专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]氯乙烯精馏工序低塔回流新工艺-CN201110404968.7无效
  • 卞平官;熊俊;王灵泉;杨昭星;杨勇 - 内蒙古宜化化工有限公司
  • 2011-12-08 - 2012-06-27 - C07C21/06
  • 氯乙烯精馏工序低塔回流新工艺,它涉及一种低塔回流新工艺。新工艺为:1、将低塔冷凝器外置,后串接一个回流罐和回流泵;2、在回流泵出口设置调节阀,从低塔顶部进入,进口比低塔进料口高出0.5m;本发明在回流罐底部设下液管,连接至低塔回流泵,冷凝液由回流泵进入低塔,回流泵至低塔之间设置调节阀组,实现回流比的可控调节;本发明:能根据低塔釜温釜压的变化对回流比实现可控调节,降低精单体中乙炔含量,使之保持在3ppm以下;并且在冷凝器检修时可用回流罐及回流泵调节回流比,确保精单体质量
  • 氯乙烯精馏工序回流新工艺
  • [实用新型]直线运动模块-CN201020154155.8有效
  • 李进胜;杨进财 - 全球传动科技股份有限公司
  • 2010-04-08 - 2011-02-16 - F16C29/06
  • 滑座本体内侧对应轨道槽设置至少两个内回流槽,内回流槽与轨道槽共同构成一个内回流通道,且滑座本体外侧设置至少两个外回流槽。所述回流元件分别连结在滑座本体的外侧,各回流元件对应外回流槽设置至少一个回流槽,且外回流槽与回流槽共同构成一个外回流通道。所述端盖分别设置在滑座本体的两端面,且各端盖分别设置至少两个与内回流通道及外回流通道对应接合的回流导引槽。因此,可降低滚珠因回转半径过小而与通道干涉的问题,并强化滑座本体的刚性。
  • 直线运动模块
  • [实用新型]回流防溅结构及反应装置-CN202123448731.7有效
  • 邓徐俊 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2021-12-30 - 2022-05-31 - B01J19/00
  • 本申请公开了一种回流防溅结构及反应装置,涉及实验仪器相关技术领域,用于解决由于溶液实际量出现误差而导致的实验结果出现误差的问题。本申请提供的回流防溅结构包括回流件、防溅管和控制阀,所述回流件具有从上往下依次设置的上接口、回流腔、回流管和下接口,所述上接口与所述回流腔的顶部连通,所述回流管与所述回流腔的底部连通,所述回流管的下端与所述下接口连通;所述防溅管连通所述回流腔与所述下接口的顶端,所述防溅管的顶端高于所述回流管的顶端;所述控制阀设置在所述回流管上,用于将所述回流腔可选择地与所述下接口连通。
  • 回流结构反应装置
  • [实用新型]玻璃基板清洗装置-CN202122872233.9有效
  • 王峰;王耀君;李庆文;赵东 - 河北光兴半导体技术有限公司;北京远大信达科技有限公司
  • 2021-11-22 - 2022-05-06 - B08B11/00
  • 本公开涉及一种玻璃基板清洗装置,该玻璃基板清洗装置包括壳体(1)和回流组件(2),壳体(1)内部形成有用于清洗玻璃基板的清洗腔(3),壳体(1)上形成有开口(4),回流组件(2)设置在开口(4)处,回流组件(2)包括沿上下方向相对设置的上回流件(21)和下回流件(22),上回流件(21)和下回流件(22)之间具有间隙,开口(4)和间隙能够供玻璃基板穿过以进入清洗腔(3),上回流件(21)具有从开口(4)的顶边缘倾斜延伸的上回流面(211),下回流件(22)具有从开口(4)的底边缘倾斜延伸的下回流面(221),上回流面(211)和下回流面(221)构造为能够使清洗液回流到清洗腔(3)内。
  • 玻璃清洗装置
  • [发明专利]一种可调节回流比的回流-CN202010764323.3在审
  • 卢旭坤;马健;郝瑞强;杨兴宏;周俊 - 扬州普立特科技发展有限公司
  • 2020-08-02 - 2020-10-27 - B01D3/00
  • 本发明属于化工单元操作领域,公开了一种可调节回流比的回流罐,包括底罐,所述底罐的顶部安装有顶罐,且底罐的顶部安装有进料管,所述底罐的底部安装有出料管,所述底罐的一侧安装有回流管,且底罐相邻于回流管的一侧安装有控制器所述顶罐顶部靠近进料管的两侧均安装有五个电动推杆,十个所述电动推杆延伸至顶罐内部的一端均安装有侧板,本发明通过电动推杆带动基板移动,从而让基板将使用者需要位置的齿形槽进行遮挡,从而让液体无法通过被遮挡的齿形槽,无需通过调节阀调节回流比,让装置实现罐顶凝液在回流侧和出料侧的精确分配,提高装置工作时的稳定性,大大提高了装置的工作效率。
