专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]量子图案化的方法、发光器件的制作方法及相关装置-CN202010656714.3在审
  • 梅文海;张振琦;吴志鸿 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2020-07-09 - 2022-01-11 - H01L51/56
  • 本发明公开了一种量子图案化的方法、发光器件的制作方法及相关装置,本发明首先在基底上形成包括光敏材料以及表面具有配体的量子的膜;然后采用预设波长的光照射量子保留区域;由于在预设波长的光照射下,光敏材料或光敏材料在光照射后的生成物与量子表面的配体发生反应,使配体从量子表面脱落,没有配体的量子的溶解性发生改变,从而使量子点发生聚沉,量子无法再溶解于原溶剂中;最后,去除未被预设波长的光照射的膜,以在量子保留区域形成图案化的量子;与现有技术相比,本发明不需要采用喷墨打印法或光刻法即可完成量子的图案化,能够形成高分辨率的,性能良好的量子
  • 量子图案方法发光器件制作方法相关装置
  • [发明专利]图案化量子量子点发光器件和制作方法-CN202080003375.7在审
  • 王好伟 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2020-12-16 - 2022-08-30 - H01L51/50
  • 本公开实施例提供一种图案化量子量子点发光器件和制作方法。所述图案化量子的制作方法,包括:在衬底基板的一侧形成图案化的掩膜;在所述掩膜的背离所述衬底基板的一侧形成量子薄膜,其中,所述量子薄膜包括量子本体,以及与所述量子本体连接的原生配体;在所述量子薄膜的背离所述掩膜一侧形成含有置换配体的配体薄膜,并静置第一时长,以使所述原生配体被所述置换配体置换;通过清洗溶剂清洗,去除未反应的所述置换配体以及被置换掉的所述原生配体;剥离所述掩膜,以及一并去除附着于所述掩膜的所述量子薄膜,以在所述目标区域形成量子的图案部
  • 图案量子点膜层发光器件制作方法
  • [发明专利]量子点发光器件、其制作方法及显示装置-CN202111131470.8在审
  • 张晓远 - 北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司
  • 2021-09-26 - 2021-12-24 - H01L51/50
  • 本申请实施例提供了一种量子点发光器件、其制作方法及显示装置。该量子点发光器件包括衬底基板和依次叠置在所述衬底基板上的第一电极、第一载流子传输量子点发光、第二载流子传输和第二电极量子点发光包括多个量子单元,每个量子单元包括量子本体以及与量子本体连接的多位配体;多位配体包括N个配位基团(N为整数,且N≥2),其中至少一个配位基团可与量子本体配位连接,且至少一个配位基团可与第一纳米传输粒子和/或第二纳米传输粒子配位连接。多位配体的配位基团不仅能够钝化量子和载流子传输粒子的表面缺陷,从而提升量子和载流子传输粒子的稳定性还能够提升器件寿命。
  • 量子发光器件制作方法显示装置
  • [发明专利]一种超薄量子膜的制备方法与加工设备-CN202010461273.1有效
  • 齐永高;刘勇;张光磊;张飞鹏 - 南京贝迪新材料科技股份有限公司
  • 2020-05-27 - 2021-11-16 - C09J7/30
  • 本发明提供的超薄量子膜的制备方法与加工设备,涉及液晶显示技术领域,在生产制备过程的初始放卷直至涂布量子胶液固化成型在两阻隔膜之间的阶段,两阻隔膜相对远离的侧面始终贴附有离型保护膜,离型保护膜在量子胶液固化并至收卷段时经撕开辊组逐渐剥离开两阻隔膜,得到超薄量子膜,即量子胶液和位于量子胶液外侧的两阻隔膜;本发明有效解决现有技术中直接制备超薄量子膜由于膜过薄导致量子膜在牵引固化过程中发生皱褶和翘曲问题,确保产品厚度和光学性能均一,并且操作简单,无需复杂操作即可实现超薄量子膜的稳定批量生产。
  • 一种超薄量子制备方法加工设备
  • [发明专利]彩膜基板的制备方法及彩膜基板-CN201911233140.2有效
  • 陈杰 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2019-12-05 - 2020-12-04 - G02F1/1335
  • 本申请提供一种彩膜基板的制备方法及彩膜基板,该制备方法包括:提供一基板,基板包括第一子像素区、第二子像素区和第三子像素区;在第一子像素区上形成第一光阻;在基板上形成量子量子包括至少两种量子,至少两种量子的出光颜色分别与第一光阻的出光颜色不同;在量子上依次形成第二光阻和第三光阻,第二光阻对应第二子像素区设置,第三光阻对应第三子像素区设置;以第二光阻和第三光阻为遮挡,对量子进行猝灭处理,使量子未被遮掩的量子无效。本申请以第二光阻和第三光阻为遮挡,对量子进行猝灭的设置,替换了采用光罩形成图案化的量子的工序,从而节省了光罩,进而降低了成本。
  • 彩膜基板制备方法

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