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- [发明专利]图形修正方法-CN202211221485.8在审
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吴青;范晓;江志兴
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华虹半导体(无锡)有限公司
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2022-10-08
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2022-12-13
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G03F7/20
- 一种图形修正方法,包括:提供待修正版图,包括若干待修正图形;获取掩模版的最小工艺尺寸和最小设计尺寸;获取掩膜版尺寸限定规则,所述掩膜版尺寸限定规则包括若干待设定参数,所述待设定参数包括投影距离;根据最小工艺尺寸和最小设计尺寸获取待设定参数的限定条件;根据限定条件对待设定参数进行取值,获取若干待设定参数数值;根据待设定参数的数值对待修正图形进行光学邻近效应修正,获取若干全局残值;以若干投影距离的取值数值为横坐标,以全局残值为纵坐标,获取若干条曲线;根据曲线的斜率以及对应的全局残值,获取待设定参数的目标数值;根据待设定参数的目标数值对待修正图形进行光学邻近效应修正。
- 图形修正方法
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