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[发明专利]基于激光多普勒测量粒子的非理想粒子分类识别方法-CN200410072335.0无效
发明人：曾周末;张慧;杜夏;吕宏波;靳世久 -专利权人：天津大学
申请日： 2004-10-19 - 公布日： 2005-03-02 - 主分类号： G01N15/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于激光多普勒测量粒子的非理想粒子分类识别方法，属于粒子测量技术。该方法利用激光相位多普勒粒子测量装置，获取运动粒子特性参数的动态信息，分类识别包括以下过程：利用测量数据确定粒子的统计特性，建立被测对象参数的结构模式，用模糊模式识别获取对象的参数，综合多个特性模式实现非理想粒子的分类识别本发明的优点在于利用粒子测量所获得数据的分析可以得到粒子参数的分散性信息，可针对粒子的多个特征进行分类识别，得到更符合测量对象实际特点的结果，避免了实际粒子的非理想特性对测量的影响。本方法可以应用于各种粒子测量数据的分析过程。
基于激光多普勒测量粒子理想分类识别方法

[发明专利]一种磁性纳米粒子测量位置的优化设计方法-CN201811512239.1有效
发明人：王莉;周潼;牛群峰;侯志伟;惠延波 -专利权人：河南工业大学
申请日： 2018-12-11 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： G01R33/12 文献下载
摘要：本发明涉及磁性纳米粒子测量研究领域，特别是一种磁性纳米粒子测量位置的优化设计方法。确定磁性纳米粒子装置对应的极限测量个数和测量距离；构造样本集并训练和输出，对于每个分组的样本集，以一组测量位置的磁感应强度Bx分量为输入，磁性纳米粒子个数为输出进行训练；磁性纳米粒子个数测量准确率越高，响应磁场强度越大时，该分组的评价值越高，从而构造评价函数并评价，得到最优分组及对应的最优测量位置。对含有不同粒子个数的磁性纳米粒子装置进行均匀磁场仿真实验，探究不同位置的响应磁场强度与磁性纳米粒子个数的关系，从而获得磁性纳米粒子的最优测量位置，用于磁性纳米粒子个数的测量，进而提高了磁性纳米粒子个数测量的精度
一种磁性纳米粒子测量位置优化设计方法

[发明专利]一种基于超导磁体的粒子速度电磁测量装置-CN202210095401.4有效
发明人：李进;卢强;张冠军;吴祖堂;张德志;丁洋;孙迪峰 -专利权人：西北核技术研究所
申请日： 2022-01-26 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： G01P5/08 文献下载
摘要：本发明提供一种基于超导磁体的粒子速度电磁测量装置，主要解决现有粒子速度电磁测量装置存在难以准确完成大尺寸测试材料的测量以及难以完成微弱粒子速度的测量等问题。该粒子速度电磁测量装置包括超导磁体、传感器模块、控制模块、传输线缆和采集模块；超导磁体包括超导线圈、超导电源和冷却组件；上述超导磁体具备无磁损耗和无电损耗的特点，所产生磁场的磁感应强度大、稳定度高，为粒子速度测量提供了高强稳定磁场，从而使粒子速度电磁测量装置的测量能力较强，可以获取低至0.001m/s的微弱粒子速度信号。同时，超导磁体室温孔直径不小于2.1m，从而使粒子速度电磁测量装置能够完成直径达2m的大型试样的粒子速度测量。
一种基于超导磁体粒子速度电磁测量装置

[发明专利]一种放射性粒子的辐射剂量测量装置及其测量方法-CN201610259928.0有效
发明人：张宏涛 -专利权人：张宏涛
申请日： 2016-04-25 - 公布日： 2019-03-29 - 主分类号： G01T1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种放射性粒子的辐射剂量测量装置，测量装置包括组织等效板以及均纵向贯穿组织等效板的粒子通孔和剂量计通孔。本发明提供的放射性粒子的辐射剂量测量装置在组织等效板上设置放置放射性粒子及剂量计的孔洞，该孔洞能够将放射性粒子与剂量计的位置进行固定，从而便于放射性粒子的辐射剂量测量。本发明提供的辐射剂量测量装置通过使用组织等效材料制备的测量装置进行辐射剂量测量，能够最真实、最接近的反应放射性粒子在人体内的辐射值。本发明提供的放射性粒子的辐射剂量测量装置能够根据粒子通孔之间、剂量计通孔之间以及粒子通孔和剂量计通孔之间的距离设置不同规格的测量装置，进而测量单颗或多颗放射性粒子的辐射剂量。
一种放射性粒子辐射剂量测量装置及其测量方法

