|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 1023952个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]金属掩膜-CN202010336310.6在审
-
郦唯诚;李仲仁;赖元章
-
旭晖应用材料股份有限公司;全洋（黄石）材料科技有限公司
-
2020-04-23
-
2021-10-26
-
C23C14/04
- 一种金属掩膜，其是低热膨胀系数的薄形掩膜本体中形成多个镀膜图案成形构造，掩膜本体的预定区域形成狭缝图案构造，狭缝图案构造的多个开口狭缝分别具有蚀刻成形的第一凹穴部与连通第一凹穴部的激光切割成形的狭缝图案成形部，第一凹穴部的斜向侧壁的斜角角度范围为35°～85°，第一凹穴部深度小于或等于掩膜本体厚度的4/5倍，具有垂直周壁的狭缝图案成形部深度大于或等于掩膜本体的厚度的1/5倍，通过先蚀刻、后激光切射的两阶段加工，搭配第一凹穴部与狭缝图案成形部的深度尺寸控制，使其易于控制与制作高分辨率的开口狭缝形状，缩短激光光束在切割狭缝图案成形部的加工时间，有效克服激光切割的高温而变形，提高金属掩膜的产品良率。
- 金属
- [发明专利]光刻抬离成形法-CN200610029808.8无效
-
刘红君;肖田;陈涛;张弈
-
上海广电电子股份有限公司
-
2006-08-08
-
2008-02-13
-
G03F7/00
- 本发明公开一种光刻抬离成形法，涉及薄膜成形的技术领域；此方法为湿刻，通过光刻胶成形后在其上蒸镀金属或其它薄膜，然后使光刻胶脱膜以达到抬离光刻胶上的薄膜，使其成形的方法；具体制作步骤为：1)基片准备；2)涂布光刻胶，光刻胶溶剂为纯有机溶液的负感光型光刻胶，光刻胶的厚度在1到7微米；3)前烘；4)曝光；5)坚膜；6)显影，显影液为纯有机溶液；7)漂洗，漂洗液为纯有机溶液；8)吹干；9)表面清洁处理；10)镀膜；11)抬离，对膜抬离成形，有光刻胶的部分，膜随着光刻胶一起脱离，其他部分的膜则保留下来，形成所需要的图形。本发明为一种成本低廉，工艺简单且对高精度线条或图形的成形行之有效的成形法。
- 光刻成形
|
