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[实用新型]一种柱塞磨料缸-CN202120678421.5有效
发明人：薛振宇;罗国俊 -专利权人：罗恩研磨技术（苏州）有限公司
申请日： 2021-04-02 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： B24B31/116 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种柱塞磨料缸，包括：驱动设备、磨料柱塞、磨料缸体和磨料，所述磨料缸体由间隔件分为沿所述磨料缸体延伸方向上的推杆腔和磨料腔，所述磨料柱塞穿过所述间隔件一部分位于磨料腔中，另一部分位于推杆腔中，所述磨料设置于所述磨料腔中，且所述磨料柱塞与所述磨料腔内壁之间具有第一间隙，所述驱动设备连接所述磨料柱塞。本实用新型提供的柱塞磨料缸，部分磨料会填充到磨料柱塞与磨料腔内置之间，工作时磨料与缸壁之间没有或只有很小的摩擦，从而使得磨料缸内壁磨损极小或没有磨损，进而也无需对磨料缸体进行电镀处理，大大延长了磨料缸的使用寿命
一种柱塞磨料

[发明专利]磨料制品及其使用方法-CN202180006911.3在审
发明人：拉马努贾姆·韦当特姆;亚历山大·滕佩雷利 -专利权人：圣戈班磨料磨具有限公司;法国圣戈班磨料磨具公司
申请日： 2021-01-05 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： B24D7/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种磨料制品，所述磨料制品包括：第一磨料本体，所述第一磨料本体联接到基底，所述第一磨料本体具有磨料颗粒和粘结材料，所述磨料颗粒包括超硬磨料，所述粘结材料包括玻璃质材料；和第二磨料本体，所述第二磨料本体联接到所述基底，所述第二磨料本体具有磨料颗粒和粘结材料，所述磨料颗粒包括超硬磨料，所述粘结材料包括至少一种非玻璃相材料，且所述第一磨料本体和所述第二磨料本体之间的磨耗率差异至少为0.08cc。
磨料制品及其使用方法

[发明专利]水磨料悬浮液切割设备和水磨料悬浮液切割方法-CN201780091539.4有效
发明人： M·林德 -专利权人：艾恩特应用新技术公司
申请日： 2017-03-31 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： B24C7/00 文献下载
摘要：在此公开的水磨料悬浮液切割设备(1)具有：用于在高压下提供水(301)的高压源(3)；与高压源(3)连接的高压管路(5)；用于提供处于高压下的水磨料悬浮液(13)(303)的压力容器(11)；闸门室(21在此，泵(31)在吸取侧与闸门室(21)可阻断地流体连接，使得泵(31)在闸门室(21)中为高压的情况下与其阻断并且在闸门室(21)中为低压的情况下能够使磨料介质悬浮液通过填充阀(23)被吸入闸门室(21
水磨悬浮液切割设备方法

[发明专利]一种CuCr触头表面处理加工的辅助金属加工工艺-CN202011109974.5有效
发明人：杨斌;李鹏;王小军;刘凯;张石松;孙广林;马瑞妮 -专利权人：陕西斯瑞新材料股份有限公司
申请日： 2020-10-16 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种CuCr触头表面处理加工的辅助金属加工工艺，包括磁力研磨、磨料配比、CuCr触头装篮、研磨、真空脱脂处理；采用10号工业白油作为研磨冷却润湿介质，采用采用不锈钢针的混合磨料作为研磨抛光磨料
一种 cucr 表面处理加工辅助金属加工工艺

[发明专利]有序结构砂带制品及其制造方法-CN92100694.2无效
发明人：Ｊ·Ｒ·皮泼;Ｍ·Ｖ·姆茨;Ｒ·Ｖ·海逖;Ｒ·Ｍ·奥尔松;Ｇ·Ｌ·豪尔米斯 -专利权人：明尼苏达州采矿制造公司
申请日： 1992-02-02 - 公布日： 2001-05-23 - 主分类号： B24D3/00 文献下载
摘要：本发明涉及包括背衬及粘结在背衬上面的磨料混合物的砂带制品。砂带制品特别是细颗粒的制品存在两个主要问题是堵塞和产品的一致性。本发明提供的砂带制品，包括一背衬和在其至少一个主面上的磨料混合物，该混合物包括在粘结剂中分散的许多磨粒。所述粘结剂即作为分散磨粒的介质，也起到把磨料混合物粘到背衬上的作用。
有序结构制品及其制造方法

[实用新型]一种高效节能粉磨机-CN00245362.2无效
发明人：曹宝江 -专利权人：曹宝江
申请日： 2000-08-18 - 公布日： 2001-07-11 - 主分类号： B02C17/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种高效节能粉磨机,它由主动轴、磨料筒、箱体等组成。有两对联合板分别和轴承、磨料筒以及两组偏心套等组装成两组参振质量,在平衡支承轴和两组偏心方向错位180度的偏心套作用下,两组参振质量的离心惯性力互相直接平衡,使机器振动很小,寿命大幅度提高。磨料筒里的介质棒和物料在偏心圆振动强烈作用下,物料迅速得到破碎、细磨。本实用新型结构实用、可靠,平衡结构独特、效果好,可设计成中、大型粉磨机,效率高、节能、寿命长,适用于粉磨硬脆物料。
一种高效节能粉磨机

