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[发明专利]一种石材真空涂覆方法及石材真空涂覆机-CN201210445145.3无效
发明人：陈思扬;易传云 -专利权人：云浮市科特机械有限公司
申请日： 2012-11-08 - 公布日： 2013-03-06 - 主分类号： B05D7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种石材真空涂覆机。涉及石材加工技术领域，具体是石材表面真空涂覆加工设备。本发明实现石材在真空状态下自动涂覆，并使涂覆的高分子薄膜材料在压差作用下浸入石材本体空隙和缺陷中，达到提高石材表面涂覆质量，提高生产效率的目的。该石材真空涂覆机采用流水线式结构，运输机构，涂覆机构依次安装在抽真空机构内，实现石材的运输，抽真空，涂覆等工序。门和加料口布置在真空箱体上，实现涂料的随时补充和涂覆机构的清洁功能。
一种石材真空方法涂覆机

[发明专利]涂覆设备的真空室系统和利用该真空室系统的涂覆方法-CN201110087238.9有效
发明人：金泰成 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2011-04-02 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本发明提供一种涂覆设备的真空室系统和利用该真空室系统的涂覆方法，所述涂覆方法防止间歇涂覆中的涂覆溶液的吸引现象，使得涂覆的不合格率降低，从而提高了产品质量。在一个实施例中，涂覆设备的真空室系统包括连接到涂覆设备的涂覆溶液出口的真空室。声压产生单元连接到真空室的一个区域，以产生声压。缓冲罐设置在真空室和声压产生单元之间。在真空室系统中，还在真空室和缓冲罐之间设置控制单元。控制单元控制空气使空气被选择性地吸入真空室和声压产生单元中或者与真空室和声压产生单元阻断。
设备真空系统利用方法

[发明专利]一种外表面涂层的真空涂覆工艺方法及涂覆装置-CN200810028745.3无效
发明人：邓立 -专利权人：邓立
申请日： 2008-06-12 - 公布日： 2008-10-22 - 主分类号： B05D1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种外表面涂层的真空涂覆工艺方法及涂覆装置，属表面涂装技术领域，方法的技术要点依次包括表面处理、表面抽真空、涂层涂覆、涂层定厚；装置的技术要点包括工件传送装置，其中，所述的传送装置的传送方向上依次设真空抽吸器、涂覆器和涂层定厚器；所述的真空抽吸器连接真空源；所述的涂覆器连接涂覆材料的供料储罐，涂层定厚器安装在涂覆器后端部；在真空抽吸器、涂覆器与工件表面接触部设有弹性密封件，在真空抽吸器和涂覆器之间还设有弹性密封隔体本发明具有涂覆材料利用率高，涂层附着力强、降低涂层下陷、涂覆加工效率高等优点，用于工件的外表面涂覆处理。
一种外表涂层真空工艺方法装置

[发明专利]一种半导体晶圆背部导热剂涂覆装置及其方法-CN202310917753.8在审
发明人：张智;张传杰;雷华伟;刘志方 -专利权人：浙江拓感科技有限公司
申请日： 2023-07-25 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B05C13/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种半导体晶圆背部导热剂涂覆装置及方法，所述装置包括：支架；涂覆平台，涂覆平台可拆卸安装于支架上；升降台，升降台安装于支架上且位于涂覆平台下方；导热剂涂覆贴，导热剂涂覆贴粘贴于涂覆平台上；液态导热剂，液态导热剂滴加于导热剂涂覆贴表面；真空吸附台，真空吸附台设于升降台上，真空吸附台包括真空吸附柱；待涂覆晶圆，待涂覆晶圆的背部放置于真空吸附柱上，升降台升降带动待涂覆晶圆的背部与导热剂涂覆贴表面接触。本发明提供的半导体晶圆背部导热剂涂覆装置能够保证液态导热剂的涂覆均匀性，保证了待涂覆晶圆正加工面的洁净完整，避免导热剂涂覆过程对晶圆正加工面的意外损伤，有效保证晶圆较加工工艺过程中的稳定性和产品良率。
一种半导体背部导热剂涂覆装置及其方法

