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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]等离子轰击温度检测工具及等离子轰击温度检测方法-CN202211114421.8在审
发明人：陈祥成;宋俊男 -专利权人：霸州市云谷电子科技有限公司
申请日： 2022-09-14 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： G01K11/165 文献下载
摘要：本申请涉及一种等离子轰击温度检测工具及等离子轰击温度检测方法，等离子轰击温度检测工具用于检测等离子轰击工件的轰击温度；其中，等离子轰击温度检测工具包括基体以及感温层，感温层设置与基体的一侧，且感温层构造为能够响应于温度变化而发生颜色变化该等离子轰击温度检测工具能够实现等离子清洗过程中的温度管控。
等离子轰击温度检测工具检测方法

[其他]液相电子轰击质谱法及其组合离子源-CN85107273无效
发明人：黄庆文;唐恢同;吴光路;柴文刚;曹绮蓁 -专利权人：中国科学院科学仪器厂
申请日： 1985-10-07 - 公布日： 1987-04-15 - 主分类号： G01N23/22 文献下载
摘要：液相电子轰击质谱法及由它设计的液相电子轰击/快原子轰击组合离子源。本发明涉及仪器零部件领域。其特征是将待分析的样品溶解在底物中，不必加热样品，由能量约70ev电子束直接轰击底物，便可获得类似气相中电子轰击的质谱图。由于分析过程中不必加热离子源和样品，因而减少了本底的严重干扰，使它可方便地与快原子轰击结合起来。在一套装置内用一支进样杆，不必破坏真空，由电开关转换，进行电子轰击或快原子轰击。
电子轰击质谱法及其组合离子源

[实用新型]离子轰击装置及真空镀膜生产线-CN202221100259.X有效
发明人：张健宁;夏健全;吴洽 -专利权人：中山凯旋真空科技股份有限公司
申请日： 2022-05-09 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： H01J37/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种离子轰击装置及真空镀膜生产线，其包括：壳体、轰击板、电连接器和绝缘结构，壳体内部设置有腔体；轰击板安装于所述腔体内，所述轰击板上设置有接线座；电连接器设置于所述壳体，所述腔体内设置有导线，所述接线座与所述电连接器通过所述导线电连接；绝缘结构设置于所述轰击板和所述壳体之间并能够对二者进行绝缘处理。轰击板相比于现有的轰击棒，在其平面一侧不仅拥有更大的有效轰击面积，并且可以直接确定轰击的方向，因此可以有效地提高原子离化的速度，并减少能量的逸散，进而大大提高镀膜的作业效率。
离子轰击装置真空镀膜生产线

[发明专利]一种多相流相分率测定装置双源双能级射线源仓-CN201710682469.1有效
发明人：王镇岗;王君凌;潘艳芝;孙锡军 -专利权人：海默科技（集团）股份有限公司
申请日： 2017-08-10 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： G21G4/06 文献下载
摘要：本发明公开一种多相流相分率测定装置双源双能级射线源仓，包括轰击源仓体，该轰击源仓体内设有直射源仓体，该轰击源仓体上设有连通轰击源仓体的内‑外的射出部，射出部和直射源仓体之间形成反射区；在直射源仓体内设有直射放射源，在直射源仓体上设有连通轰击源仓体和直射源仓体的射出孔；在反射区内还设有轰击放射源和金属靶片，金属靶片朝向所述射出部。采用本发明的显著效果是，将轰击放射源设于轰击源仓体内，直射放射源设于直射源仓体内，再将直射源仓体设于轰击源仓体内，减小了源仓整体体积，轰击放射源和直射放射源的相对位置先预设好，再将轰击源仓体作为多相流相分率测定装置的放射源源仓
一种多相流相分率测定装置双源双能级射线

[实用新型]多相流相分率测定装置双源双能级射线源仓-CN201720999169.1有效
发明人：王镇岗;王君凌;潘艳芝;孙锡军 -专利权人：海默科技（集团）股份有限公司
申请日： 2017-08-10 - 公布日： 2018-04-27 - 主分类号： G21G4/06 文献下载
摘要：本实用新型公开一种多相流相分率测定装置双源双能级射线源仓，包括轰击源仓体，该轰击源仓体内设有直射源仓体，该轰击源仓体上设有连通轰击源仓体的内‑外的射出部，射出部和直射源仓体之间形成反射区；在直射源仓体内设有直射放射源，在直射源仓体上设有连通轰击源仓体和直射源仓体的射出孔；在反射区内还设有轰击放射源和金属靶片，金属靶片朝向所述射出部。采用本实用新型的显著效果是，将轰击放射源设于轰击源仓体内，直射放射源设于直射源仓体内，再将直射源仓体设于轰击源仓体内，减小了源仓整体体积，轰击放射源和直射放射源的相对位置先预设好，再将轰击源仓体作为多相流相分率测定装置的放射源源仓
多相流相分率测定装置双源双能级射线

