专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种车辆缺陷的推荐方法及装置-CN202110981350.0有效
  • 胡大林;胡艳玲;唐珊珊;杨强 - 北京赛目科技股份有限公司
  • 2021-08-25 - 2023-08-22 - G06F11/22
  • 本申请提供了一种车辆缺陷的推荐方法及装置,通过车辆的硬件信息和软件信息分别输入缺陷推荐模型,以输出硬件缺陷信息和软件缺陷信息;将车辆信息输入缺陷推荐模型,以输出车辆缺陷信息;将硬件缺陷信息、软件缺陷信息和车辆缺陷信息展示在用户界面中,以获取用户在用户界面中确认的缺陷信息;将用户确认的缺陷信息缺陷信息对应的车辆信息反馈给缺陷推荐模型,并更新缺陷推荐模型的决策网络,基于车辆信息自动决策推荐出车辆各部件在不同场景下可能产生的安全缺陷
  • 一种车辆缺陷推荐方法装置
  • [发明专利]光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法-CN201610875826.1在审
  • 金种佑;朴真用;李太圭 - 东友精细化工有限公司
  • 2016-09-30 - 2017-09-12 - G06Q10/06
  • 本发明涉及光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法。所述装置包括缺陷信息收集部,其收集从一次工序的缺陷管理机及二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息缺陷信息匹配部,其使一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息匹配;缺陷检测判断部,其基于匹配的结果,以二次工序的缺陷信息为基准,将一次工序的缺陷信息进行比较来判断有无相同缺陷的检测;缺陷信息修正部,其在检测到相同缺陷的情况下,算出一次工序及二次工序中的该缺陷信息的位置之差,并基于算出的位置之差来修正一次工序的缺陷信息;及缺陷信息汇总部,其对修正后的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行汇总。
  • 光学薄膜缺陷信息综合管理装置及其方法
  • [发明专利]信息记录介质、缺陷管理方法及装置-CN200610079420.9无效
  • 秋山实 - 日本电气株式会社
  • 2006-01-23 - 2006-11-15 - G11B20/18
  • 本发明提供一种信息记录介质。以具有用于管理数据区域缺陷信息区域的信息记录介质为对象。上述信息区域由能多组记录在上述数据区域发生的缺陷的管理信息缺陷信息区域和能多组记录用于从上述缺陷信息区域选择1组上述缺陷管理信息的选择信息的选择信息区域构成。上述选择信息是表示记录该选择信息时记录了最新缺陷管理信息的位置的信息,上述选择信息包含表示更新了上述选择信息的履历信息。从而,在具有能多组记录缺陷管理信息缺陷信息区域、和能多组记录用于从缺陷信息区域选择1组缺陷管理信息的选择信息的选择信息区域的信息记录介质中,在短时间可靠地特定应使用的缺陷管理信息
  • 信息记录介质缺陷管理方法装置
  • [发明专利]一种晶圆缺陷分析方法、系统、设备和介质-CN202010514472.4有效
  • 蔡孟勳 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-06-08 - 2023-09-15 - G06T7/00
  • 本发明公开了一种晶圆缺陷分析方法、系统、设备和介质。该晶圆缺陷分析方法包括获取半导体制程工艺中每片晶圆的批次信息以及缺陷信息缺陷信息包括热点缺陷信息;设定热点缺陷特征,从热点缺陷信息中筛选出与热点缺陷特征相关联的目标热点缺陷信息;根据批次信息,追踪与热点缺陷特征相关联的目标热点缺陷信息所对应的第一片晶圆,确定缺陷源。在本发明实施例中,通过在半导体制程工艺中获取晶圆的批次信息以及热点缺陷信息,并根据热点缺陷特征筛选出目标热点缺陷信息,最后追踪目标热点缺陷信息所对应的第一片晶圆,确定缺陷源,提高了晶圆缺陷溯源的准确性。
  • 一种缺陷分析方法系统设备介质
  • [发明专利]缺陷源识别器-CN01802992.2无效
  • 阿莫斯·多尔;马亚·拉德辛斯基 - 应用材料有限公司
  • 2001-10-02 - 2003-02-19 - G01N21/95
