获取反应釜装置实际工作中的样本数据与每个正常工作模式下的数据对比得到实际工作模式,根据能否得到对应的实际工作模式判断该反应釜装置是否发生了异常状态;结合了每个工作模式下不同类别数据之间的相关程度,提高了数据分析的准确度,增加了对反应釜装置异常状态检测的可信度。
  • 一种均化增粘反应装置异常状态检测方法系统
  • [发明专利]半导体器件-CN200580050057.1有效
  • 永井孝一 - 富士通株式会社
  • 2005-06-13 - 2008-06-04 - H01L27/105
  • 具有:多个实际工作电容器36a,所述多个实际工作电容器36a排列形成在半导体衬底10上的实际工作电容器部26上,并具有下部电极30、铁电膜32以及上部电极34;多个虚设电容器36b,所述多个虚设电容器36b排列形成在虚设电容器部28上,并具有下部电极30、铁电膜32以及上部电极34,其中,所述虚设电容器部28设置在半导体衬底10上的实际工作电容器部26的外侧;多个布线40,所述多个布线40分别形成在多个实际工作电容器36a上,并分别连接至多个实际工作电容器36a的上部电极34;布线40,所述布线40分别形成在多个虚设电容器36b上,而且,虚设电容器36b的间距对实际工作电容器36a的间距之比在0.9~1.1的范围内;形成在虚设电容器36b上的布线40的间距对形成在实际工作电容器36a上的布线40的间距之比在0.9~1.1的范围内。
  • 半导体器件

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