专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]靶材的制作方法-CN201010132083.1无效
  • 锺润文 - 慧濠光电科技股份有限公司
  • 2010-03-25 - 2011-09-28 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种靶材的制作方法,包含化合物制作步骤、粉末制作步骤、靶材初坯制作步骤、烧结步骤以及整型步骤,主要是依照原子比例,将的金属粉末或其合金粉末以及粉以有机溶剂均匀混合,再以高温反应合成为化合物,再将化合物形成粒径小于5μm的粉末,然后制作为靶材。藉由本发明靶材制作薄膜,可以省略化步骤,以确保制程的安全性,同时能够缩减制程时间、减少耗能、增加材料的利用率,进一步改善薄膜的均匀度及晶相,更提升太阳能电池的转换效率。
  • 铜铟镓硒靶材制作方法
  • [发明专利]硫五元靶材的制作方法-CN201010542692.4无效
  • 钟润文 - 慧濠光电科技股份有限公司
  • 2010-11-05 - 2012-05-23 - B22F3/16
  • 一种硫五元靶材的制作方法,包含硫化合物制作步骤、粉末制作步骤、靶材初胚制作步骤、烧结步骤以及整型步骤,主要是依照原子比例,将、硫的元素粉末以合成溶剂混合,再反应合成为硫化合物,再制作为靶材,或将作为五元靶材先驱物混合步骤的三元或四元化合物粉末混合,经过高压烧结而完成,以本发明靶硫五元材制作薄膜,可省略化、硫化步骤,以确保制程安全性,且该靶材的导电度适用直流溅镀及射频溅镀,能提升溅镀效率、形成无污染、成分均匀的硫薄膜。
  • 铜铟镓硒硫五元靶材制作方法
  • [发明专利]一种薄膜制备方法及薄膜-CN201610841978.X有效
  • 王文庆 - 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司
  • 2016-09-22 - 2018-03-16 - H01L31/032
  • 本发明涉及光伏薄膜材料技术领域,特别涉及一种薄膜的制备方法及薄膜。本发明的制备方法包括以下步骤在沉积背电极的衬底上磁控溅射形成包含化物系列化合物的第一层掺钠预制层;化热处理掺钠预制层,得到第一层薄膜层;周期循环重复步骤(1)、(2),每个周期中Ga/(In+Ga)不同,从第一层薄膜层到最后一层薄膜层中,Ga/(In+Ga)先减小后增多。一种薄膜,由n层不同带隙的掺钠薄膜层组成,各层掺钠薄膜层带隙延薄膜沉积生长方向先减小后增多,n大于等于3。本发明可有效提高光电转换效率,同时增加了太阳能电池的开路电压。
  • 一种铜铟镓硒薄膜制备方法
  • [发明专利]一种平面溅射靶材的制备方法-CN201310100636.9无效
  • 徐从康 - 无锡舒玛天科新能源技术有限公司
  • 2013-03-26 - 2013-07-24 - C23C14/06
  • 本发明提供的一种平面溅射靶材,由构成Cu-In-Ga-Se2四元合金体系,其中的原子比为(20-25)∶(10-19)∶(6-12.5)∶(50-60)。本发明还提供了一种平面溅射靶材的制备方法。该靶材由构成Cu-In-Ga-Se2四元合金体系,能够大幅降低薄膜电池的生产成本,使薄膜电池大规模工业化。该靶材的制备方法以高纯金属为原料,经过球磨、过筛、热压等工艺制得平面溅射靶材,工艺简单、成本低廉,适于工业化生产,制得的靶材相对密度高可达到89%以上、氧密度高可达150-250ppm
  • 一种平面铜铟镓硒溅射制备方法

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