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[发明专利]离子源装置-CN202010659238.0在审
发明人：冀鸣;刘运鸿;刘伟基;范奕生;赵刚;易洪波 -专利权人：中山市博顿光电科技有限公司
申请日： 2020-07-09 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： H01J27/14 文献下载
摘要：本申请涉及一种离子源装置，包括：多个霍尔离子源，至少一个中空阴极以及基座；所述霍尔离子源分布安装在所述基座上，所述中空阴极设于距离所述霍尔离子一设定位置处；多个所述霍尔离子源同时进行覆盖，所述中空阴极为至少一个霍尔离子源提供中和电子，且至少一个中空阴极为多个霍尔离子源提供中和电子。本申请的技术方案，通过多个霍尔离子源的设计方案，可以提高覆盖范围，且采用共用中空阴极设计，也降低了设备成本。
离子源装置

[实用新型]离子源装置-CN202021343045.6有效
发明人：冀鸣;刘运鸿;刘伟基;范奕生;赵刚;易洪波 -专利权人：中山市博顿光电科技有限公司
申请日： 2020-07-09 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： H01J27/14 文献下载
摘要：本申请涉及一种离子源装置，包括：多个霍尔离子源，至少一个中空阴极以及基座；所述霍尔离子源分布安装在所述基座上，所述中空阴极设于距离所述霍尔离子一设定位置处；多个所述霍尔离子源同时进行覆盖，所述中空阴极为至少一个霍尔离子源提供中和电子，且至少一个中空阴极为多个霍尔离子源提供中和电子。本申请的技术方案，通过多个霍尔离子源的设计方案，可以提高覆盖范围，且采用共用中空阴极设计，也降低了设备成本。
离子源装置

[发明专利]离子源装置-CN202010752790.4在审
发明人：刘伟基;赵刚;冀鸣;易洪波 -专利权人：中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2020-10-13 - 主分类号： H01J27/14 文献下载
摘要：本申请涉及一种离子源装置，包括：一霍尔离子源以及至少两个中空阴极；各个所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处；各个所述中空阴极设计为所述霍尔离子源提供中和电子，且在其中任何一个中空阴极失效时，切换至其他中空阴极向所述霍尔离子源提供中和电子本申请的技术方案，实现了中空阴极的备份功能，避免了在镀膜使用过程中，当中空阴极的钽管使用寿命结束时出现最后一炉费炉或需要重新破真空更换钽管的情况，从而可以将中空阴极的钽管使用寿命最大化，实现离子源长时间不间断工作
离子源装置

[实用新型]离子源装置-CN202021558773.9有效
发明人：刘伟基;赵刚;冀鸣;易洪波 -专利权人：中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： H01J27/14 文献下载
摘要：本申请涉及一种离子源装置，包括：一霍尔离子源以及至少两个中空阴极；各个所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处；各个所述中空阴极设计为所述霍尔离子源提供中和电子，且在其中任何一个中空阴极失效时，切换至其他中空阴极向所述霍尔离子源提供中和电子本申请的技术方案，实现了中空阴极的备份功能，避免了在镀膜使用过程中，当中空阴极的钽管使用寿命结束时出现最后一炉费炉或需要重新破真空更换钽管的情况，从而可以将中空阴极的钽管使用寿命最大化，实现离子源长时间不间断工作
离子源装置

[发明专利]离子源装置-CN201010572142.7有效
发明人：钱锋;洪俊华;陈炯 -专利权人：上海凯世通半导体有限公司
申请日： 2010-12-03 - 公布日： 2012-06-06 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子源装置，其包括一放电室以及一多孔多电极引出系统，该多孔多电极引出系统的多个引出孔分布在一引出区域中，其特征在于，该引出区域呈纵向尺寸大于横向尺寸的矩形。利用本发明的该离子源装置将能够引出束流强度更大并且均匀性更好的带状离子束。
离子源装置

[发明专利]离子源装置-CN201780095040.0有效
发明人：日朝俊一;谷口爱实 -专利权人：住友重机械工业株式会社
申请日： 2017-09-22 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： H01J27/20 文献下载
摘要：离子源装置(10A)具备：阴极电极(13b、13b)，释放电子；阳极电极(13a)，具有引出离子的狭缝(13aa)；引出电极(15)，沿着从阳极电极(13a)引出的离子的引出方向与阳极电极(13a)分开配置
离子源装置

