专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]气体保护盒高度调节工装-CN201620042446.5有效
  • 冯玉;田宗瑞;茅陆荣 - 上海森松压力容器有限公司
  • 2016-01-16 - 2016-07-06 - B23K9/32
  • 本实用新型涉及一种气体保护盒高度调节工装,包含底座、设置在底座上对气体保护盒进行支撑的连杆机构。其中,连杆机构包含对气体保护盒进行支撑的第一连杆组件和第二连杆组件,且第一连杆组件和第二连杆组件分别具有可活动的枢转部。其中,第一连杆组件和第二连杆组件的一端分别通过第一铰接件与底座铰接,而另一端分别通过第二铰接件与气体保护盒铰接。并且,气体保护盒高度调节工装还包含对第一连杆组件和第二连杆组件的枢转部进行锁止的锁止件。同现有技术相比,不但能够便于工作人员在对气体保护盒的高度位置进行调节和固定,而且能够精简工作人员个数,节约时间,提升工作效率。
  • 气体保护高度调节工装
  • [发明专利]循环呼吸器设备-CN202180032825.X在审
  • 蒂姆·韦克福德;罗伯·鲍伊尔 - 艾维恩逊沃克斯有限公司
  • 2021-05-04 - 2022-12-23 - A62B7/14
  • 用于为用户制备通风气体混合物的设备,包括:被配置为通过第一气体进口接收氧气的气体混合装置,所述气体混合装置进一步被配置为从人接收呼出气体;被配置为通过第二气体进口从气体混合装置接收呼出气体的储气库,其中所述储气库进一步被配置为通过第二气体进口向气体混合装置重新供应呼出气体;被配置为确定高度信息的高度传感器;被配置为从高度传感器接收高度信息且进一步被配置为基于接收的高度信息控制氧气通过第一气体进口的流动的控制系统;其中所述气体混合装置布置为将通过第一气体进口接收的氧气与通过第二气体进口接收的重新供应的呼出气体合并,以制备通风气体混合物。
  • 循环呼吸器设备
  • [实用新型]六氟化硫气体过滤净化装置-CN201020536871.2无效
  • 方强华;孙卉 - 河南省电力公司郑州供电公司
  • 2010-09-21 - 2011-06-01 - B01D46/00
  • 本实用新型公开了一种六氟化硫气体过滤净化装置,包括壳体和底部支腿,所述壳体上端侧壁上分别设置有上采样阀和气体出口,所述壳体下端侧壁上分别设置有下采样阀和气体进口,所述气体出口的高度略高于上采样阀的高度,所述气体进口的高度略低于下采样阀的高度;所述壳体内腔中自下而上依次设置有去颗粒物滤层、去氢氟酸滤层、去酸性分解物滤层、去六氟化硫分解物滤层、去油滤层和去水分滤层。本实用新型中,气体出口的高度略高于上采样阀的高度气体进口的高度略低于下采样阀的高度,这样检测到的数据更准确,净化后的六氟化硫气体能够达到电力系统六氟化硫气体的使用验收标准而被循环再利用,有效降低了企业的经营成本
  • 六氟化硫气体过滤净化装置
  • [发明专利]一种高度定位气体压力支撑装置-CN201210015611.4无效
  • 魏志凌;宁军;高永强 - 昆山思拓机器有限公司
  • 2012-01-18 - 2013-07-24 - C03C17/23
  • 本发明公开了一种定位高度气体压力支撑装置,包括:由规则排列的定位高度气体压力柱组成的定位高度气体压力柱阵列,定位高度气体压力柱包括球体和上部设有球冠腔室、内部设有贯通通孔、中部设有定位凸台、凸台下部有凹槽及下部有螺纹的柱体根据本发明定位高度气体压力支撑机构,输入气体通过基座通气管道,经定位高度气体压力柱内设的贯通通孔输入球冠腔室内,使所述球体浮起,向外传递压力;且球体可任意方向转动,使球体和工件之间的摩擦为滚动摩擦,可降低了接触工件出现位移时由摩擦造成的损伤,同时可以提供精确设定压力;同时,由于定位凸台和凹槽的存在,使压力柱可以精确的保证在所联接平台上的高度
  • 一种高度定位气体压力支撑装置
  • [发明专利]成膜装置及基板处理装置-CN200910172122.8有效
  • 加藤寿;本间学;羽石朋来 - 东京毅力科创株式会社
  • 2009-09-04 - 2010-03-10 - C23C16/455
  • 本发明提供一种成膜装置及基板处理装置,该成膜装置具有:旋转台、从旋转台的周缘朝向旋转中心设置的第1反应气体供给部和第2反应气体供给部、设置于该第1反应气体供给部和第2反应气体供给部之间的第1分离气体供给部该成膜装置中形成有:包含第1反应气体供给部且具有第1高度的第1空间、包含该第2反应气体供给部且具有第2高度的第2下表面区域、包含第1分离气体供给部且具有第3高度的第1空间,该第3高度低于第1高度和第2高度
  • 装置处理