  • 一种调节回流
  • [发明专利]回流炉及回流时防止基板变形的方法-CN201711480199.2有效
  • 徐新华 - 通富微电子股份有限公司
  • 2017-12-29 - 2020-05-29 - H01L21/60
  • 本申请提供一种回流炉及回流时防止基板变形的方法,该方法包括如下步骤:在基板的上方流动有第一吹风,基板的下方流动有第二吹风,第二吹风的流速大于第一吹风的流速。本申请提供的回流炉及回流时防止基板变形的方法,通过在基板的上方流动有第一吹风,基板的下方流动有第二吹风,第二吹风的流速大于第一吹风的流速,使得基板上方的压力大于基板下方的压力,进而在回流时会对基板存在一个向下的压力
  • 回流防止变形方法
  • [发明专利]加工工具的回流方法、回流设备和加工系统-CN202011511317.3有效
  • 郭建广 - 北京小米移动软件有限公司
  • 2020-12-18 - 2023-08-04 - B65G37/02
  • 本公开是关于一种加工工具的回流方法、回流设备和加工系统。加工工具的回流方法包括:在第一输送轨道上传输装配治具,所述装配治具包括载具和与所述载具可拆卸组装的第一治具;在所述第一输送轨道的第一组装工位将装配件组装至第一治具;将第二治具组装于所述第一治具,所述装配件位于所述第一治具和所述第二治具之间;拆卸所述第一治具、所述第二治具和所述装配件组装的待保压结构;在所述载具上组装所述第一治具并回流到所述第一输送轨道的第一组装工位。
  • 加工工具回流方法设备系统
  • [实用新型]一种可调节回流比的回流-CN202021569322.5有效
  • 卢旭坤;马健;郝瑞强;杨兴宏;周俊 - 扬州普立特科技发展有限公司
  • 2020-08-02 - 2020-12-29 - B01D3/00
  • 本实用新型属于化工单元操作领域,公开了一种可调节回流比的回流罐,包括底罐,所述底罐的顶部安装有顶罐,且底罐的顶部安装有进料管,所述底罐的底部安装有出料管,所述底罐的一侧安装有回流管,且底罐相邻于回流管的一侧安装有控制器所述顶罐顶部靠近进料管的两侧均安装有五个电动推杆,十个所述电动推杆延伸至顶罐内部的一端均安装有侧板,本实用新型通过电动推杆带动基板移动,从而让基板将使用者需要位置的齿形槽进行遮挡,从而让液体无法通过被遮挡的齿形槽,无需通过调节阀调节回流比,让装置实现罐顶凝液在回流侧和出料侧的精确分配,提高装置工作时的稳定性,大大提高了装置的工作效率。
  • 一种调节回流
  • [实用新型]一种可调节回流量的回流装置-CN202123181393.5有效
  • 黄小忠;唐云;李鑫;龙茜;段世同;薛金根 - 湖南泽睿新材料有限公司
  • 2021-12-17 - 2022-06-21 - B01J19/00
  • 本申请涉及有机化学装置技术领域,提供一种可调节回流量的回流装置,包括:反应器、冷凝器和缓存罐,所述反应器通过第一管道与所述缓存罐的底部连通,所述第一管道上设有控制阀,所述缓存罐的上端与所述第一管道之间设有第二管道,所述缓存罐的顶部与所述冷凝器连通,所述反应器产生的蒸汽经所述第一管道、所述第二管道进入到所述缓存罐内再经所述冷凝器冷凝成液体回流至所述缓存罐内。通过在反应器和冷凝器之间设置缓存罐,可以暂时储存经冷凝器冷凝后的液体,然后在控制阀的控制下,将液体流量可控的回流至反应器内,实现回流量的可调,保证反应器内的温度波动小,具有结构简单、成本低且操作简便的优点
  • 一种调节回流装置
  • [实用新型]一种反应系统的回流回流结构-CN202220120433.0有效
  • 潘亦华 - 杭州临安华欣塑粉材料有限公司
  • 2022-01-17 - 2022-07-26 - F16K17/04
  • 本实用新型涉及一种反应系统的回流回流结构,包括阀体、调节阀,所述阀体包括进液口、出液口、回流口,所述调节阀位于阀体内部旋转固定,所述调节阀中包括回流槽、存液槽、主流通道、液体检测设备,所述回流槽可将进液口与回流口连通,所述主流通道可将进液口、出液口连通,所述存液槽位于回流槽内侧并与其连通,所述存液槽内部与液体检测设备相连。本实用新型设计了一种回流结构,可在停止供给反应剂的时候,空气通过调节阀转变流入回流管道内,使得管道内的反应剂通过回流管留回反应剂仓中,避免了管道中大量液体的留存。
  • 一种反应系统回流结构

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