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[发明专利]离子束源-CN201010593088.4无效
发明人：约翰·麦克内尔;保罗·乔治·贝内特 -专利权人： SPP处理技术系统英国有限公司
申请日： 2010-12-14 - 公布日： 2011-08-17 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种与非导电靶(14)一起使用的离子束源(10)，包括：栅格(13)，用于提取离子；以及电源，用于向栅格(13)提供脉冲式电源以提取离子。
离子束

[实用新型]离子注入设备-CN201721040144.5有效
发明人：何川;洪俊华;张劲;陈炯;杨勇 -专利权人：上海凯世通半导体股份有限公司
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2018-06-05 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种离子注入设备，包括离子源、一与该真空腔相连通的掺杂气体供应装置、一氢气供应装置，和偏转元件，用于从至少部分束流中分离出掺杂源离子束流和氢离子束流；位于掺杂源离子束流传输路径上的掺杂源离子束流检测装置和/或位于氢离子束流传输路径上的氢离子束流检测装置，该掺杂源离子束流检测装置用于检测掺杂源离子束流的电流，该氢离子束流检测装置用于检测氢离子束流的电流。通过偏转，可以通过采样部分或者全部束流，从而得知束流中氢和掺杂源元素的比例，并且通过检测结果来调整气态掺杂源和/或氢气的供应量，由此获得较为理想的束流参数。
束流掺杂源氢离子离子束流检测装置离子注入设备传输路径氢气供应装置偏转本实用新型掺杂气体供应装置检测结果偏转元件供应量氢气离子源真空腔采样检测

[实用新型]离子注入设备-CN201721039656.X有效
发明人：何川;洪俊华;张劲;陈炯;杨勇 -专利权人：上海凯世通半导体股份有限公司
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2018-04-24 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种离子注入设备，包括离子源、一与该真空腔相连通的加热腔体、一氢气供应装置，和偏转元件，用于从至少部分束流中分离出掺杂源离子束流和氢离子束流；位于掺杂源离子束流传输路径上的掺杂源离子束流检测装置和/或位于氢离子束流传输路径上的氢离子束流检测装置，该掺杂源离子束流检测装置用于检测掺杂源离子束流的电流，该氢离子束流检测装置用于检测氢离子束流的电流。通过偏转，可以通过采样部分或者全部束流，从而得知束流中氢和掺杂源元素的比例，并且通过检测结果来调整掺杂源的升华温度和/或氢气的供应量，由此获得较为理想的束流参数。
离子注入设备

[发明专利]离子注入设备及方法-CN201710712869.2在审
发明人：何川;洪俊华;张劲;陈炯;杨勇 -专利权人：上海凯世通半导体股份有限公司
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子注入设备及方法，该离子注入设备包括离子源、一与该真空腔相连通的加热腔体、一氢气供应装置，和偏转元件，用于从至少部分束流中分离出掺杂源离子束流和氢离子束流；位于掺杂源离子束流传输路径上的掺杂源离子束流检测装置和/或位于氢离子束流传输路径上的氢离子束流检测装置，该掺杂源离子束流检测装置用于检测掺杂源离子束流的电流，该氢离子束流检测装置用于检测氢离子束流的电流。通过偏转，可以通过采样部分或者全部束流，从而得知束流中氢和掺杂源元素的比例，并且通过检测结果来调整掺杂源的升华温度和/或氢气的供应量，由此获得较为理想的束流参数。
束流掺杂源氢离子离子束流检测装置离子注入设备传输路径氢气供应装置偏转加热腔体检测结果偏转元件供应量氢气离子源真空腔采样检测升华

[发明专利]离子注入设备及方法-CN201710712878.1在审
发明人：何川;洪俊华;张劲;陈炯;杨勇 -专利权人：上海凯世通半导体股份有限公司
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子注入设备及方法，该离子注入设备包括离子源、一与该真空腔相连通的掺杂气体供应装置、一氢气供应装置，和偏转元件，用于从至少部分束流中分离出掺杂源离子束流和氢离子束流；位于掺杂源离子束流传输路径上的掺杂源离子束流检测装置和/或位于氢离子束流传输路径上的氢离子束流检测装置，该掺杂源离子束流检测装置用于检测掺杂源离子束流的电流，该氢离子束流检测装置用于检测氢离子束流的电流。通过偏转，可以通过采样部分或者全部束流，从而得知束流中氢和掺杂源元素的比例，并且通过检测结果来调整气态掺杂源和/或氢气的供应量，由此获得较为理想的束流参数。
束流掺杂源氢离子离子束流检测装置离子注入设备传输路径氢气供应装置偏转掺杂气体供应装置检测结果偏转元件供应量氢气离子源真空腔采样检测

