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- [发明专利]剥离层形成用组合物-CN202110782191.1在审
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江原和也;进藤和也
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日产化学工业株式会社
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2016-02-08
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2021-09-17
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C08L79/08
- 本发明涉及剥离层形成用组合物.本发明提供一种层叠体,其为依次层叠基体、剥离层和树脂基板而成的层叠体,所述剥离层与基体的剥离性小于与树脂基板的剥离性,所述剥离层由剥离层形成用组合物形成,所述剥离层形成用组合物包含:使芳香族二胺与芳香族四羧酸二酐反应得到的聚酰胺酸、和有机溶剂,上述芳香族四羧酸二酐包含含有酯键的芳香族四羧酸二酐。其包含:使芳香族二胺与芳香族四羧酸二酐反应得到的聚酰胺酸、和有机溶剂,上述芳香族二胺包含含有醚键的芳香族二胺,和/或上述芳香族四羧酸二酐包含含有醚键的芳香族四羧酸二酐。
- 剥离形成组合
- [发明专利]新型偶氮甲碱低聚物-CN201180007230.5无效
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冈本秀二;目黑晃
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综研化学株式会社
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2011-01-27
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2012-11-14
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C07C251/24
- 本发明的目的在于提供一种新型化合物,所述新型化合物作为半导体材料而确保了充分的载流子迁移率,而且溶解于甲苯等疏水性溶剂;甲醇、乙醇等醇类溶剂;丙二醇单甲醚等二醇类溶剂;或者乳酸甲酯等酯类溶剂等的通用性比较高的有机溶剂本发明涉及一种偶氮甲碱低聚物,其特征在于,在主骨架中具有二价的烃基,所述二价的烃基可以具有,含有氧原子、硫原子或环烯基的基团,在所述烃基的两末端,芳香族基或含芳香族环共轭基通过偶氮甲碱基而结合,所述芳香族基具有偶氮甲碱基且可以具有取代基,所述含芳香族环共轭基为,偶氮甲碱基与可以具有取代基的二价的芳香族基相互结合而共轭的含芳香族环共轭基,该芳香族基以及含芳香族环共轭基与醛基以及氨基间不具有反应性。
- 新型偶氮甲碱低聚物
- [发明专利]芳香族羧酸的制造方法-CN97117183.1无效
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福原浩
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三井石油化学工业株式会社
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1997-07-12
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1998-04-01
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C07C63/26
- 与促进氧向反应溶剂中扩散的同时,改善了反应容器的容积效率,据此,能高效率地制造出高质量的芳香族羧酸。制造方法是使用重金属化合物和溴的化合物作催化剂,在含有低级脂肪族羧酸的反应溶剂中,使用含分子氧的气体对具有烷基取代基或部分氧化的烷基取代基的芳香族化合物进行液相氧化,制得芳香族羧酸。液相中反应溶剂对芳香族化合物的比率为对于1重量份的芳香族化合物,反应溶剂为6.5—70重量份,反应时间为45分—4.5分钟,在相对于1重量份芳香族化合物的反应溶剂的重量比值和以分钟表示的反应时间数值之乘积为270—330的条件下,对芳香族化合物进行液相氧化。
- 芳香族羧酸制造方法
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