专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种超支化聚多层复合及其制备方法-CN201410784364.3在审
  • 白云翔;林佳强;张春芳;孙余凭;顾瑾 - 江南大学
  • 2014-12-16 - 2016-08-24 - B01D69/12
  • 本发明涉及一种超支化聚多层及其制备方法,采用以下工艺步骤:1)将超支化聚、溶剂、107胶、催化剂在60~80℃下反应12h后,形成铸料液,将所得铸液涂覆于聚偏氟乙烯多孔底上,得超支化聚;2)将乙烯基三乙氧基硅烷、溶剂、107胶、催化剂在60~80℃下反应6h后,形成铸料液,涂覆于上述超支化聚上,得超支化聚多层复合。本发明制备的超支化聚多层复合,具有三层膜结构,底层为带无纺布支撑的聚偏氟乙烯超滤膜,中间层为超支化聚,顶层分离层为极薄的聚。本发明制备的超支化聚多层复合,从上到下,疏松程度呈梯度分布,极大的提升了渗透汽化分离水中丁醇的性能。
  • 一种超支化聚硅氧烷多层复合及其制备方法
  • [发明专利]使用了含组合物的半导体基板的平坦化方法-CN201780013335.9有效
  • 志垣修平;谷口博昭;中岛诚 - 日产化学株式会社
  • 2017-02-10 - 2023-06-02 - H01L21/312
  • 本发明提供用于将使用了含组合物的半导体基板平坦地被覆的方法。本发明提供一种聚被覆基板的制造方法,所述聚被覆基板是经过下述工序制造的:第一工序,将包含第一被覆用聚的第一被覆用聚组合物涂布于高低差基板上并进行烧成,从而制成第一聚被覆,以及,第二工序,将包含第二被覆用聚的第二被覆用聚组合物涂布于第一聚被覆上并进行烧成,从而制成第二聚被覆,所述第二被覆用聚与第一被覆用聚不同,上述第二聚被覆的Iso‑dense偏差为50nm以下,上述第一被覆用聚包含下述水解性硅烷原料的水解缩合物,所述水解性硅烷原料以在全部硅烷中成为0~50摩尔%的比例包含每一分子具有4个水解性基团的第一水解性硅烷,上述第二被覆用聚以相对于
  • 使用组合半导体平坦方法
  • [发明专利]一种受损的透明可卷曲折叠聚的自修复方法-CN201910867987.X有效
  • 梁国正;张又豪;顾嫒娟;袁莉 - 苏州大学
  • 2018-06-22 - 2022-02-11 - C08J5/18
  • 本发明公开了一种受损的透明可卷曲折叠聚的自修复方法。将2,2'‑二硫二乙醇和二异氰酸酯加入氯代中,扩链反应得到含二硫醚的异氰酸酯;将双(3‑氨基丙基)封端聚二甲基和二异氰酸酯加入氯代中,扩链反应得到线性聚二甲基;将线性聚二甲基与末端含氨基的超支化聚溶于氯代中,加入含二硫醚的异氰酸酯,混匀后倒入模具,烘干,得到透明可卷曲折叠聚。本发明通过室温下氢键的动态物理交联与超支化聚的永久化学交联使所制备的聚兼具了刚性与韧性,而在加热条件下氢键解离与二硫醚交换使所制备的聚具有良好的可逆自修复性能。
  • 一种受损透明卷曲折叠聚硅氧烷膜修复方法
  • [发明专利]一种透明可卷曲折叠聚-CN201910867989.9有效
  • 梁国正;张又豪;顾嫒娟;袁莉 - 苏州大学
  • 2018-06-22 - 2022-04-15 - C08J5/18
  • 本发明公开了一种透明可卷曲折叠聚。将2,2'‑二硫二乙醇和二异氰酸酯加入氯代中,扩链反应得到含二硫醚的异氰酸酯;将双(3‑氨基丙基)封端聚二甲基和二异氰酸酯加入氯代中,扩链反应得到线性聚二甲基;将线性聚二甲基与末端含氨基的超支化聚溶于氯代中,加入含二硫醚的异氰酸酯,混匀后倒入模具,烘干,得到透明可卷曲折叠聚。本发明通过室温下氢键的动态物理交联与超支化聚的永久化学交联使所制备的聚兼具了刚性与韧性,而在加热条件下氢键解离与二硫醚交换使所制备的聚具有良好的可逆自修复性能。
  • 一种透明卷曲折叠聚硅氧烷膜

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