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[发明专利]紫外线照射装置-CN201480044546.5有效
发明人：小林伸次;阿部法光;出健志;城田昭彦;竹内贤治 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-03-12 - 公布日： 2017-08-15 - 主分类号： C02F1/32 文献下载
摘要：实施方式的紫外线照射装置具备处理槽、紫外线照射部件、紫外线传感器、以及空气排出部。处理槽包括用于供给处理对象的处理水的供水口和用于排出处理水的排水口。紫外线照射部件设于处理槽的内部，对经过处理槽的内部的处理水照射紫外线。紫外线传感器设于处理槽的内部，并且测量来自紫外线照射部件的紫外线照射量。空气排出部与空气排出孔连接，该空气排出孔设于比通过紫外线传感器的水平面高的位置，上述空气排出部被设为用于使处理水经过处理槽的内部时积存于处理槽的内部的空气经由空气排出孔向处理槽的外部逸出。
紫外线照射装置

[发明专利]紫外线照射装置-CN201480044549.9有效
发明人：小林伸次;阿部法光;出健志;城田昭彦;竹内贤治 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-03-12 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： C02F1/32 文献下载
摘要：实施方式的紫外线照射装具备置处理槽、紫外线照射部件、紫外线传感器、以及淤泥排出部。处理槽包括用于供给处理对象的处理水的供水口和用于排出处理水的排水口。紫外线照射部件设于处理槽的内部，对经过处理槽的内部的处理水照射紫外线。紫外线传感器设于处理槽的内部，并且测量来自紫外线照射部件的紫外线照射量。淤泥排出部与排出孔连接，该排出孔设于比通过紫外线传感器的水平面低位置，上述淤泥排出部被设为用于使处理水经过处理槽的内部时积存于处理槽的内部的淤泥经由排出孔向处理槽的外部排出。
紫外线照射装置

[发明专利]紫外线照射装置-CN201480044686.2有效
发明人：小林伸次;阿部法光;出健志;城田昭彦;竹内贤治 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2014-03-13 - 公布日： 2017-08-04 - 主分类号： G01J1/10 文献下载
摘要：实施方式的紫外线照射装置具备照射部、计测部、检测部、计算部、显示部。照射部向成为处理对象的处理水照射处理用的紫外线。计测部计测透射处理水后的紫外线的紫外线强度。检测部根据通过计测部计测到的紫外线强度来检测照射部发生了劣化的情况。计算部根据与预先设定的设定值相应地从照射部照射的紫外线的紫外线强度与通过计测部计测出的紫外线强度，计算处理水的紫外线透射率。显示部显示基于检测部的照射部的劣化的检测结果以及通过计算部计算出的紫外线透射率。
紫外线照射装置

[发明专利]水处理装置-CN200410043127.8无效
发明人：上村美贵;古川诚司;上山智嗣;广辻淳二 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2004-05-13 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： C02F9/08 文献下载
摘要：一种水处理装置，可以将氧化剂高速而且高效率地溶解在被处理水中，以高分解率处理处理对象物质。该水处理装置包括紫外线照射部30和氧化剂混合部60，其中紫外线照射部30形成长管状，容纳沿轴线延伸的紫外线照射装置10，使内周面1a和紫外线照射装置10的空间流通被处理水4；氧化剂混合部60与紫外线照射部30的上游邻接设置，使被处理水4与氧化剂混合；紫外线照射装置10向混合有氧化剂的被处理水4照射紫外线，使被处理水4中的处理对象物质分解。
水处理装置

[发明专利]半导体结构的形成方法-CN201410376692.X有效
发明人：邓浩 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2014-08-01 - 公布日： 2018-10-16 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：一种半导体结构的形成方法，包括：提供基底；在所述基底表面形成初始介质层，所述初始介质层内具有致孔剂；对所述初始介质层进行第一紫外照射处理，所述第一紫外照射处理具有第一处理温度；在所述第一紫外照射处理后，对所述初始介质层进行第二紫外照射处理，形成低k介质层，所述第二紫外照射处理具有第二处理温度，且所述第二处理温度大于第一处理温度。本发明在快速去除致孔剂(即，处理温度较高的第二紫外照射处理过程)之前，对初始介质层进行第一紫外照射处理，使初始介质层进行一定交联反应，使初始介质层的机械强度得到提升，有效避免在第二紫外照射处理过程中发生初始介质层坍塌问题
半导体结构形成方法

[发明专利]基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法-CN201711406516.6有效
发明人：井上正史;田中孝佳;岩田智巳;谷口宽树;新庄淳一;高桥弘明;樋口鲇美;大迹明;中野佑太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-12-22 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种使用紫外线进行多个处理也能抑制尺寸增加的基板处理装置。基板处理装置具有紫外线照射装置(2)和基板保持装置(31、32)。紫外线照射装置2位于处理室(11、12)的边界，并且能够向处理室(11、12)照射紫外线。基板保持装置31配置于处理室(11)，将基板保持成与紫外线照射装置(2)对置。基板保持装置(32)配置于处理室(12)，将基板保持成与紫外线照射装置(2)对置。
处理装置系统以及方法

