专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种结合动态参数的测量方法-CN201410568646.X在审
  • 陈振富;危小灵;甘元初;陶秋旺 - 陈振富
  • 2014-10-23 - 2015-02-18 - G06F19/00
  • 本发明公开了一种结合动态参数的测量方法,提出对于由第一子结构、第三子结构经结合第二子结构联接形成的整体联接结构,通过测试整体联接结构和第一子结构、第三子结构的传递函数,能分析得到中间第二子结构(结合)的传递函数,从而形成了一种方便的结合动态参数的测量方法。该结合动态参数的测量方法建立了结合面子结构与整体联接结构和非结合面子结构的传递函数的关系式,并采用横向位移传递函数替换带转角的传递函数的方法,从而可通过测试横向平动位移传递函数,分析得到结合动态参数本发明用于结合动态参数的测量,方法简单,操作方便,并解决了带转角的传递函数难测的问题。
  • 一种结合动态参数测量方法
  • [发明专利]一种粗糙微波段双向反射分布函数的建模方法-CN201410016087.1在审
  • 郭立新;苟雪银;张连波 - 西安电子科技大学
  • 2014-01-14 - 2014-04-02 - G06F19/00
  • 本发明公开了一种粗糙微波段双向反射分布函数的建模方法,根据粗糙面的功率谱密度函数,通过蒙特卡洛方法产生粗糙;利用矩量法计算粗糙面的单位雷达散射截面σ0;根据粗糙散射系数和双向反射分布函数之间的关系求得粗糙面的双向反射分布函数;根据求得的双向反射分布函数进行五参量经验模型建模;根据模型参数选择的最佳标准,利用遗传算法对五参量模型的参数进行优化,求得经验参数;根据优化得到的经验参数,利用五参量经验模型对粗糙双向反射分布函数进行建模与现有技术相比,本发明具有优化速度快,建模精度高,建模方法通用性强的优点,可用于粗糙微波段双向反射分布函数特性的研究。
  • 一种粗糙微波双向反射分布函数建模方法
  • [发明专利]六边形像元阵探测器调制传递函数计算方法-CN201711240291.1有效
  • 王凡;郭荣礼;倪晋平;杨曈 - 西安工业大学
  • 2017-11-30 - 2021-04-06 - H04N17/00
  • 本发明涉及一种六边形像元阵探测器调制传递函数计算方法,该方法包括以下步骤:第一步:确定六边形像元阵探测器的孔径函数;第二步:确定六边形像元阵探测器的采样函数;第三步:写出任意输入图像经过探测器采样成像的输出图像的表达式;第四步:根据像元形状,确定傅里叶变换区域,写出输出图像的频谱的表达式,计算输出图像与输入图像的频谱比值,获得光学传递函数;第五步:由于调制传递函数是光学传递函数的模,求取光学传递函数的模,并进行归一化,得到二维调制传递函数;此二维调制传递函数即为六边形像元阵探测器的调制传递函数
  • 六边形像元面阵探测器调制传递函数计算方法
  • [发明专利]半导体结构及其形成方法-CN202010923218.X在审
  • 赵琼洋;王安妮 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
  • 2020-09-04 - 2022-03-04 - H01L21/02
  • 一种半导体结构及其形成方法,其中结构包括:基底;位于所述基底上的功函数层,所述功函数层内含有铝元素,所述功函数层包括相对的第一和第二,所述第一与基底表面的距离小于第二与基底表面的距离,且沿着第一到第二面的方向,所述功函数层内铝原子的摩尔百分比浓度减小。由于底部的功函数层铝原子的摩尔百分比浓度越高,越有利于降低形成的器件的阈值电压,使得在不改变功函数层厚度的情况下,提高调整器件阈值电压的能力。同时,顶部的功函数层铝原子的摩尔百分比浓度较低,有利于降低铝原子在功函数层内聚积的几率。所述结构能够提高调整器件阈值电压的能力,从而提高形成的半导体结构的性能。
  • 半导体结构及其形成方法
  • [发明专利]制作微光学元件的半色调掩模编码方法-CN03123579.4无效
  • 王长涛;杜春雷 - 中国科学院光电技术研究所
  • 2003-05-29 - 2004-12-08 - G06F17/14
  • 制作微光学元件的半色调掩模编码方法,用于制作连续形的轴对称微光学元件,其特征在于:首先对轴对称元件函数f(r)作贝赛尔-傅利叶变换得到其空间频谱分布函数g(ρ),由此确定函数的最高截止频率B,其次根据零阶贝赛尔函数的根λi (i=1,2,...)与最高截止频率B的比值确定需要对面形函数抽样编码的位置,最后在各编码位置处,根据函数的值得到环带编码,在各环带内掩模的透过率设为本发明与通常采用的灰阶编码方法相比,环形编码需要处理数据量少、设计简单,另外加工出的元件形的轴对称性质可以得到保证。
  • 制作微光元件色调编码方法

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