[实用新型]一种放射性粒子的辐射剂量测量装置-CN201620351765.4有效
发明人：张宏涛 -专利权人：张宏涛
申请日： 2016-04-25 - 公布日： 2016-09-07 - 主分类号： G01T1/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种放射性粒子的辐射剂量测量装置，测量装置包括组织等效板以及均纵向贯穿组织等效板的粒子通孔和剂量计通孔。本实用新型提供的放射性粒子的辐射剂量测量装置在组织等效板上设置放置放射性粒子及剂量计的孔洞，该孔洞能够将放射性粒子与剂量计的位置进行固定，从而便于放射性粒子的辐射剂量测量。本实用新型提供的辐射剂量测量装置通过使用组织等效材料制备的测量装置进行辐射剂量测量，能够最接近的反应放射性粒子在人体内的辐射值。本实用新型提供的放射性粒子的辐射剂量测量装置能够根据粒子通孔之间、剂量计通孔之间以及粒子通孔和剂量计通孔之间的距离设置不同规格的测量装置，进而测量单颗或多颗放射性粒子的辐射剂量。
一种放射性粒子辐射剂量测量装置

[发明专利]一种粒子计数器计量方法、装置、设备及存储介质-CN202210109161.9在审
发明人：王少永;惠旅锋 -专利权人：苏州苏信环境科技有限公司
申请日： 2022-01-28 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G01N15/10 文献下载
摘要：本申请公开了一种粒子计数器计量方法、装置、设备及存储介质，包括：通过光电传感器中的光电探测器获取预设采集周期内经过光电传感器测量腔的待测气体中粒子的粒子散射光信号，并将粒子散射光信号转换为粒子散射光电流；经过放大滤波处理将粒子散射光电流转换为电压脉冲信号，并通过粒子计数器的计数通道对电压脉冲信号进行计数，得到实际通道粒子测量数据；将所有相同计数通道上的实际通道粒子测量数据与本地预存的系统通道噪声数据值的差值之和作为真实粒子测量数据本申请通过将粒子计数器检测到的实际粒子测量数据和预先保存的系统噪声数据值的差值作为真实粒子测量数据，能够有效降低粒子计数器的系统噪声，提升粒子计数器计数的准确度。
一种粒子计数器计量方法装置设备存储介质

[发明专利]粒子分析装置-CN201611062425.0在审
发明人：长谷川祥树;武田直希;小泉和裕;浅野贵正 -专利权人：富士电机株式会社
申请日： 2016-11-28 - 公布日： 2017-08-04 - 主分类号： G01N15/06 文献下载
摘要：本发明提供一种搭载粒子测量部和成分分析部的粒子分析装置，可在防止检测灵敏度降低的同时，扩大测量范围。该粒子分析装置包括粒子测量部，其基于试样气体中粒子所散射的激光，测量所述试样气体中的粒子的数量或者浓度；成分分析部，其测量试样气体中不同成分的粒子的含量；流路，其一端和试样气体源连接，在另一端侧的分支点，分为第1流路和第2流路，第1流路将试样气体导入粒子测量部，第2流路将试样气体导入成分分析部；第1调整部，其设置在所述第1流路，利用稀释气体稀释试样气体，通过将稀释后的试样气体导入粒子测量部，来调整粒子测量部的测量范围
粒子分析装置

