专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]真空装置-CN201220403488.9有效
  • 冈田利幸;藤本惠美子;大工博之 - 日立造船株式会社
  • 2012-08-15 - 2013-03-13 - C23C14/24
  • 本实用新型提供一种真空装置,能缩短直到开始蒸发为止的时间,坩埚不会因局部加热而破损,能形成均匀的镀膜。该真空装置(1)包括:真空用的坩埚(4),收容金属材料(3);以及加热装置(5),使坩埚(4)中收容的材料(3)熔融并蒸发。坩埚(4)内部的中央部具有柱状的突出部(44),加热装置5具有从背面侧加热突出部(44)的主加热器(51),以及从外侧加热坩埚(4)的内周面(43)的副加热器(52),利用主加热器(51)蒸发的材料(3)的量多于利用副加热器(52)蒸发的材料(3)的量。
  • 真空装置
  • [实用新型]真空装置-CN201220694165.X有效
  • 盐野一郎;林达也;姜友松;宫内充祐;冈田胜久;长江亦周 - 株式会社新柯隆
  • 2012-12-14 - 2013-06-05 - C23C14/28
  • 本实用新型提供一种真空装置,其能够维持离子源的效率且不会使装置大型化,并且能够提高维护性。在具备照射离子或等离子体等能量粒子的能量粒子源的真空装置中,提供能量粒子源的维护性高的真空装置真空装置构成为具备:拱顶型的基板保持构件(12),其配设于真空容器(10)内,用于保持多个基板(14);旋转构件,其用于使基板保持构件(12)旋转;构件(34),其以与基板(14)对置的方式设置能量粒子源(38)在能量粒子诱导部朝向基板方向的状态下,安装于在真空容器(10)配设的门(10a)的内壁面。
  • 真空装置
  • [发明专利]真空装置-CN201780039108.3有效
  • 北泽僚也;中村寿充;朝比奈伸一;斋藤一也 - 株式会社爱发科
  • 2017-07-19 - 2021-01-08 - C23C14/24
  • 本发明提供一种可尽量减少粒子的影响的所谓向下沉积方式的真空装置。其具有配置在真空室(1)内的源(3),源具有容置物质(Vm)的容置箱(31)和加热物质使其升华或气化的加热装置(33);容置箱中设置有升华或气化了的物质的喷出部(32),喷出部相对于真空室内的被成膜物(S)位于垂直方向上方,喷出部具有相对于垂直方向斜向下的喷出口(32b),从该喷出口向被成膜物喷出物质,容置箱偏移设置在远离被成膜物的端部的位置上。
  • 真空装置
  • [发明专利]真空装置-CN201280075029.5有效
  • 重冈伸之 - 三菱重工业株式会社
  • 2012-11-13 - 2016-10-12 - C23C14/24
  • 本发明提供一种真空装置。本发明的真空装置具备:蒸发源,其朝向配置有靶的位置配置;蒸发源罩,其包围蒸发源,具有放出材料的放出口;防粘板,其配置于蒸发源罩的周围;膜厚传感器,其检测从蒸发源放出的材料形成的膜厚;热反射抑制单元
  • 真空装置
  • [发明专利]真空装置-CN201510607517.1有效
  • 田村博之 - 佳能特机株式会社
  • 2015-09-22 - 2019-08-23 - C23C14/24
  • 真空装置。本发明提供一种具有石英振荡式膜厚计的优良的真空装置,通过在一个蒸发源的石英振荡式膜厚计中使用预先形成了一定膜厚的从其余的其它蒸发源蒸发的有机材料的石英振子,从而不必设置基底膜形成工序,也能够预先形成带一定膜厚的有机材料基底膜的多个石英振子在真空装置中,用于对一个蒸发源的膜厚和速度进行控制的石英振荡式膜厚计的多个石英振子(4)是预先在利用其余的其它蒸发源实施的工序中在控制膜厚和速度的同时在该多个石英振子上形成了该有机材料的有机材料基底膜的带有机材料基底膜的石英振子
  • 真空装置
  • [发明专利]真空装置-CN201210080496.9无效
  • 野田武史 - 日立造船株式会社
  • 2012-03-23 - 2012-10-17 - C23C14/24
