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[发明专利]有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置-CN201210284906.1有效
发明人：吴泰必;王宜凡 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2012-08-10 - 公布日： 2012-11-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置，包括：一掩模板框架、及数张安装在该掩模板框架上的分掩模板；所述分掩模板之间设有间隙，每两个相邻的分掩模板之间的间隙相同，所述掩模板框架呈矩形，其中间设有矩形的容置口，所述分掩模板的张数根据该掩模板框架的容置口的宽度及所述分掩模板的宽度而定，全部分掩模板的宽度加上其之间的间隙宽度的数值大于或等于容置口的宽度。所述有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置通过数张分掩模板拼接于掩模板框架上，实现了有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模的大尺寸化，同时有利于大尺寸有机电致发光二极管的有机材料的蒸镀。
有机电致发光二极管材料蒸镀用掩模装置

[发明专利]有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置-CN201210284911.2有效
发明人：吴泰必;吴元均 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2012-08-10 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置，包括：一掩模框架、安装于该掩模框架相对两边框朝向蒸镀面侧的掩盖板及贴合于该掩盖板上的掩模板，所述掩模框架呈矩形，其中间设有矩形的容置口，通过调整掩盖板的安装位置调整所述容置口的大小，所述掩模板上均匀布满数个开口。本发明有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置的掩模板的质量分布均匀，从而避免磁力吸附掩模板时造成质量不同区块吸附先后顺序不一，导致像素位置偏移的问题；所述掩模装置避免了有机材料附着于基板的非蒸镀区，降低有机电致发光二极管的生产成本，提高其生产效率，还有利于大尺寸有机电致发光二极管的蒸镀技术的发展。
有机电致发光二极管材料蒸镀用掩模装置

[发明专利]蒸镀掩模的拉伸方法、带框架的蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法及拉伸装置-CN201580010163.0有效
发明人：小幡胜也;冈本英介;本间良幸;武田利彦 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2015-03-30 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供能够以简单的方法将蒸镀掩模拉伸的蒸镀掩模的拉伸方法、使用该拉伸方法的带框架的蒸镀掩模的制造方法、以及能够以高精度制造有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法及用于所述方法的拉伸装置。蒸镀掩模(10)将形成有缝隙(15)的金属掩模(10)和在与该缝隙重合的位置形成有与要蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)层积而构成，在该蒸镀掩模(100)的拉伸方法中，在蒸镀掩模(100)的一面上重叠拉伸辅助部件(50)，在蒸镀掩模(100)的一面和拉伸辅助部件(50)重合的部分的至少一部，将拉伸辅助部件固定在蒸镀掩模上，通过拉伸被固定在蒸镀掩模(100)上的拉伸辅助部件(50)对固定于该拉伸辅助部件(50)上的蒸镀掩模进行拉伸，由此解决上述课题。
蒸镀掩模拉伸方法框架制造有机半导体元件装置

[发明专利]蒸镀掩膜板-CN201210010756.5无效
发明人：魏志凌;高小平 -专利权人：昆山允升吉光电科技有限公司
申请日： 2012-01-16 - 公布日： 2013-07-17 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种蒸镀掩膜板，其特征在于，至少包括两层结构，各层开口尺寸逐层增大。本发明提供的一种蒸镀掩膜板，其制作方式为电铸的方式，提高了OLED蒸镀用掩模板的位置精度；提高了OLED蒸镀用掩模板开口尺寸的精度；能够任意控制上下开口的角度，以满足蒸镀要求，生产效率高、成本低具有广阔的市场前景
蒸镀掩膜板

[实用新型]一种蒸镀用模块化金属掩模板-CN202123364178.9有效
发明人：潘旭;张辉;叶加久;汪子涵 -专利权人：中国科学院合肥物质科学研究院
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种蒸镀用模块化金属掩模板，包括框架和多个掩模板本体，所述框架上设置有用于与多个所述掩模板本体相适配的开口，所述开口的内侧壁上设置有第一台阶，多个所述掩模板上分别设置有与所述第一台阶配合的第二台阶本实用新型通过设置框架，并设置多个掩模板本体，框架能够对掩模板本体进行限位固定，保证蒸镀工序的正常进行，并且能够在一次蒸镀的过程中进行多个掩模板本体的蒸镀工序，有效提高了蒸镀的效率。
一种蒸镀用模块化金属模板