[实用新型]离子源装置-CN202320283282.5有效
发明人：何正鸿;张超;陈泽;宋祥祎 -专利权人：甬矽电子（宁波）股份有限公司
申请日： 2023-02-15 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种离子源装置，涉及离子源技术领域，该离子源装置包括外壳、高压发射器、灯丝模块、弹性触片、推杆机构和透镜，外壳具有一朝下开口的内腔，高压发射器设置在外壳的顶端，灯丝模块设置在内腔中，并与高压发射器电性接触相较于现有技术，本实用新型提供的离子源装置，拆卸时可以手动拨动推杆机构，从而使得灯丝模块掉落，避免传统结构中手直接接触真空腔体内灯丝拆卸带来的危害，安全性更高。
离子源装置

[发明专利]离子源安装结构及离子源装置-CN202010850672.7在审
发明人：刘伟基;吴秋生;冀鸣;易洪波;赵刚 -专利权人：中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司
申请日： 2020-08-21 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： H01J27/02 文献下载
摘要：本申请涉及一种离子源安装结构和离子源装置，应用于离子源装置上，所述离子源装置包括至少一个霍尔离子源和至少一个中空阴极；所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处，为所述霍尔离子源提供中和电子；该安装结构包括：离子源底座、角度调节机构和基座；所述霍尔离子源安装在离子源底座上，所述离子源底座通过角度调节机构安装在基座上，所述离子源底座通过角度调节机构进行转动，以调整霍尔离子源的发射角度。通过本申请的技术方案，可以根据镀膜需求来调整霍尔离子源的角度，从而可以提升离子源覆盖效果，提高使用效率。
离子源安装结构装置

[实用新型]离子源安装结构及离子源装置-CN202021770259.1有效
发明人：刘伟基;吴秋生;冀鸣;易洪波;赵刚 -专利权人：中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司
申请日： 2020-08-21 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： H01J27/02 文献下载
摘要：本申请涉及一种离子源安装结构和离子源装置，应用于离子源装置上，所述离子源装置包括至少一个霍尔离子源和至少一个中空阴极；所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处，为所述霍尔离子源提供中和电子；该安装结构包括：离子源底座、角度调节机构和基座；所述霍尔离子源安装在离子源底座上，所述离子源底座通过角度调节机构安装在基座上，所述离子源底座通过角度调节机构进行转动，以调整霍尔离子源的发射角度。通过本申请的技术方案，可以根据镀膜需求来调整霍尔离子源的角度，从而可以提升离子源覆盖效果，提高使用效率。
离子源安装结构装置

[发明专利]一种离子注入装置及其使用方法-CN201710507343.0在审
发明人：王玉添 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2017-06-28 - 公布日： 2017-11-17 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子注入装置及其使用方法，其中装置包括主离子源、至少一个备用离子源、用于改变接入的离子源种类的离子源切换装置及用于使所述备用离子源和/或主离子源发射的离子进入筛选装置的离子通道。通过上述方式，本发明能够通过设置至少一个备用离子源的方式，在某一离子源需要停机维修时通过切换离子源使得其它离子源与筛选装置相连，保证离子注入装置可以连续工作，实现产品制造过程中的连续性。此外，该方法不需要将整个离子注入装置全部停机，也不需要重新建立真空环境，操作方便。
一种离子注入装置及其使用方法

[发明专利]复合型质谱离子源装置-CN201910674782.X在审
发明人：史志强 -专利权人：广州汇弘科技有限公司
申请日： 2019-07-25 - 公布日： 2019-12-03 - 主分类号： H01J49/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种复合型质谱离子源装置，包括：离子源、辅助加热装置、离子源支架、调节装置及腔体；离子源支架安装于腔体上；离子源包括有电喷雾离子源及大气压化学电离源，电喷雾离子源及大气压化学电离源之间通过离子源支架相互替换安装于所述腔体上，辅助加热装置以及调节装置被安装于所述腔体上；腔体的内部中空，腔体的内部具有电离区域，离子源支架、辅助加热装置的朝向方向均朝向电离区域。本发明要解决的技术问题是，电喷雾离子源及大气压化学电离源能够同时兼容并相互替换安装在同一个腔体上，企业在设备采购过程中，只需采购一种设备，便能拥有电喷雾离子源及大气压化学电离源这两种功能，极大地减少了企业的购置成本
腔体离子源大气压化学电离源电喷雾离子源辅助加热装置支架电离区域调节装置替换质谱离子源装置内部中空设备采购支架安装兼容采购

