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- [实用新型]一种金属粉体表面镀银的反应装置-CN201922035257.1有效
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王锴尧;王翠霞;苏耳兵
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江苏博迁新材料股份有限公司
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2019-11-22
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2020-09-25
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B22F1/02
- 本实用新型公开了一种金属粉体表面镀银的反应装置，其技术方案要点包括还原反应釜以及至少一个固定在所述还原反应釜上端的络合反应釜，所述还原反应釜和络合反应釜内分别设置有向还原反应釜内添加还原液的还原液添加装置以及向络合反应釜内添加反应液的反应液添加装置，所述还原反应釜和络合反应釜的底部均设置有带阀门的出料口。本实用新型具有使反应液通过反应液添加装置进入络合反应釜中，待反应完全后再通过络合反应釜的出料口进入还原反应釜，进而在还原液通过还原液添加装置进入还原反应釜中后与络合反应釜进入还原反应釜内的液体反应至完全，再通过相应的出料口放出，以达到使络合反应和还原反应分别同时进行进而节约时间跟成本的效果。
- 一种金属体表镀银反应装置
- [实用新型]一种稳定性的氧化还原电位水制备装置-CN202021511016.6有效
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张改幸;张周阳
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张改幸
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2020-07-28
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2021-03-19
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C02F1/461
- 本实用新型适用于氧化还原电位水技术领域，提供了一种稳定性的氧化还原电位水制备装置，包括反应釜，所述反应釜由外反应釜和内反应釜内外套在一起而成，外反应釜的顶部安装有外反应釜上盖，内反应釜的顶部安装有内反应釜上盖，内反应釜内设有内反应釜电极，外反应釜与内反应釜之间设有外反应釜电极，内反应釜的侧壁上开设有多个窗口，窗口上安装有离子选择性通透隔膜，外反应釜和内反应釜上还设有管路组件。该稳定性的氧化还原电位水制备装置制取的氧化还原电位水的安全性：经口毒性试验，属实际无毒级；经眼刺激试验，属无刺激性；经家兔阴道黏膜刺激试验，属无刺激性，安全可靠。
- 一种稳定性氧化还原电位制备装置
- [发明专利]一种氨还原反应泄压装置-CN201510673033.7在审
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徐根松
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安徽华尔泰化工股份有限公司
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2015-10-14
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2017-04-26
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B01D53/90
- 本发明公开了一种氨还原反应泄压装置，所属领域为化工设备设计技术领域，包括反应釜、出口、入口、尾透进气阀、尾气透平机、排气筒、旁通阀、尾气再热器，反应釜用于氨还原反应，出口设置在反应釜的顶端，入口设置在反应釜的右侧，尾气再热器位于反应釜的下方，尾气再热器与反应釜的入口连接，从尾气再热器出来的尾气由入口进入反应釜，反应釜的出口与尾气透平机连接，尾气透平机右端与排气筒连接，本发明所公开的氨还原反应泄压装置，催化剂使用周期长，损失少，污染小，遇故障反应迅速，入口设置在反应釜右侧的中间位置，尾气从该位置进入反应釜，尾气发生氨还原反应充分。
- 一种还原反应装置
- [实用新型]一种氨还原反应泄压装置-CN201520804705.9有效
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徐根松
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安徽华尔泰化工股份有限公司
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2015-10-14
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2016-04-27
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B01D53/90
- 本实用新型公开了一种氨还原反应泄压装置，所属领域为化工设备设计技术领域，包括反应釜、出口、入口、尾透进气阀、尾气透平机、排气筒、旁通阀、尾气再热器，反应釜用于氨还原反应，出口设置在反应釜的顶端，入口设置在反应釜的右侧，尾气再热器位于反应釜的下方，尾气再热器与反应釜的入口连接，从尾气再热器出来的尾气由入口进入反应釜，反应釜的出口与尾气透平机连接，尾气透平机右端与排气筒连接，本实用新型所公开的氨还原反应泄压装置，催化剂使用周期长，损失少，污染小，遇故障反应迅速，入口设置在反应釜右侧的中间位置，尾气从该位置进入反应釜，尾气发生氨还原反应充分。
- 一种还原反应装置
- [实用新型]一种可控还原硒装置-CN201620068769.1有效
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李栋;郭学益;田庆华;徐润泽
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中南大学
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2016-01-25
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2016-08-31
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B01J19/18
- 本实用新型公开了一种可控还原硒装置，包括反应釜，反应釜顶部设有反应釜盖，反应釜盖上设有电动机、出气口、进液口、固相还原剂加料口、pH调整加料口以及一端伸入反应釜内下部的液相/气相还原剂加料管，反应釜内设有与电动机相连的搅拌桨，液相/气相还原剂加料管的外端设有电动阀门，反应釜底部连通一外循环返料管，外循环返料管的上端通过反应釜盖上的进料口通入反应釜内，中部设有检测室并通过PID控制器连接电动阀门调节还原剂加入量以控制溶液电位本实用新型具有反应过程全程可控、硒还原速率快、效率高、试剂消耗小等优点。
- 一种可控还原装置
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