  • 分析半导体晶片上缺陷的方法及相关装置。该方法包括识别半导体晶片上的缺陷。在缺陷源识别器客户机内建立缺陷检测信息。通过网络将缺陷检测信息传送到缺陷源识别器服务器。响应缺陷检测信息,在缺陷源识别器服务器处导出缺陷信息。该缺陷信息缺陷源识别器服务器传送到缺陷源识别器客户机。在缺陷源识别器客户机处利用缺陷信息。在一个方面,对缺陷解决方案信息的利用涉及响应该缺陷解决方案信息,在缺陷源识别器客户机处显示对该缺陷缺陷解决方案。在另一个方面,对缺陷解决方案信息的利用涉及改变晶片处理系统的操作。
  • 缺陷识别
  • [发明专利]物品的预览检验方法及其设备-CN01140762.X有效
  • 川守田阳一;福田良三;德田一也;村中谦治;五十岚松真 - 佳能株式会社
  • 2001-07-27 - 2002-03-13 - G01N21/88
  • 本发明提供了一种用于在目测前对检验品预览检验的方法,该方法包括缺陷信号检测步骤用于在所述检验品的缺陷状态的基础上检测缺陷信号,详细缺陷信息产生步骤用于在由所述缺陷信号检测步骤检测到的缺陷信号的基础上产生详细缺陷信息,以及详细缺陷信息显现步骤用于在所述检验品上显现由所述详细缺陷信息产生步骤产生的详细缺陷信息,以及一种用于在目测前对检验品预览检验的设备,该设备包括缺陷信号检测装置用于在所述检验品的缺陷状态的基础上检测缺陷信号,详细缺陷信息产生装置用于在由所述缺陷信号检测装置检测到的缺陷信号的基础上产生详细缺陷信息,以及详细缺陷信息显现装置用于在所述检验品上显现由所述详细缺陷信息产生装置产生的详细缺陷信息
  • 物品预览检验方法及其设备
  • [发明专利]缺陷检修方法、装置和设备-CN202111146442.3在审
  • 刘亚东;李勇;张泽明 - 景旺电子科技(珠海)有限公司
  • 2021-09-28 - 2022-01-14 - G06T7/00
  • 本申请公开了一种缺陷检修方法、装置和设备,属于电路板检修技术领域。所述方法包括:第一设备获取电路板的扫描图像;根据扫描图像,获取电路板的多个缺陷信息;设置多个缺陷信息中每个缺陷信息的检修权限,每个缺陷信息的检修权限未解除时不允许进入下一缺陷信息缺陷检修流程,每个缺陷信息的检修权限在所指示的缺陷完成检修后能够被解除,每个缺陷信息的检修权限解除时允许进入下一缺陷信息缺陷检修流程;将多个缺陷信息发送给服务器,以指示第二设备根据多个缺陷信息对电路板进行缺陷检修。本申请通过为电路板的多个缺陷信息设置检修权限可以保证电路板的所有缺陷都能得到检修,从而避免了缺陷检修漏失,从而保证了电路板的质量。
  • 缺陷检修方法装置设备
  • [发明专利]缺陷源检测方法-CN202310465632.4在审
  • 张景春 - 上海华力微电子有限公司
  • 2023-04-26 - 2023-07-21 - G06T7/00
  • 本发明提供了一种缺陷源检测方法,包括:提供缺陷芯片,获得缺陷芯片的缺陷信息;建立缺陷源检测模型;将缺陷信息缺陷芯片的版图及缺陷芯片的制备进程信息输入至缺陷源检测模型中,缺陷源检测模型仿真处理后输出缺陷芯片的缺陷源本发明通过建立缺陷源检测模型,缺陷源检测模型结合缺陷信息缺陷芯片的版图及缺陷芯片的制备进程信息进行仿真处理,利于线上快速检测获得缺陷芯片的缺陷源。
  • 缺陷检测方法
  • [发明专利]用于输出信息的方法和装置-CN201710972693.4有效
  • 王飞;张克鹏;周秀霞;何军 - 百度在线网络技术(北京)有限公司
  • 2017-10-18 - 2021-04-30 - G06F11/36
  • 本申请实施例公开了用于输出信息的方法和装置。该方法的一具体实施方式包括:通过对目标代码进行静态代码扫描,生成目标代码的抽象语法树和静态扫描结果;对于静态扫描结果中的每个代码缺陷信息,执行特征值生成操作:根据该代码缺陷信息和抽象语法树中标记位置信息与该代码缺陷信息的代码缺陷位置信息匹配的至少一个标记节点,生成与该代码缺陷信息对应的代码缺陷特征值;以及响应于与该代码缺陷信息对应的代码缺陷特征值不属于历史代码缺陷特征值集合,将该代码缺陷信息标记为新增代码缺陷信息;将至少一个代码缺陷信息中标记为新增代码缺陷信息的数目确定为新增代码缺陷数目;输出结果统计信息。该实施方式提高了信息输出内容的丰富性。
  • 用于输出信息方法装置

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