  • [实用新型]一种多功能气体采样装置-CN202222095622.X有效
  • 杨晓东;张迎君 - 青岛瑞合环保科技有限公司
  • 2022-08-10 - 2023-04-28 - F16M11/04
  • 本实用新型公开了一种多功能气体采样装置,包括多功能气体采样设备以及设置在多功能气体采样设备上的采集管,多功能气体采样设备的底部连接有高度调节组件,高度调节组件连接有方向调节组件,方向调节组件的底部连接有支撑组件,高度调节组件包括螺纹杆和螺纹套,螺纹杆的顶部与多功能气体采样设备的底部连接,螺纹套套设在螺纹杆底部,螺纹套的底部连接有方向调节组件。通过高度调节组件和方向调节组件的设置,可以调整多功能气体采样设备的高度和朝向,通过支撑组件的设置,可以对多功能气体采样设备进行支撑。
  • 一种多功能气体采样装置
  • [实用新型]一种充保护气体的设备-CN201220396055.5有效
  • 苏先平;单廷臣;聂自洋;赖明 - 中国南方航空工业(集团)有限公司
  • 2012-08-10 - 2013-02-27 - B23K37/00
  • 本实用新型公开了一种充保护气体的设备,用于充比空气相对分子质量大的保护气体,包括具有保护气体进口、空气出口和操作口的箱体,保护气体进口的高度低于空气出口的高度。本实施例中采用在箱体上设置保护气体进口和空气出口,并且将气体进口的高度设置为低于空气出口的高度。使用过程中,保护气体从保护气体进口进入到箱体的内部,由于保护气体的相对分子质量大于空气的相对分子质量,因此,从保护气体进口进入箱体的保护气体比空气重,保护气体会将空气从箱体内推出,使得箱体内充满保护气体,从而达到充保护气体的目的。该设备结构简单,只需要在箱体上开设几个口即可实现充保护气体的目的,有效降低了生产成本。
  • 一种保护气体设备
  • [实用新型]多要素气体检测装置-CN202021558224.1有效
  • 秦存永;杨庆元;刘锋;吴飞明;周胜;张宇川 - 上海勋光电子科技有限公司
  • 2020-07-30 - 2021-05-25 - G01N33/00
  • 本发明提供了一种多要素气体检测装置,包括:检测器主机,两个以上气体探头模组,所述与气体探头模组与检测主机相连接;所述各个气体探头模组用于检测不同种类的气体;所述至少两个的气体探头模组的安装高度不同,每个气体探头模组的安装高度对应其检测气体的比重本发明所述多要素气体检测装置在多要素气体监测时,各个气体探头模组安装高度可调,可以同时监测各种比重和种类的气体,并且提供了具有参数保存功能、数字量输出的气体探头模组,方便多要素气体种类的选择和扩展以及更换
  • 要素气体检测装置
  • [发明专利]一种化学化工反应过程测试装置-CN202210958167.3在审
  • 刘福来;刘振明;杨新利 - 山东鸿远新材料科技股份有限公司
  • 2022-08-11 - 2022-09-09 - G01N33/00
  • 本发明公开了一种化学化工反应过程测试装置,属于化工检测领域,包括底座,底座的上表面固连安装架;安装架及底座上共同设有高度调节机构;安装架前表面通过高度调节机构固连支撑板;支撑板的上表面设有气体检测头;气体检测头的一侧外圆面设有报警器;气体检测头的另一侧外圆面固连通讯线,且气体检测头通过通讯线电性连接管理主机;气体检测头的上端设有气体预处理机构。本发明通过设置高度调节机构,可以根据检测气体的种类,自动对气体检测头进行高度调节,进而使得气体检测头处于当前检测气体所沉积的高度,进而提高气体检测头的检测精度,同时,本设备利用真空吸盘同墙面进行固定,方便安装与拆卸
  • 一种化学化工反应过程测试装置
  • [发明专利]用于半导体外延生长的注射器-CN201680032685.5有效
  • 鲍新宇;刘树坤;埃罗尔·安东尼奥·C·桑切斯 - 应用材料公司
  • 2016-05-17 - 2021-03-09 - C23C16/455
  • 一种处理腔室具有顶部、底部、侧壁、基板支撑件、能量源及气体注射器衬垫,所述顶部、底部及侧壁耦接在一起以界定壳体,基板支撑件具有基板支撑表面,能量源耦接至顶部或底部,气体注射器衬垫设置在侧壁。气体注射器衬垫包括设置在第一高度的第一多个气体出口(其中第一多个气体出口中的一个或多个向上或向下定向)、设置在比第一高度低的第二高度的第二多个气体出口(其中第二多个气体出口中的一个或多个向上或向下定向)及设置在比第二高度低的第三高度的第三多个气体出口(其中第三多个气体出口中的一个或多个相对于基板支撑表面向上或向下定向)。
  • 用于半导体外延生长注射器

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