  • 本发明提供一种真空装置,能够防止因该溶剂造成的基板的污染,以获得高品质的镀膜。真空装置是利用蒸发装置将有机液体材料去除有机溶剂后进行蒸发以作为蒸发材料,将该蒸发材料导至真空容器内的基板上进行,其中,蒸发装置包括:蒸发容器,填充有机液体材料且形成有蒸发溶剂的排出口;蒸发用加热器,能够设定为仅有机溶剂蒸发而材料不会蒸发的温度;蒸发室用真空泵,经由第2开闭阀而连接于排出口;以及流量调整阀,蒸发装置在将流量调整阀关闭,并且利用蒸发用加热器仅使蒸发容器内的有机溶剂蒸发后,将第2开闭阀打开以利用上述泵来抽吸蒸发容器内的蒸发溶剂
  • 真空装置
  • [发明专利]真空装置-CN201280033540.9无效
  • 宫川展幸;西森泰辅;安食高志;北村一树 - 松下电器产业株式会社
  • 2012-07-06 - 2014-03-19 - C23C14/24
  • 目的在于,在真空装置中,在使用了多个蒸发源时,不易发生在被体上形成的镀膜的不均,能够形成所希望的膜厚的镀膜。真空装置(1)具备:多个蒸发源(3);将蒸发源(3)及被体(2)之间的空间包围、在被体侧具有开口面(41)的筒状体(4)。并且,具备在筒状体(4)的内部配置的分隔板(7)。根据该构成,能够使从分隔板(7)的开口部(70)流向被体(2)侧的气化材料的流束分布相同,因此在使用了多个蒸发源(3)时,不易发生在被体(2)上形成的镀膜的不均,能够获得所希望的膜厚的镀膜。
  • 真空装置
  • [发明专利]真空装置-CN200410063713.9有效
  • 下岛克彦;藤井博文;河口博 - 株式会社神户制钢所
  • 2004-07-07 - 2005-02-09 - C23C14/24
  • 本发明涉及的真空装置包括:真空腔室,在该真空腔室的内外升降自如地设置的杆状的蒸发源,工件支承机构,其支承相对于下降到前述真空腔室内的前述蒸发源而配置成包围该蒸发源的工件(W)。前述真空腔室具有固定腔室部以及移动腔室部,所述移动腔室部相对于前述固定腔室部连结分离自如地设置并且安装了前述工件支承机构。在前述蒸发源上升并退避到前述真空腔室外的状态下,任一方的移动腔室部相对于前述固定腔室部水平移动并连结,进行真空处理。通过这样的构成,无需升降下盖并使工件支承机构从真空腔室出入,就能够进行真空装置的维护。
  • 真空装置
  • [发明专利]真空装置-CN201010131993.8在审
  • 杨明生;王曼媛;刘惠森;范继良;王勇;张华 - 东莞宏威数码机械有限公司
  • 2010-03-23 - 2010-11-03 - C23C14/24
  • 本发明提供一种真空装置,其包括传输机构、机构、传感控制装置真空机构,传输机构包括主腔体、闸门,传输组件及驱动器,主腔体两侧开设有闸口,闸门安装于所述闸口处,主腔体底部开设有连接口,驱动器与闸门及传输组件连接,驱动器驱动基板在传输组件上移动;机构包括副腔体、挡板、动力组件、蒸发舟及蒸发源,蒸发舟安装于副腔体内,蒸发源放置于蒸发舟内,副腔体正对主腔体的连接口处开设有对接口,挡板安装于连接口与对接口之间;传感控制装置包括传感器及与控制器,控制器与传输组件及蒸发舟电连接;真空机构包括粗抽管道、真空泵以及闸阀,粗抽管道与副腔体连通,粗抽管道与真空泵相连接。
  • 真空装置
  • [发明专利]真空装置-CN201780038523.7有效
  • 北泽僚也;汲田健太郎;菊地诚 - 株式会社爱发科
  • 2017-07-19 - 2021-06-22 - C23C14/24
  • 本发明提供一种可有效地抑制掩膜效应,并使物质附着效率良好地成膜的真空装置。其具有:源(3),其配置在真空室(1)内;移动装置,其使基板(S)相对于源在一个方向上相对移动;以及掩膜材料(4)。以基板相对于源的相对移动方向作为X轴方向,基板的宽度方向作为Y轴方向,在源的容置箱(31)上喷嘴(32)以规定的间隔在Y轴方向上排列设置。
  • 真空装置
  • [发明专利]真空装置-CN201510857298.2有效
  • 近藤喜成;田村博之 - 佳能特机株式会社
  • 2015-11-30 - 2019-12-06 - C23C14/24
  • 本发明提供真空装置,当然使成膜图案的平坦部的比例变大并且能够抑制图案模糊,还能够获得膜厚分布均匀的镀膜。(1)的长度方向设置有多个蒸发口部(2),蒸发源(1)和配设于与蒸发源(1)对置的位置的基板(3)在与蒸发源(1)的长度方向垂直的方向上相对地移动,从蒸发口部(2)射出成膜材料,由此在基板(3)上形成镀膜
  • 真空装置

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