[实用新型]一种磨粒流加工装置的磨料缸模块-CN201822199264.0有效
发明人：黄铁军 -专利权人：无锡市威海达机械制造有限公司
申请日： 2018-12-26 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： B24B41/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磨粒流加工装置的磨料缸模块，包括磨料缸支架，所述磨料缸支架内设置有磨料缸；所述磨料缸包括磨料缸缸筒，磨料缸下盖，磨料缸定位环、磨料缸上接焊圈，所述磨料缸缸筒下端设置有磨料缸下盖，所述磨料缸下盖上设置有连接孔，所述连接孔用于输出磨料缸内的磨粒，所述磨料缸的上端通过磨料缸定位环与磨料缸上接焊圈相连接；本实用新型的磨料缸设置在磨料缸支架上，方便了磨料缸在加工装置内的安装，同时也便于加工装置更换不同的磨料缸，拆卸方便，灵活性好；磨料缸上设置有备用连接孔，可以连接其他加工装置，作为打磨大型零件时备用，不用完全更换加工装置。
磨料缸加工装置下盖支架本实用新型磨粒流加工定位环连接孔缸筒焊圈备用连接拆卸方便大型零件上端打磨磨粒下端备用输出

[实用新型]磨料盒和磨料系统-CN202122351705.6有效
发明人：孙可;郑倩倩;董琳 -专利权人：三一建筑机器人（西安）研究院有限公司
申请日： 2021-09-27 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： B24B41/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及磨料设备技术领域，提供一种磨料盒和磨料系统。该磨料盒，包括：盒体，盒体内部形成有槽体；磨料块，磨料块包括底座和磨料丝，磨料丝固定于底座上，底座放置于槽体内，并与盒体可拆卸连接。该磨料系统包括：磨料带和上述的磨料盒，磨料盒设于磨料带上。本实用新型提供的一种磨料盒和磨料系统，盒体和磨料块为分体结构，通过底座与盒体的可拆卸连接，实现磨料块可拆卸，代替现有技术中的磨料与盒体或磨料带一体浇铸式结构；当磨料丝磨损严重需要更换时，可将磨料块从槽体中拆卸下来进行更换即可
磨料系统

[发明专利]一种混合射流清洗的介质回收供应方法-CN201210050406.1在审
发明人：段明南 -专利权人：宝山钢铁股份有限公司
申请日： 2012-02-29 - 公布日： 2013-09-11 - 主分类号： B07B13/04 文献下载
摘要：一种混合射流清洗的介质回收供应方法，首先，喷嘴单元对金属板带表面完成喷射清洗之后的含磨料及从金属板带表面冲洗下来的氧化物、附作物的混合介质流入收集箱，在收集箱的混合介质一并运输至砂水初步分离，对混合介质进行初步的沉淀将水返回喷射清洗的供砂系统回收再利用；砂水分离中无法悬浮的颗粒物，可由自重或抽吸装置传输至粒度筛分系统，按照不同粒度进行筛分，筛分后的颗粒物按照粒度的大小级别，通过管路进入不同粒度的储砂桶，储砂桶与射流清洗单元相连，直接实现不同粒度磨料在不同喷射除鳞区域的再利用
一种混合射流清洗介质回收供应方法

[发明专利]一种窄粒度分布的纳米级金刚石微粉的制备方法-CN201710151245.8有效
发明人：陶刚;汪静 -专利权人：河南联合精密材料股份有限公司
申请日： 2017-03-14 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： C01B32/28 文献下载
摘要：该纳米级金刚石微粉的制备包括：1)将中值粒径为0.3μm以细的金刚石微粉与水混合，制备原料料浆；2)向原料料浆中加入超硬磨料颗粒作为研磨介质进行研磨整形，过滤，得到整形料浆；研磨介质的粒度大于步骤1)中金刚石微粉的粒度本发明提供的窄粒度分布的纳米级金刚石微粉的制备方法，以相对金刚石微粉更粗粒度的超硬磨料颗粒作为研磨介质，其强度高，相较于钢球之间只有接触点上的接触、碰撞整形，研磨介质之间的摩擦、碰撞、剪切等效应更加有效
一种粒度分布纳米金刚石制备方法