[发明专利]蒸镀掩模组、电子器件的制造方法和电子器件-CN202010077646.5有效
发明人：樋口拓也;落合洋光;冈宏树 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2020-01-31 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及蒸镀掩模组、电子器件的制造方法和电子器件。蒸镀掩模组具备：第1蒸镀掩模，其具有沿不同的两个方向排列的两个以上的第1贯通孔；第2蒸镀掩模，其具有沿不同的两个方向排列的两个以上的第2贯通孔；和第3蒸镀掩模，其具有两个以上的第3贯通孔。在将第1蒸镀掩模、第2蒸镀掩模和第3蒸镀掩模重合时，第1贯通孔与第2贯通孔或第3贯通孔部分重叠。
蒸镀掩模组电子器件制造方法

[实用新型]蒸镀掩模组和电子器件-CN202020149948.4有效
发明人：樋口拓也;落合洋光;冈宏树 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2020-01-31 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及蒸镀掩模组和电子器件。蒸镀掩模组具备：第1蒸镀掩模，其具有沿不同的两个方向排列的两个以上的第1贯通孔；第2蒸镀掩模，其具有沿不同的两个方向排列的两个以上的第2贯通孔；和第3蒸镀掩模，其具有两个以上的第3贯通孔。在将第1蒸镀掩模、第2蒸镀掩模和第3蒸镀掩模重合时，第1贯通孔与第2贯通孔或第3贯通孔部分重叠。
蒸镀掩模组电子器件

[实用新型]蒸镀掩模组和电子器件-CN202120591623.6有效
发明人：樋口拓也;落合洋光;冈宏树 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2020-01-31 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及蒸镀掩模组和电子器件。蒸镀掩模组具备：第1蒸镀掩模，其具有沿不同的两个方向排列的两个以上的第1贯通孔；第2蒸镀掩模，其具有沿不同的两个方向排列的两个以上的第2贯通孔；和第3蒸镀掩模，其具有两个以上的第3贯通孔。在将第1蒸镀掩模、第2蒸镀掩模和第3蒸镀掩模重合时，第1贯通孔与第2贯通孔或第3贯通孔部分重叠。
蒸镀掩模组电子器件

[实用新型]蒸镀用狭长沟槽掩模板-CN201220015889.7有效
发明人：魏志凌;高小平;郑庆靓 -专利权人：昆山允升吉光电科技有限公司
申请日： 2012-01-16 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种蒸镀用狭长沟槽掩模板，主要解决现有OLED制造技术中，蒸镀时有机颗粒由于掩模板开口壁的遮蔽而无法达到基板的技术问题，本实用新型通过采用一种蒸镀用狭长沟槽掩模板，形状为四边形金属板，包括与铟锡氧化物（ITO）面接触的ITO面和蒸镀面两个面，所述掩模板上具有贯通铟锡氧化物面（ITO面）和蒸镀面的狭长沟槽，在ITO面上的狭长沟槽开口尺寸小于在蒸镀面上的狭长沟槽状开口尺寸的技术方案，较好地解决了该问题，
蒸镀用狭长沟槽模板

[发明专利]蒸镀掩模的拉伸方法带框架的蒸镀掩模的制造方法有机半导体元件的制造方法及拉伸装置-CN201910982133.6有效
发明人：小幡胜也;冈本英介;本间良幸;武田利彦 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2015-03-30 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供能够以简单的方法将蒸镀掩模拉伸的蒸镀掩模的拉伸方法、使用该拉伸方法的带框架的蒸镀掩模的制造方法、以及能够以高精度制造有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法及用于所述方法的拉伸装置。在蒸镀掩模(100)的拉伸方法中，在蒸镀掩模(100)的一面上重叠拉伸辅助部件(50)，在蒸镀掩模(100)的一面和拉伸辅助部件(50)重合的部分的至少一部，将拉伸辅助部件固定在蒸镀掩模上，通过拉伸被固定在蒸镀掩模(100)上的拉伸辅助部件(50)对固定于该拉伸辅助部件(50)上的蒸镀掩模进行拉伸，由此解决上述课题。
蒸镀掩模拉伸方法框架制造有机半导体元件装置