[发明专利]紫外线水处理设备及其紫外线照射量控制装置-CN200910006467.6无效
发明人：山野井一郎;圆佛伊智朗;阴山晃治;原直树;渡边昭二 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2009-02-18 - 公布日： 2009-08-26 - 主分类号： C02F1/32 文献下载
摘要：提供一种紫外线水处理设备及其紫外线照射量控制装置，能将照射可视光线后的供水端或者排水端的处理水中的微生物数处于目标数以下。包括：具备在内部的紫外线源和测量紫外线透射率的紫外线透射率测量装置的紫外线照射槽；设置在该紫外线照射槽上游侧，对被处理水的流量进行测量的流量计；设置在紫外线照射槽下游侧，排放处理水的排放端；测量该排放端的可视光线照射量的可视光线照射量测量装置；和输入紫外线透射率的测量装置的测量值、流量计的测量值和可视光线照射量测量装置的测量值，基于可视光线照射量测量装置的测量值即可视光线照射量、由流量计测量的被处理水的流量和上述紫外线透射率，输出紫外线源的输出控制信号的控制部
紫外线水处理设备及其照射控制装置

[发明专利]紫外线氧化和超纯水制造的装置及方法-CN201180010590.0无效
发明人：大谷慎一郎;山冈裕幸;原田义胜;藤井辉昭;须原贞义;陶山宏一郎 -专利权人：宇部兴产株式会社
申请日： 2011-02-07 - 公布日： 2012-11-21 - 主分类号： C02F1/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种紫外线氧化装置及使用其的超纯水制造装置、及紫外线氧化方法及超纯水制造方法。该紫外线氧化装置具有：流动槽10，使被处理水单向流动；光催化剂纤维12，以被处理水可通过方式配置于流动槽10内；紫外线照射部14，可照射紫外线；以及紫外线照射部收容部16，设置于与流动槽10内的被处理水的流动方向交叉的面的整个区域，收容紫外线照射部14；该紫外线照射部收容部16形成为：使被处理水从上游侧朝所收容的紫外线照射部14流入该收容部内，使其于该收容部16内流动后，往下游侧流出，且该紫外线照射部收容部由可使来自紫外线照射部14的紫外线照射于该光催化剂纤维的材料所构成。
紫外线氧化超纯水制造装置方法

[发明专利]紫外线照射系统-CN201210070972.9有效
发明人：阿部法光;小林伸次;出健志;吉泽直人;城田昭彦;相马孝浩 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2012-03-16 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： C02F1/32 文献下载
摘要：一种紫外线照射系统，包括：紫外线照射装置，具有多个紫外线灯，向所流入的处理水照射紫外线，排出照射了紫外线的处理水；流量计，测量通过紫外线照射装置的处理水的流量；以及紫外线照射量监视控制装置，进行紫外线照射装置的紫外线照射量的监视和紫外线灯的输出控制多个紫外线灯包括第1紫外线灯和多个第2紫外线灯。紫外线照射装置包括：第1测量头，测量从第1紫外线灯发出的紫外线的强度；和多个第2测量头，分别测量从多个紫外线灯发出的紫外线的强度。并且，第1紫外线灯与第1测量头之间的距离被设定为，由第1测量头测量的紫外线强度与第1紫外线灯的输出控制值为100％时由第1测量头测量的紫外线强度之比和换算等效紫外线照射量的关系成为一个一次函数直线。
紫外线照射系统

[发明专利]紫外线照射装置-CN201210270200.X有效
发明人：小林伸次;阿部法光;城田昭彦;竹内贤冶;相马孝浩 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2012-07-31 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： C02F1/32 文献下载
摘要：本发明提供能够防止收纳紫外线灯的保护管破损的紫外线照射装置。实施方式的紫外线照射装置具备：处理槽、紫外线照射构件、支撑构件。处理槽具有：给水口，供给作为处理对象的处理水；和排水口，将处理水排出，处理水沿从给水口朝向排水口的第一方向经过。紫外线照射构件在处理槽的内部设置于与第一方向交叉的第二方向，对朝向第一方向经过的处理水照射紫外线。支撑构件设置在沿着紫外线照射构件所设置的第二方向的方向上，两端部固定于处理槽的壁面，抑制该处理槽的变形。
紫外线照射装置