[发明专利]速度、速度场测量方法、系统、设备、装置及存储介质-CN202110988068.5有效
发明人：王少飞;潘翀;王晋军 -专利权人：北京航空航天大学宁波创新研究院
申请日： 2021-08-26 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： G06T7/246 文献下载
摘要：本发明公开了一种速度、速度场测量方法、系统、设备、装置及存储介质。速度测量方法包括：将单粒子图像输入经训练的神经网络模型，得到预测结果图像；单粒子图像与预测结果图像均仅包含一个粒子；预测结果图像中粒子的像素位置为单粒子图像中粒子的预测位置；单粒子图像中的粒子用于表征二维流场测量区域中的一个粒子；经训练的神经网络模型为：以粒子图像对中的前一帧粒子图像为输入，以后一帧粒子图像为输出的真值，训练得到的神经网络模型；粒子图像对由跨帧相机对二维流场测量区域中的示踪粒子进行拍摄得到；根据单粒子图像和预测结果图像中粒子的像素位置，确定单粒子图像中粒子的像素位置的预测速度。本发明实现了像素级的速度测量。
速度测量方法系统设备装置存储介质

[发明专利]辐照设备和控制其的控制方法-CN201280015330.7有效
发明人： C·贝尔特;E·里策尔 -专利权人： GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司
申请日： 2012-04-20 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种辐照设备，包括具有粒子加速器的加速器装置，借助粒子加速器可加速粒子并且可产生粒子束，该粒子束具有射束强度；用于测量所提取的粒子束射束质量的射束监控装置，该射束监控装置具有多个可设置的测量范围；用于控制加速器装置和射束监控装置的控制装置，其中，射束监控装置的测量范围可根据粒子束的射束强度和/或待施加的粒子数被设置。在用于控制辐照设备的控制方法中，产生具有射束强度的粒子束；借助射束监控装置监控粒子束的射束质量，从多个可设置的测量范围中选择一个测量范围，其中，根据粒子束的射束强度和/或根据待施加的粒子数设置射束监控装置的测量范围
辐照设备控制方法

[发明专利]一种基于微流控芯片粒子捕获式的单粒子散射测量方法-CN201510481992.9有效
发明人：杨克成;夏珉;戴杰;宫宝玉 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2015-08-07 - 公布日： 2017-12-12 - 主分类号： G01N21/49 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于微流控芯片粒子捕获式单粒子散射测量方法，包括微流控芯片的设计制作、测量环境配置、对准、单粒子的捕获和单粒子环境的构建以及单粒子大角度的散射分布的测定等相关方法。与现有技术相比，由于结合了微流控芯片粒子捕获技术，克服了单粒子的大角度散射、大动态范围内的光散射特性测量方法的不足，实现了单粒子大角度散射分布的测量。
一种基于微流控芯片粒子捕获散射测量方法

[发明专利]纸浆两相流PIV测量的图像处理方法-CN201110153110.8无效
发明人：陈克复;曾劲松;冯郁成;李军;石先成 -专利权人：华南理工大学
申请日： 2011-06-09 - 公布日： 2012-01-25 - 主分类号： G01P5/22 文献下载
摘要：本发明的纸浆两相流PIV测量的图像处理方法，包括：测量前标定：在纸浆纤维悬浮液中待测量的片光平面中放入标定板，运行PIV操作平台，完成测量前标定；流场中示踪粒子的布撒和流场测量：在纸浆纤维悬浮液中布撒水的示踪粒子进行流场测量，得到纸浆纤维粒子和水的示踪粒子的结合图像；对结合图像通过阈值确定并结合掩模技巧进行图像分离，分别得到纸浆纤维和水的示踪粒子的图像。本发明采用PIV这种非侵入式测量方法，得到纸桨纤维粒子和示踪粒子的多帧结合图像，通过对图像分离和处理，可以分别得到纸桨纤维粒子和示踪粒子的图像，从而得到每一相的速度流场。本发明操作简单，能比较准确的测量两相流的速度场。
纸浆两相 piv 测量图像处理方法

