专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果965379个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]高浓度有机废水可生化处理集成设备-CN201410243373.1无效
  • 陈士茂 - 广东春雷环境工程有限公司
  • 2014-06-03 - 2014-08-27 - C02F9/06
  • 本发明公开了一种高浓度有机废水可生化处理集成设备,包括臭氧反应装置、工作时被PLC控制系统控制药加入的一级pH调节池、内电解反应装置、工作时用于通入气体进行曝气的中间水池、工作时被PLC控制系统控制碱药加入的二级本发明可以轻松面对各式各样的高浓度有机废水,组装简易、运营可复制、节省人力物力、节省能耗,适用于各式各样高浓度有机废水需求,耐负荷冲击能力高,大大降低后期的生化处理难度,解决高浓度废水生化效率低,驯养耗时长等问题
  • 浓度有机废水生化处理集成设备
  • [实用新型]高浓度有机废水可生化处理集成设备-CN201420291189.X有效
  • 陈士茂 - 广东春雷环境工程有限公司
  • 2014-06-03 - 2014-11-26 - C02F9/06
  • 本实用新型公开了一种高浓度有机废水可生化处理集成设备,包括臭氧反应装置、工作时被PLC控制系统控制药加入的一级pH调节池、内电解反应装置、工作时用于通入气体进行曝气的中间水池、工作时被PLC控制系统控制碱药加入的二级本实用新型可以轻松面对各式各样的高浓度有机废水,组装简易、运营可复制、节省人力物力、节省能耗,适用于各式各样高浓度有机废水需求,耐负荷冲击能力高,大大降低后期的生化处理难度,解决高浓度废水生化效率低,驯养耗时长等问题
  • 浓度有机废水生化处理集成设备
  • [实用新型]一种废酸提浓装置-CN202020291526.0有效
  • 钱占虎 - 泰安市永达环保科技有限公司
  • 2020-03-11 - 2020-11-10 - C02F9/10
  • 该废酸提浓装置,通过设置的两套冷凝器冷凝,从而分别回收高浓度盐酸和酸性水,再通过泵排出,高浓度盐酸可以回用于生产,酸性水直接排入污水处理站处理,通过真空作用,从而可以避免物料粘附到加热管的内壁上,废液经蒸发达到过饱和后,直接进入结晶器,在结晶器内冷却结晶,分离出四水氯化亚铁晶体,进而达到了能有效提高回收浓度,提高回收价值的目的。
  • 一种废酸提浓装置
  • [发明专利]晶硅太阳能电池及其制作方法-CN201210303448.1无效
  • 马桂艳;宋连胜;李倩;刘莉丽 - 英利能源(中国)有限公司
  • 2012-08-23 - 2012-11-28 - H01L31/18
  • 该制作方法包括对硅片进行扩散制结、刻蚀、沉积减反射层、印刷电极及烧结的步骤,上述刻蚀的步骤包括:S1、将扩散制结后的硅片的边缘和背面采用等离子刻蚀法进行刻蚀;S2、采用硝酸和氢氟酸的第一混合液对刻蚀后的硅片正面进行处理,第一混合液中HNO3与HF的质量比为10:1~15:1,且第一混合液中HF的浓度为10~80g/L。本发明的刻蚀步骤首先采用等离子刻蚀法对硅片的边缘和背面进行刻蚀,实现将背面和正面绝缘的目的;然后采用含有硝酸和氢氟酸的第一混合液处理硅片正面,去除了扩散中形成的磷硅玻璃或硼硅玻璃以及硅片正面表层的高浓度磷掺杂区或高浓度硼掺杂区
  • 太阳能电池及其制作方法
  • [发明专利]一种高浓度石墨烯浓缩分散液的制备方法-CN201910761950.9有效
  • 王惠;白晋涛;聂婷 - 西北大学
  • 2019-08-16 - 2021-04-23 - C01B32/194
  • 一种高浓度石墨烯浓缩分散液的制备方法,它涉及一种石墨烯浓缩分散液的制备方法。本发明的目的是要解决现有方法无法得到高浓度、均一且稳定的石墨烯分散液的问题。方法:一、将石墨烯加入到溶剂中,得到预混溶液;二、搅拌、超声,得到混合液;三、将混合液加入到高压均质机料斗中破碎;四、制备浓度为1%的高浓度石墨烯浓缩分散液;五、制备浓度为2%的高浓度石墨烯浓缩分散液;六、制备浓度为3%的高浓度石墨烯浓缩分散液;七、制备浓度为4%的高浓度石墨烯浓缩分散液;八、制备浓度为5%的高浓度石墨烯浓缩分散液。本发明适用于制备高浓度石墨烯浓缩分散液。
  • 一种浓度石墨浓缩分散制备方法
  • [发明专利]无回滞效应硅控整流器型ESD保护结构及其实现方法-CN201711464516.1有效
  • 朱天志 - 上海华力微电子有限公司
  • 2017-12-28 - 2019-10-25 - H01L27/02
  • 本发明公开一种无回滞效应硅控整流器型ESD保护结构及其实现方法,该结构包括:半导体衬底(80);生成于半导体衬底的N阱(60)和P阱(70);高浓度P型掺杂(20)、高浓度N型掺杂(28)置于N阱(60)上部,高浓度P型掺杂(20)、N阱(60)及P阱(70)构成等效PNP三极管结构,高浓度N型掺杂(24)、高浓度P型掺杂(26)置于P阱(70)上部,N阱(60)、基体(80)/P阱(70)与高浓度N型掺杂(24)构成等效NPN三极管结构,高浓度N型掺杂(22)置于N阱(60)与P阱(70)分界处上方,高浓度P型掺杂(20)、高浓度N型掺杂(28)间用宽度为S的浅沟道隔离层(10)隔离,高浓度N型掺杂(28)与高浓度P型掺杂(22)之间为N阱(60)的一部分。
  • 硅控整流器衬底半导体浅沟道隔离分界处隔离

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top