[发明专利]食品处理装置-CN202210147925.3在审
发明人：藤冈纯;田内亮彦;樱井公人 -专利权人：东芝照明技术株式会社
申请日： 2022-02-17 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： A23L3/28 文献下载
摘要：本发明提供一种即使在收纳部的紫外线的透过率发生变化的情况下也可进行适当的处理的食品处理装置。实施方式的食品处理装置是向收纳于能够透过紫外线的收纳部内部的食品照射所述紫外线的食品处理装置。食品处理装置包括：照射部，具有照射所述紫外线的光源，且向收纳于所述收纳部内部的食品照射所述紫外线；移动部，使所述照射部与收纳于所述收纳部内部的食品的相对位置移动；以及控制器，控制所述照射部及所述移动部。所述控制器根据所述收纳部的紫外线的透过率，控制从所述照射部照射的紫外线的照射量以及基于所述移动部的相对移动速度中的至少任一者，使所述食品表面的紫外线的照射量成为规定的值。
食品处理装置

[发明专利]紫外线水处理装置-CN201110272017.9有效
发明人：出健志;阿部法光;村山清一;小林伸次;竹内贤治;相马孝浩 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2011-09-14 - 公布日： 2012-04-04 - 主分类号： C02F1/32 文献下载
摘要：本发明提供紫外线水处理装置。具备紫外线照射单元、将被处理水导入到紫外线照射单元的水入口管和使照射了紫外线的被处理水从紫外线照射单元流出的水出口管。紫外线照射单元具备具有相互对置设置的第1及第2开口的周围壁的中空护罩。在护罩内设有紫外线照射设备，分别具备紫外线灯和保护套筒且相互平行地设置1个或1个以上，对通过中空护罩而流动的被处理水照射紫外线。水入口管与第1开口直接流体连通，使被处理水流入中空护罩。水出口管与第2开口直接流体连通，使照射了紫外线的被处理水从中空护罩流出。入口管及出口管的中心轴分别与中空护罩的中心轴交叉。
紫外线水处理装置

[发明专利]紫外线水处理装置-CN200810183751.6有效
发明人：山野井一郎;圆佛伊智朗;阴山晃治;原直树 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2008-12-15 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： C02F1/32 文献下载
摘要：本发明提供一种可以得到多个不同水质等级的紫外线水处理装置。为达到上述目的，本发明的紫外线水处理装置具有：具有流入流路(5)和流出流路(7)且从流入流路(5)流入的被处理水流通的紫外线照射槽(1)，向被处理水照射紫外线的紫外线源(2)，防止被处理水与紫外线源(2)直接接触且透过紫外线的保护件(3)，设置在流入流路(5)和流出流路(7)之间、从紫外线照射槽(1)抽出处理水的一个以上的分支流路，所述紫外线水处理装置向分支流路和流出流路(7)之间的紫外线照射槽内的被处理水进行不同时间的紫外线照射
紫外线水处理装置

[发明专利]液晶面板的制造装置-CN201610819614.1有效
发明人：藤冈纯;日野弘喜;加藤刚雄;田内亮彦 -专利权人：东芝照明技术株式会社
申请日： 2016-09-13 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明提供一种既可抑制装置结构的复杂化及零件数量的增大，又可抑制紫外线照射效率的恶化的液晶面板的制造装置。实施方式的液晶面板的制造装置(1)是为了呈现聚合物稳定蓝相而对被处理面板照射紫外线的液晶面板的制造装置，其包括：第1照射部，以第1时间来对被处理面板照射紫外线；以及第2照射部，于在第1照射部中对被处理面板照射紫外线的过程中，以比第1时间长的第2时间，来对经第1照射部照射了紫外线的被处理面板照射紫外线。
液晶面板制造装置

[实用新型]皮肤性病紫外线治疗笔-CN201721095387.9有效
发明人：王支琼;林岚;关真 -专利权人：云南省第一人民医院
申请日： 2017-08-30 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： A61N5/06 文献下载
摘要：皮肤性病紫外线治疗笔，包括壳体，壳体的一端固定有可加热式聚光照射头，可加热式聚光照射头的内壁中埋设有金属加热丝，壳体的内腔中固定有长波紫外线照射灯、中波紫外线照射灯和短波紫外线照射灯，壳体内腔中固定有微处理控制器，微处理控制器引出三条控制导线并通过控制导线分别与长波紫外线照射灯、中波紫外线照射灯和短波紫外线照射灯连接，壳体上开有三条镂空的紫外线照射带，每条紫外线照射带上设有覆盖板，壳体上设有液晶显示屏、加热控制开关按钮和加热控制调节旋钮该治疗笔能根据患者的病情选择不同波长的紫外线进行照射，且能根据患者患病皮肤区域大小选择点式紫外线照射或者面式紫外线照射。
壳体紫外线照射长波紫外线照射中波紫外线照射微处理控制器短波紫外线紫外线治疗聚光照射可加热式控制导线皮肤性病照射灯加热控制开关金属加热丝液晶显示屏大小选择患病皮肤加热控制壳体内腔镂空覆盖板内腔中波长紫外线按钮点式内壁旋钮照射治疗

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