[发明专利]粒子测量设备、粒子分离测量设备以及粒子分离测量装置-CN202080020025.1在审
发明人：米田将史;增田雄治 -专利权人：京瓷株式会社
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： G01N15/14 文献下载
摘要：本公开的粒子测量设备(3)在上表面具有包含测量对象的粒子的第1流体流入的第1流入口(23)，具有与第1流入口(23)连接的用于测量粒子的第1流路(16)、以及在第1流路(16)与第1流入口(23)的连接部的上游侧连接的
粒子测量设备分离以及装置

[发明专利]冷气动力喷涂临界速度测量方法-CN200810035025.X有效
发明人：张俊宝;梁永立 -专利权人：宝山钢铁股份有限公司
申请日： 2008-03-24 - 公布日： 2009-09-30 - 主分类号： G01N15/00 文献下载
摘要：本发明公开了冷气动力喷涂临界速度测量方法，其特点是一组基板和粒子组合，利用粒子粒径分布，粒子粒径与速度的关系以及冷气动力喷涂过程中粒子沉积率来测量冷气动力喷涂粒子的临界速度。本发明的方法与现有技术相比，具有的有益效果是：不必直接测量冷气动力喷涂粒子的速度；所采用的所有数据均是实际工程应用中所直接得到的数据，用粒子粒径分布测量结果进行了数学的换算，得到了粒径与质量的对应关系；测量速度快，适用于各种粒子与基板组合；一次实验可测量出粒子的临界速度。
冷气动力喷涂临界速度测量方法

[发明专利]微纳米单粒子阻抗谱测量芯片及测量方法-CN200910213589.2无效
发明人：朱晓璐;易红;倪中华 -专利权人：东南大学
申请日： 2009-11-06 - 公布日： 2010-05-19 - 主分类号： G01N27/02 文献下载
摘要：微纳米单粒子阻抗谱测量芯片及测量方法涉及微纳米单粒子(含细胞)的表征技术，特别是微纳米粒子的阻抗谱测量技术。测量芯片中，上盖板(01)是透明材料，透明导电薄膜层(02)位于上盖板(01)的下表面；芯片下基底(09)上设有导电薄膜(08)，在下层导电薄膜(08)上设有光电导层(07)，在电导层(07)上设有绝缘层(06)，在绝缘层(07)上设有单粒子夹持块(05)，间隔层(04)位于上层透明导电薄膜(02)和下层导电薄膜(08)之间，进样口(03)位于上盖板(01)的一侧；单粒子阻抗谱测量方法为先接通用于粒子操控的电压信号，在粒子群所在的区域(11)利用缩微光图案(12)将目标粒子捕获并输运至单粒子夹持子块(051和052)之间的槽中，然后关闭粒子操控电压，接通阻抗谱测量电压，结合动态信号分析仪完成单粒子的阻抗谱测量。
纳米粒子阻抗测量芯片测量方法

[实用新型]微纳米单粒子阻抗谱测量芯片-CN200920256718.1无效
发明人：朱晓璐;易红;倪中华 -专利权人：东南大学
申请日： 2009-11-06 - 公布日： 2010-07-21 - 主分类号： G01N15/10 文献下载
摘要：微纳米单粒子阻抗谱测量芯片及测量方法涉及微纳米单粒子(含细胞)的表征技术，特别是微纳米粒子的阻抗谱测量技术。测量芯片中，上盖板(01)是透明材料，透明导电薄膜层(02)位于上盖板(01)的下表面；芯片下基底(09)上设有导电薄膜(08)，在下层导电薄膜(08)上设有光电导层(07)，在电导层(07)上设有绝缘层(06)，在绝缘层(07)上设有单粒子夹持块(05)，间隔层(04)位于上层透明导电薄膜(02)和下层导电薄膜(08)之间，进样口(03)位于上盖板(01)的一侧；单粒子阻抗谱测量方法为先接通用于粒子操控的电压信号，在粒子群所在的区域(11)利用缩微光图案(12)将目标粒子捕获并输运至单粒子夹持子块(051和052)之间的槽中，然后关闭粒子操控电压，接通阻抗谱测量电压，结合动态信号分析仪完成单粒子的阻抗谱测量。
纳米粒子阻抗测量芯片

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