[发明专利]纳米刻蚀精度多次离子切割装置-CN202111625998.0有效
发明人：杜忠明;陈浩森;宋维力;杨继进;方岱宁;杨乐;李娜;李宁 -专利权人：中国科学院地质与地球物理研究所;北京理工大学
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： G01N1/32 文献下载
摘要：本发明属于样品表面处理技术领域，旨在解现有技术中的离子切割装置无法定量的多次重复切割和重复定位的问题，具体涉及一种纳米刻蚀精度多次离子切割装置，包括总控中心、宽离子束源、恒温系统、样品传输台、样品刻蚀真空舱、宽离子束源真空舱、真空泵和真空规，真空泵与真空规与宽离子束源真空舱连接，宽离子束源真空舱与样品刻蚀真空舱通过滑轨组件连接，宽离子束源真空舱与样品刻蚀真空舱构成一密闭舱体；宽离子束源真空舱的顶部装设有真空舱盖板，真空舱盖板上开设有透明观察窗，其位于离子束汇聚点的正上方；宽离子束源包括一个或者多个离子枪，用于产生宽离子束对样品切片；通过本发明可实现离子切割的重复高精度切割、定位。
纳米刻蚀精度多次离子切割装置

[发明专利]离子研磨装置-CN201880096759.0在审
发明人：鸭志田齐;高须久幸;上野敦史 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2018-08-31 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： H01J37/30 文献下载
摘要：本发明提供一种能够提高离子分布的再现性的离子研磨装置。离子研磨装置具有：离子源(1)；试样台(2)，其载置通过照射来自离子源(1)的非聚焦离子束而被加工的试样(4)；以及驱动单元(8)，其配置在离子源(1)与试样台(2)之间，且使在第一方向上延伸的线状的离子束测定部件(7)在与第一方向正交的第二方向上移动，在从离子源(1)以第一照射条件输出离子束的状态下，通过驱动单元(8)使离子束测定部件(7)在离子束的照射范围内移动，通过向离子束测定部件(7)照射离子束来测定流过离子束测定部件(7)的离子束电流。
离子研磨装置

[发明专利]抑制绝缘介质材料二次电子发射的离子束注入装置及方法-CN202110791204.1有效
发明人：何佳龙;董攀;刘飞翔;李杰;王韬;赵伟;张晓宁;杨洁;陈欣;刘平;石金水 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2021-07-13 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C23C14/48 文献下载
摘要：本发明公开了抑制绝缘介质材料二次电子发射的离子束注入装置及方法，离子束注入装置包括真空弧离子束源系统、真空辅助系统和离子注入靶盘系统，所述真空弧离子束源系统包括离子束高压加速电源、离子束引出电源、等离子体电源、真空弧离子源和接地栅网。通过在绝缘介质材料表面注入能量为几十至一百keV的金属离子，通过离子束注入，在材料表面离子束射程范围内，产生离子束辐照缺陷，提高材料内部真二次电子与载流子碰撞损失能量，进而被辐照缺陷俘获的概率，从而显著降低材料的二次电子产额
抑制绝缘介质材料二次电子发射离子束注入装置方法

[发明专利]一种基于离子注入机的离子束注入控制方法及装置-CN202211012019.9在审
发明人：张力夫;陈平阳;谈益强 -专利权人：浙江陶特容器科技股份有限公司
申请日： 2022-08-23 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本申请公开了一种基于离子注入机的离子束注入控制方法及装置，方法包括当检测到离子源射出第一离子束时，基于移动轨迹确定四极透镜的位置；根据位置依次校正波束扫描磁铁以及晶圆乘载盘，并控制离子源停止射出第一离子束；当检测到离子源射出第二离子束时，对第二离子束进行聚焦压缩处理，并将第二离子束射出至波束扫描磁铁；对第二离子束进行高频扫描处理，并将第二离子束射出至晶圆乘载盘。通过处理后的离子束可保障晶圆乘载盘在离子束的注入过程中避免持续移动，可有效减少保养与故障频率，以及有助于减少因移动所产生的外在污染；另一方面，还可基于处理后的离子束有效控制对晶圆表面积的再次注入过程，进而极大缩短离子束的输入时间
一种基于离子注入离子束控制方法装置

[发明专利]一种平板玻璃用离子束形成模块及离子植入系统及方法-CN202310375247.0在审
发明人：陈维 -专利权人：浙江鑫钰新材料有限公司
申请日： 2023-04-10 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本发明提供一种平板玻璃用离子束形成模块及离子植入系统及方法，其中平板玻璃用离子束形成模块包括有依次相连接的离子源组合单元、离子束质量和电荷比值分析磁场单元、拓展磁铁组合单元和准直磁铁组合单元；离子源组合单元中包括有并排设置的若干个离子源装置，离子源装置的输入端连接有供能供料装置；拓展磁铁组合单元中包括有若干组拓展磁铁，每组拓展磁铁的位置均分别与一个离子源装置产生的离子束的两侧相对应；准直磁铁组合单元位于若干个离子源装置产生的若干条离子束经离子束质量和电荷比值分析磁场单元偏转后的交汇处本方案获得的平行带状离子束具有极高的有效高度，且离子束的束流宽度较小、离子密度较高且均匀度较好。
一种平板玻璃离子束形成模块离子植入系统方法