[发明专利]核素轰击的靶、轰击系统和方法-CN201410457908.5有效
发明人：邱慈云 -专利权人：邱慈云
申请日： 2014-09-11 - 公布日： 2018-04-20 - 主分类号： H05H6/00 文献下载
摘要：本公开涉及核素轰击系统及方法以及用于核素轰击的靶及其形成方法。在一个实施例中，靶可以包括具有吸氢属性的金属元素的单晶薄层，以及处于所述金属元素的单晶薄层中作为填隙核素的氢的第一同位素。
核素轰击系统方法

[发明专利]X射线靶组件-CN201410383988.4有效
发明人：刘艳芳;李贵;徐峰 -专利权人：上海联影医疗科技有限公司
申请日： 2014-08-06 - 公布日： 2017-11-28 - 主分类号： H01J35/02 文献下载
摘要：一种X射线靶组件，包括靶材，所述靶材具有接收高能电子束轰击的第一表面，所述第一表面具有受轰击部位；还包括导热层，所述导热层至少覆盖所述受轰击部位并与所述受轰击部位贴合。导热层使得靶材的受轰击部位与空气隔绝，并使得受轰击部位的热量能够快速散发出去，因此可以在防止靶材受轰击部位的氧化和表面腐蚀的同时，提升高能电子束的入射功率，提高X射线剂量率。
射线组件

[实用新型]X射线靶组件-CN201420439378.7有效
发明人：刘艳芳;李贵;徐峰 -专利权人：上海联影医疗科技有限公司
申请日： 2014-08-06 - 公布日： 2014-12-17 - 主分类号： H01J35/02 文献下载
摘要：一种X射线靶组件，包括靶材，所述靶材具有接收高能电子束轰击的第一表面，所述第一表面具有受轰击部位；还包括导热层，所述导热层至少覆盖所述受轰击部位并与所述受轰击部位贴合。导热层使得靶材的受轰击部位与空气隔绝，并使得受轰击部位的热量能够快速散发出去，因此可以在防止靶材受轰击部位的氧化和表面腐蚀的同时，提升高能电子束的入射功率，提高X射线剂量率。
射线组件

[发明专利]一种电弧离子镀生产方法-CN201410466361.5有效
发明人：钱会燕 -专利权人：湖州鑫隆镀膜科技有限公司
申请日： 2014-09-12 - 公布日： 2015-01-28 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种电弧离子镀生产方法，依次包括以下步骤：工件选取、表面处理、烘干、擦洗、二次烘干、组装、氩气轰击、主弧轰击、镀膜处理、冷却出炉处理、检验入库；本发明的优点：将工件依次通过工件选取、表面处理、烘干、擦洗、二次烘干、组装、氩气轰击、主弧轰击、镀膜处理、冷却出炉处理、检验入库进行的电弧离子镀生产镀膜，工件表面的薄膜具有以下优点，通过氩气轰击及主弧轰击大大提高了薄膜对工件的附着力，轰击的作用使吸附在工件表面或薄膜上的气体分子加速脱附
一种电弧离子镀生产方法

[实用新型]一种水产生物离子轰击诱变机-CN200920137027.X有效
发明人：郭明忠;钟建兴;杨火盛;郑养福;黄培民;林燕;温凭 -专利权人：福建省水产研究所
申请日： 2009-03-05 - 公布日： 2010-01-20 - 主分类号： A01K61/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种水产生物离子轰击诱变机，它包括一轰击箱及一机身。该轰击箱，它设有间隔的二连接端。该机身，它内设有一用以输出直流高压信号的电路单元，该电路单元具有能够输出直流高压信号的输出端，该输出端具有二电极，该二电极分别导电连接轰击箱的二连接端。由于该二电极分别导电连接轰击箱的二连接端，使得该轰击箱之内产生高速离子束，因此轰击诱变机能对水生动物进行过离子束诱变实验，通过低能离子诱变技术方法对水生动物的锦鲤进行诱变实验，能从中选育出新、奇、特的变异锦鲤鱼新品种
一种水产生物离子轰击诱变