[发明专利]蒸镀方法和蒸镀装置-CN201080040615.7有效
发明人：园田通;林信广;川户伸一 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2010-09-10 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：使用掩模单元(80)，该掩模单元(80)具备阴影掩模(81)和蒸镀源(85)，且将阴影掩模(81)和蒸镀源(85)的相对位置固定，该阴影掩模(81)具有开口部(82)，且面积小于被成膜基板(200)的蒸镀区域(210)，该蒸镀源(85)具有射出蒸镀颗粒的射出口(86)，该射出口(86)与阴影掩模(81)相对配置，进行阴影掩模(81)和被成膜基板(200)之间的空隙量的调整，将掩模单元(80)和被成膜基板(200)之间的空隙量保持一定，使掩模单元(80)和被成膜基板(200)中的至少一方相对移动，将蒸镀颗粒经由阴影掩模(81)的开口部(82)在蒸镀区域(210)上顺次蒸镀。由此，能够在大型的基板上形成高精细的蒸镀图案。
方法装置

[发明专利]一种蒸镀用掩模板及其制作方法-CN201510116859.3有效
发明人：洪飞;何信儒;陈志国 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2015-03-17 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本公开提供了一种蒸镀用掩模板及其制作方法。蒸镀用掩模板包括：掩模板本体，具有相对的第一表面和第二表面，第二表面靠近蒸镀源；及沿第一方向设置的至少一排蒸镀孔，其贯穿掩模板本体，每一蒸镀孔包括第一开口、第二开口、第一下侧缘及第二下侧缘，第一开口位于掩模板本体的第一表面侧，第二开口位于掩模板本体的第二表面侧，第一下侧缘和第二下侧缘沿第一方向相对设置，且延伸至第二开口，每一蒸镀孔的第二下侧缘相较于第一下侧缘较靠近掩模板本体的中心线，至少一蒸镀孔的第二下侧缘与第一方向的夹角小于第一下侧缘与第一方向的夹角
下侧缘掩模板蒸镀开口第二表面第一表面方向设置方向相对蒸镀源制作贯穿延伸

[发明专利]蒸镀掩模及其前体、以及有机半导体元件的制造方法-CN201910716655.1在审
发明人：武田利彦;川崎博司;小幡胜也 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2015-05-29 - 公布日： 2019-10-08 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供可以在满足高精细化和轻量化二者的同时，还能够正确地对形成于树脂掩模开口部的形状图案是否正常进行确认的蒸镀掩模、用于得到该蒸镀掩模的蒸镀掩模前体、以及具备该蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模，还提供使用了该带框架的蒸镀掩模的有机半导体元件的制造方法蒸镀掩模(100)是将形成有缝隙(15)的金属掩模(10)和在与该缝隙重合的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)叠层而成的，并且使用波长550nm的光线透射率为40％以下的树脂掩模
蒸镀掩模树脂掩模有机半导体元件开口部前体高精细化光线透射金属掩模形状图案轻量化波长重合叠层蒸镀制造图案制作

[发明专利]蒸镀掩模及其前体、以及有机半导体元件的制造方法-CN201910716986.5有效
发明人：武田利彦;川崎博司;小幡胜也 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2015-05-29 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供可以在满足高精细化和轻量化二者的同时，还能够正确地对形成于树脂掩模开口部的形状图案是否正常进行确认的蒸镀掩模、用于得到该蒸镀掩模的蒸镀掩模前体、以及具备该蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模，还提供使用了该带框架的蒸镀掩模的有机半导体元件的制造方法蒸镀掩模(100)是将形成有缝隙(15)的金属掩模(10)和在与该缝隙重合的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)叠层而成的，并且使用波长550nm的光线透射率为40％以下的树脂掩模
蒸镀掩模及其以及有机半导体元件制造方法

[发明专利]蒸镀掩模及其前体、以及有机半导体元件的制造方法-CN201910716987.X有效
发明人：武田利彦;川崎博司;小幡胜也 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2015-05-29 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供可以在满足高精细化和轻量化二者的同时，还能够正确地对形成于树脂掩模开口部的形状图案是否正常进行确认的蒸镀掩模、用于得到该蒸镀掩模的蒸镀掩模前体、以及具备该蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模，还提供使用了该带框架的蒸镀掩模的有机半导体元件的制造方法蒸镀掩模(100)是将形成有缝隙(15)的金属掩模(10)和在与该缝隙重合的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)叠层而成的，并且使用波长550nm的光线透射率为40％以下的树脂掩模
蒸镀掩模及其以及有机半导体元件制造方法