[实用新型]磁控溅射和离子束集成式镀膜设备-CN202020947870.0有效
发明人：钱政羽;钱涛;陈骞 -专利权人：星弧涂层新材料科技(苏州)股份有限公司
申请日： 2020-05-29 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型揭示了磁控溅射和离子束集成式镀膜设备，包括真空室、工件台、偏压电源，所述真空室上设置有分布于工件台四周的磁控溅射靶及离子束源，所述离子束源均成对设置，每对离子束源分布于工件台相对的两侧。本方案将磁控溅射与离子束整合在一套设备中，相对布置的离子束源可以从工件的两侧提供离子源，从而可以有效避免离子束分布不均匀造成的不同距离的工件沉积质量不一的问题，保证了薄膜的一致性，改善沉积的稳定性。同时，使用离子束辅助磁控溅射，改变了非平衡磁控溅射工作压力范围，解决了溅射靶不能在较低的气压下稳定工作的弊端，使得其能在更高的真空度下稳定工作。
磁控溅射离子束集成镀膜设备

[发明专利]离子布植机-CN201510298722.4有效
发明人：万志民;库罗什·萨阿达特曼德;威廉·P·普拉托夫 -专利权人：汉辰科技股份有限公司
申请日： 2015-06-03 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：离子布植机，包括离子源以及至少一个光学组件。离子源提供一道离子束，而光学组件是配置于离子束的传递路径上，用以将离子束调整为非平行离子束，借以用非平行离子束的不同部分同时对一个工件的不同区域进行离子布植。不同的光学组件分别可以用来将离子束予以发散或收敛，借以将离子源提供的离子束调整为平行度较差的非平行离子束。
离子布植机

[发明专利]降低离子束抛光光学元件表面污染的方法-CN201910844111.3有效
发明人：王大森;李晓静;聂凤明;裴宁;郭海林;张旭 -专利权人：中国兵器科学研究院宁波分院
申请日： 2019-09-06 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种降低离子束抛光光学元件表面污染的方法，1)将离子束抛光设备中用以对光学元件进行夹持的夹具的外侧采用高温胶带进行贴封处理；2)将光学元件安装在夹具后，对光学元件和夹具的表面进行清洁处理，随后放入离子束抛光设备的副腔室内，最后将光学元件送至离子束抛光设备的主腔室内；3)安装离子源，离子源的栅网采用溅射率低于金属银溅射率的栅网；4)开启离子束抛光设备，启动离子源，使用法拉第杯测量离子源发出的离子束电流，待离子源运行一定设定时间t稳定后，对光学元件进行离子束抛光。采用该方法，离子束加工后光学元件表面洁净，有效抑制污染，提高加工质量。
降低离子束抛光光学元件表面污染方法

[发明专利]一种离子束传输光路-CN201811201399.4有效
发明人：彭立波;张赛;易文杰 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十八研究所
申请日： 2018-10-16 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子束传输光路，包括用于产生包含目标元素离子的离子源、用于引出包含目标元素离子的离子束的引出电极、用于对离子束进行筛选的分析器、设有光栏缝的分析光栏、用于离子束聚焦的聚焦透镜、用于提升离子束能量的加速管、用于对离子束进行对称扫描以将离子束扩张为扇形扫描离子束的对称静电扫描电极、以及用于对扇形扫描离子束的角度进行矫正以形成平行离子束的均匀磁场平行透镜，所述离子源、引出电极、分析器、分析光栏、聚焦透镜、加速管
一种离子束传输

[发明专利]一种鸡尾酒束流制备装置及方法-CN201910413362.6有效
发明人：赵红卫;孙良亭;杨尧;翟雨晗 -专利权人：中国科学院近代物理研究所
申请日： 2019-05-17 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： H05H7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种鸡尾酒束流制备装置及方法，包括气源、ECR离子源、质谱元件、束流传输元件、加速元件和束流诊断元件；气源包括与ECR离子源连接的至少两种工作气体；ECR离子源用于对馈入的混合工作气体通过高能电子的逐级剥离产生等离子体并引出混合离子束；质谱元件设置在混合离子束的引出路径上，用于从混合离子束中筛选分离出所需特定价态的离子并引出混合离子束流；束流传输元件、加速元件和束流诊断元件顺序设置在混合离子束流的引出路径上，并最终引出最佳横向尺寸的混合离子束流，即鸡尾酒束流。本发明可以实现质荷比相同或完全不同的多种离子的同时引出、匹配和加速，不仅大大缩短了束流切换的时间，而且可实现多种离子束辐照的协同作用。
一种鸡尾酒制备装置方法

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