专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体器件及形成方法-CN202210839282.9有效
  • 刘翔 - 广州粤芯半导体技术有限公司
  • 2022-07-18 - 2022-11-29 - H01L21/02
  • 本申请公开种半导体器件及其形成方法,包括以下步骤:提供衬底,所述衬底内形成有多个隔离结构,且所述衬底上表面形成有开口以暴露所述隔离结构,相邻两隔离结构之间的衬底表面低于所述隔离结构的上表面,且所述衬底与所述隔离结构的衔接处形成有第功能层,所述第功能层呈楔形,且所述楔形的大边与沟槽相邻,尖嘴背离所述沟槽,并指向所述衬底表面;在所述衬底表面以及所述第功能层表面形成第二功能层,与所述第功能层同形成均一功能层,且所述均一功能层的厚度标准差小于预设值
  • 半导体器件形成方法
  • [发明专利]可连续制备微米级球形金粉的方法-CN202210378429.9有效
  • 罗君;王琰诏;郝红蕊;杨志民;陈峤;赵彦弘;杨剑 - 有研工程技术研究院有限公司
  • 2022-04-02 - 2023-08-15 - B22F1/05
  • 本发明提出种可连续制备粒径较为均一的微米级球形金粉的方法。所述方法采用能有效降低外界环境对金粒形核干扰的“快速旋转形核法”,将含金母液与还原剂同时导入快速旋转形核反应器中,利用高速旋转切割产生的微纳液滴中迅速完成传质反应,形成巨量均一晶核,然后将晶核导入后置反应器中,继续完成球形金粉晶粒的可控生长,直到获得微米级粒径范围的球形金粉颗粒,再将所得微米级球形金粉沉淀洗涤、烘干,可获得粒径较为均一的球形金粉。采用本发明方法可以连续制备纯度高、分散性好、表面光滑、粒径分布较普通液相还原法更均一、平均粒径D50=1~3μm的球形金粉。
  • 连续制备微米球形金粉方法
  • [发明专利]种MFI型分子筛膜的合成方法-CN201210051370.9无效
  • 王正宝;彭勇;赖露露;李建刚;董艳娟;张荣荣;刘锦璐;李再耀;黄宏亮 - 浙江大学
  • 2012-03-01 - 2012-07-18 - C01B39/02
  • 本发明公开了种MFI型分子筛膜的合成方法。它的步骤如下:(1)将载体用有机醇溶液浸润,再将MFI晶种粉末擦涂到其表面上,干燥后得到带有平整均一晶种层的载体;(2)配制合成MFI型分子筛膜用的合成液,室温搅拌4小时后装入高压合成釜内,并将步骤(1)中带有平整均一晶种层的载体插入,在175℃下进行水热合成反应,反应结束后取出用水洗涤,干燥,于500℃下焙烧12小时得到MFI型分子筛膜。本发明制备的晶种层可以消除载体表面可能存在的缺陷,且晶种分布致密均一,合成的MFI型分子筛膜分离性能优良,重复性好,适合规模化生产。
  • 一种mfi分子筛合成方法
  • [实用新型]种坩埚、蒸发源及蒸镀装置-CN202121656569.5有效
  • 张艳龙 - 上海和辉光电股份有限公司
  • 2021-07-20 - 2021-12-21 - C23C14/24
  • 本实用新型实施例公开了种坩埚、蒸发源及蒸镀装置,该坩埚包括:坩埚本体、多个喷嘴和反射板;坩埚本体包括相对设置的第表面和第二表面,喷嘴位于第表面远离第二表面侧,反射板位于第二表面远离第表面侧;沿第方向,间隔最远的两个喷嘴的直线距离,大于或等于反射板在第方向上的长度,反射板用于反射第二表面的热量,第方向平行于多个喷嘴的排列方向。本实用新型实施例能够实现蒸镀材料消耗的均一性和成膜均一性,降低材料裂解的风险。
  • 一种坩埚蒸发装置
  • [发明专利]覆膜形成方法-CN201280066914.7有效
  • 增渕纯 - 新日铁住金株式会社
  • 2012-12-04 - 2014-09-17 - B05D7/24
  • 本发明提供将被管理为管理温度的紫外线固化型涂料涂布在钢材的表面之后、通过对所涂布的涂料照射紫外线使之固化而形成覆膜的方法,将涂料涂布在钢材的表面的过程中,通过使钢材的表面的温度在以管理温度为基准的-5℃~+20℃的范围内来进行涂布,能够在钢材表面形成膜厚均一的覆膜。此情况下,为了使形成于钢材表面的覆膜的膜厚更均一并且通过目视进行观察的过程中观察不到斑纹、是美观良好的,优选使钢材表面的温度在以管理温度为基准的0℃~+10℃的范围内。
  • 形成方法

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