[发明专利]离子生成装置及离子生成装置的控制方法-CN201610894385.X有效
发明人：川口宏 -专利权人：住友重机械离子技术有限公司
申请日： 2016-10-13 - 公布日： 2020-03-03 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本发明提供一种离子生成装置及离子生成装置的控制方法，其有助于提高离子照射装置的生产率。本发明的离子生成装置具备：离子源控制部(102)，构成为按照现离子源条件及现离子源条件之后运用的新离子源条件来控制气体供给部(70)及等离子体激发源(72)；保持时间获取部(104)，获取现离子源条件的保持时间；及预处理条件设定部(106)，构成为根据现离子源条件、保持时间、及新离子源条件来设定确定预处理的预处理条件，所述预处理用于在等离子体室内壁形成适合于新离子源条件的表层区域。离子源控制部(102)构成为，从现离子源条件变更为新离子源条件时，通过预处理条件控制气体供给部(70)及等离子体激发源(72)。
离子生成装置控制方法

[发明专利]一种改进的回旋加速器离子源系统-CN201110226095.5有效
发明人：徐建波 -专利权人：上海原子科兴药业有限公司
申请日： 2011-08-08 - 公布日： 2013-02-13 - 主分类号： H05H13/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种改进的回旋加速器离子源系统，由离子源顶盖、灯丝、离子源腔体、磁过滤器、吸极装置及吸极补偿装置构成，离子源顶盖设置在离子源腔体的顶部，顶盖下方设置两排永久磁铁，灯丝设在离子源腔体内，连接在离子源顶盖的下方，磁过滤器设在离子源腔体下方，吸极装置有两个，设在离子源腔体的底部，吸极补偿装置设在离子源腔体的束流路径上。
一种改进回旋加速器离子源系统

[实用新型]一种用于回旋加速器的改进型离子源系统-CN201120286194.8有效
发明人：徐建波 -专利权人：上海原子科兴药业有限公司
申请日： 2011-08-08 - 公布日： 2012-02-22 - 主分类号： H05H13/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于回旋加速器的改进型离子源系统，由离子源顶盖、灯丝、离子源腔体、磁过滤器、吸极装置及吸极补偿装置构成，离子源顶盖设置在离子源腔体的顶部，顶盖下方设置两排永久磁铁，灯丝设在离子源腔体内，连接在离子源顶盖的下方，磁过滤器设在离子源腔体下方，吸极装置有两个，设在离子源腔体的底部，吸极补偿装置设在离子源腔体的束流路径上。
一种用于回旋加速器改进型离子源系统

[发明专利]离子源成像装置-CN201910515317.1在审
发明人：朱星高;代新;喻佳俊;刘平;刘今朝;黄凯斌;黄利勇 -专利权人：广州禾信康源医疗科技有限公司
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： H01J49/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子源成像装置。该离子源成像装置包括离子源腔体、离子源加电模块、反射镜、透光密封件、成像镜头、镜头支撑件以及图像获取机构，离子源腔体具有样品窗口以及光反射窗口，离子源加电模块设在离子源腔体内且靠近于样品窗口，透光密封件密封光反射窗口，镜头支撑件位于离子源腔体的外部且连接离子源腔体，镜头支撑件具有反射通道，反射通道的一端与样品窗口相对，成像镜头与镜头支撑件可转动连接且与反射通道的另一端相通，图像获取机构与成像镜头连接，离子源腔体内以及反射通道内均设有反射镜，离子源腔体内的反射镜、反射通道内的反射镜能够将靶板的图像发射至成像镜头内。该离子源成像装置结构简单、易于操作。
离子源成像装置

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