[发明专利]一种轴承外滚道旋转动压抛光装置及其工作方法-CN202210834299.5在审
发明人：王宣平;付源政;高航 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2022-07-14 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： B24B31/00 文献下载
摘要：本发明包括主轴旋转机构、料缸、抛光轮、抛光轮旋转机构和抛光轮位姿调整机构，主轴旋转机构用于安装待抛光轴承套圈，并带动待抛光轴承套圈进行旋转，待抛光轴承套圈设置于所述料缸中，工作状态下，料缸中设有流体磨料介质抛光轮位姿调整机构用于调整抛光轮相对于待抛光轴承套圈的位姿，抛光轮结构与待抛光轴承套圈适配，且工作状态下二者之间存在预设的空隙，抛光轮旋转机构与抛光轮相连，控制抛光轮和工件保持一定距离进行相对旋转，抛光轮将磨料介质卷入抛光轮与工件产生的间隙中本发明采用松散流体磨料抛光可以获得表面质量较好的套圈抛光表面，结构简单、操作简单、适用性强。
一种轴承滚道旋转抛光装置及其工作方法

[发明专利]一种二氧化硅基CMP抛光液及其制备方法-CN201210317882.5有效
发明人：高桂花;张兰田 -专利权人：安特迪（天津）科技有限公司
申请日： 2012-08-31 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种应用于超大规模集成电路硅衬底及层间介质全局平坦化的二氧化硅基CMP抛光液及其制备方法。抛光液中含有重量百分比为10～50％的纳米二氧化硅研磨料，0.1～10％的分散剂，0.1～10％的润湿剂，0.1～10％的螯合剂，0.01～1％的pH调节剂，其余为去离子水。该抛光液是通过用表面活性剂改性，强力机械搅拌，高剪切研磨以及超声波分散等手段，克服了纳米级磨料颗粒极易絮凝、团聚问题进行制备的。由于磨料的粒度分布窄，范围可选择，抛光速率容易调控，抛光液为碱性，不腐蚀设备，损伤少、易清洗、不污染环境。可以用于超大规模集成电路硅衬底、层间电介质、浅沟槽隔离绝缘体、导体和镶嵌金属的化学机械抛光。
一种二氧化硅 cmp 抛光及其制备方法

[发明专利]一种有机碱腐蚀介质的稀土抛光液-CN200610001059.8有效
发明人：聂祚仁;梅燕;韩业斌;邹景霞;王艳丽 -专利权人：北京工业大学
申请日： 2006-01-18 - 公布日： 2006-07-26 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：现有日本的几种抛光液产品主要为金刚石磨料的碱性溶液，由于其中磨粒粒径大小不均匀，不能很好的解决机械作用造成的损伤和应力的问题，无法达到光滑镜面的目的。本发明提供的一种有机碱腐蚀介质的稀土抛光液，包括磨料二氧化铈和腐蚀剂有机碱三乙醇胺，重量百分比含量为二氧化铈0.5％～5％、三乙醇胺为0.05～1.0％，其余为H₂O。本发明的抛光液用于单晶硅片表面抛光，克服了使用现有抛光液中磨料硬度高造成的表面划伤和选择其他种类腐蚀介质带来的缺陷，获得了理想的光滑镜面抛光效果。
一种有机腐蚀介质稀土抛光

[发明专利]超大规模集成电路多层布线SiO₂介质的纳米SiO₂磨料抛光液-CN200610014298.7无效
发明人：刘玉岭;孙鸣 -专利权人：河北工业大学
申请日： 2006-06-09 - 公布日： 2007-01-03 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种超大规模集成电路多层布线SiO₂介质的纳米SiO₂磨料抛光液。该抛光液的组分及重量％如下：磨料：二氧化硅水溶胶固含量：20－45，复合碱：0.5－5.5，渗透剂：1.0－10，表面活性剂：1.0－10，螯合剂：0.5－10，余量：去离子水；将上述各组分逐级混合，搅拌均匀即可该抛光液的配制主要以小粒径球形纳米无定形SiO₂水溶胶作为基本磨料，利用氢氧化钾与多羟多胺有机碱形成的复合碱共同调节抛光液pH值范围至10.5－13.5，且复合碱中有效成分的水解产物能够与SiO₂介质发生化学反应，抛光液中的渗透剂与FA/O表面活性剂强化抛光液的表面质量传递作用。
超大规模集成电路多层布线 sio sub 介质纳米磨料抛光

[实用新型]一种金属工件表面强化研磨机-CN201520438458.5有效
发明人：陶建华;刘晓初;张剑辉;金成普 -专利权人：广州大学
申请日： 2015-06-24 - 公布日： 2015-11-04 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种金属工件表面强化研磨机，该研磨机包括机架、固定在机架上的工作台和实现空间三轴移动的丝杠传动系统，其特征在于，还包括控制喷射角度的角度控制系统和研磨料循环系统，其中，所述角度控制系统包括转轴相互垂直的第一转角电机和第二转角电机，其中，第一转角电机固定在丝杠传动系统中Z轴丝杠副的滑块上，第二转角电机固定在第一转角电机的转轴上；所述研磨料循环系统包括位于所述工作台正下方的研磨料回收漏斗、搅拌装置和固定在所述第二转角电机的转轴上的文丘里喷射器，其中所述文丘里喷射器的工作介质进口与压缩空气的气源连通，引射介质进口与搅拌装置的搅拌桶底部连通。
一种金属工件表面强化研磨机

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