[发明专利]一种表面改性Cu基薄膜及其制备方法-CN201710018019.2在审
发明人：梁广兴;范平;郑壮豪;罗景庭 -专利权人：深圳大学
申请日： 2017-01-11 - 公布日： 2017-06-20 - 主分类号： H01L31/032 文献下载
摘要：本发明公开一种表面改性Cu基薄膜的制备方法，其中，包括步骤A、将原Cu基薄膜固定在等离子束轰击系统的轰击工位架上，控制所述轰击工位架匀速转动，待轰击；B、将等离子束轰击系统本底真空度抽至9.0×10‑2 Pa以下，通入Ar气流作为工作气体；本发明采用精确可控的等离子束轰击薄膜，代替传统的强酸冲洗刻蚀工艺，不仅能简化制备过程，而且能制备出绒面等多种表面形状可控的Cu基薄膜，本发明通过对Cu基薄膜表面结构进行改性优化
一种表面改性 cu 薄膜及其制备方法

[发明专利]通过脉冲电子轰击去污容器的盖件或颈部的方法和系统-CN201580030720.5在审
发明人： G·弗约莱 -专利权人：西德尔合作公司
申请日： 2015-05-19 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： A61L2/08 文献下载
摘要：本发明涉及通过电子轰击来去污容器的盖件(2)或颈部的去污方法，所述去污方法包括：使容器的盖件(2)或颈部面对着一个电子轰击窗口(8)前送或定位的前送或定位操作，容器的盖件(2)或颈部的开口朝向该电子轰击窗口(8)；在容器的盖件或颈部在窗口(8)的前面前送或定位时，对容器的盖件(2)或颈部进行电子轰击的电子轰击操作；电子轰击通过一个脉冲电场实施，所述脉冲电场具有一系列电脉冲，这一系列电脉冲具有预定的频率、持续时间和强度
通过脉冲电子轰击去污容器颈部方法系统

[发明专利]电子轰击源及质谱仪-CN201610235191.9在审
发明人：吴曼曼;岑延相;乔佳;刘耀良;张景堂;谭国斌;粘慧青 -专利权人：广州禾信仪器股份有限公司
申请日： 2016-04-14 - 公布日： 2017-10-27 - 主分类号： H01J49/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种电子轰击源及含有该电子轰击源的质谱仪。该电子轰击源包括外壳、电离室、推斥电极、灯丝及离子透镜组。该电离室设在外壳内。电离室具有样品通孔、电子通孔及泄气孔。该电子轰击源及含有该电子轰击源的质谱仪通过在电离室上设置泄气孔，可以及时排出电离室内的载气，降低离子源的压力，提高样品的电离效率，从而有利于提高仪器的灵敏度。
电子轰击质谱仪

[发明专利]钛合金的离子轰击时效兼表面强化方法-CN99126286.7无效
发明人：朱张校;唐光昕 -专利权人：清华大学
申请日： 1999-12-24 - 公布日： 2000-06-28 - 主分类号： C23C8/36 文献下载
摘要：本发明涉及一种钛合金的离子轰击时效兼表面强化方法,首先将钛合金进行固溶处理,再置于离子轰击炉中,对轰击炉抽真空,通入反应气体,反应气体为氨气或氨气+丙酮蒸汽,加轰击电压进行离子轰击时效,并渗入氮或氮碳即为本发明的时效兼表面强化的钛合金
钛合金离子轰击时效表面强化方法

[实用新型]电子轰击源及质谱仪-CN201620317871.0有效
发明人：吴曼曼;岑延相;乔佳;刘耀良;张景堂;谭国斌;粘慧青 -专利权人：广州禾信仪器股份有限公司
申请日： 2016-04-14 - 公布日： 2016-08-31 - 主分类号： H01J49/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种电子轰击源及含有该电子轰击源的质谱仪。该电子轰击源包括外壳、电离室、推斥电极、灯丝及离子透镜组。该电离室设在外壳内。电离室具有样品通孔、电子通孔及泄气孔。该电子轰击源及含有该电子轰击源的质谱仪通过在电离室上设置泄气孔，可以及时排出电离室内的载气，降低离子源的压力，提高样品的电离效率，从而有利于提高仪器的灵敏度。
电子轰击质谱仪

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