[发明专利]活性材料涂覆装置-CN201110183653.4有效
发明人：安善爀;许经宪 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2011-07-01 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：本发明提供一种活性材料涂覆装置，该活性材料涂覆装置通过实现真空腔的密封而将活性材料涂覆到形成可再充电电池的电极板的基板。根据本发明的示范性实施例的活性材料涂覆装置包括：涂覆辊，使形成可再充电电池的电极板的基板前进；狭缝模具，提供在涂覆辊的一侧，设定狭缝孔与基板之间的涂覆间隙，并将处于浆料状态的压力传输的活性材料排出到狭缝孔以将活性材料涂覆到基板；真空腔，安装在狭缝模具的狭缝孔的一侧，以沿涂覆辊的圆周方向部分地围绕涂覆辊并向涂覆到基板的活性材料的涂覆液珠施加负压力；侧密封部，于真空腔的两侧在真空腔和涂覆辊之间密封；以及中央密封部，于侧密封部之间在真空腔和涂覆辊之间密封
活性材料装置

[实用新型]一种电池隔膜表面涂覆装置-CN202123450969.3有效
发明人：赵天宝;毛家容;陈宝书 -专利权人：宜宾锂能新材料科技有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及材料制备技术领域，公开了一种电池隔膜表面涂覆装置，包括：涂覆机与可调节压力值的真空泵，涂覆机包括涂覆板、主体与刮刀组件，涂覆板密封连接在主体上，刮刀组件位于涂覆板的上表面且用于刮涂浆料，包括推杆、刮刀、挡板与微分头；真空泵与主体相连通，涂覆板上设有用于真空吸附固定隔膜的真空孔，并通过主体的内部通道在涂覆板下方形成负压。本实用新型装置通过可以调节宽度与高度的刮刀组件，涂覆不同宽度和厚度的浆料涂层；通过可调节压力值的真空泵，使隔膜平整且紧贴在涂覆板上而不产生真空孔痕；可调节温度的加热网可以满足不同温度的涂覆需求，装置使用方便
一种电池隔膜表面装置

[实用新型]一种陶瓷管负载催化剂设备-CN202121839848.5有效
发明人：钱光人;张佳;吴健忠;岳阳 -专利权人：上海大学材料基因组工程（萍乡）研究院
申请日： 2021-08-06 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： B01D53/88 文献下载
摘要：本实用新型为一种陶瓷管负载催化剂设备，包括：反应池，用于储存待涂覆的试剂；涂覆装置，用于将反应池中的试剂涂覆至管内；回流机构，用于将涂覆装置涂覆过程中剩余的试剂回流至反应池中；真空装置，用于对涂覆装置进行真空处理；其中，反应池通过输送管道连接于涂覆装置的上部；回流机构连接于涂覆装置的底部，且，另一端伸入反应池的内部；真空装置连接于涂覆装置的侧方，且，与涂覆装置内部连通。
一种陶瓷负载催化剂设备

[实用新型]一种实验室小型载体涂覆装置-CN202220149079.4有效
发明人：刘屹;任明松;高亚庆;章达;钱正枝;汪银环 -专利权人：安徽艾可蓝环保股份有限公司
申请日： 2022-01-20 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种实验室小型载体涂覆装置，属于机械设备领域，包括控制系统、真空模块、涂覆模块，控制系统由PLC实现控制，真空模块包括真空泵、真空罐、压力表，压力传感器，真空泵与真空罐通过管道连接且在管道上设有第一电磁阀，压力表与压力传感器设置在所述真空罐上，涂覆模块包括缓冲罐、载体涂覆工位，真空罐与缓冲罐通过管道连接且在管道上设有第二电磁阀，缓冲罐与载体涂覆工位通过管道连接，载体涂覆工位包括载体固定工装、上料工装，载体位于载体固定工装与上料工装之间，载体固定工装位于上料工装之下，本实用新型通过控制涂覆浆料一致性及抽吸压力一致性保证涂覆样品之间的一致性，且保证工艺可在量产涂覆设备上实现。
一种实验室小型载体装置

[实用新型]一种VOCs催化氧化整体式催化剂真空涂覆装置-CN202121786977.2有效
发明人：梁文俊;李庆磊;任思达 -专利权人：北京工业大学
申请日： 2021-08-02 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： B05C15/00 文献下载
摘要：一种VOCs催化氧化整体式催化剂真空涂覆装置，属于催化剂制备领域。包括真空泵(1)、导气管(2)、干燥管(3)、真空表(4)、储料罐(5)、真空涂覆室(6)、涂覆容器(7)、导流管(8)、放空阀门(9)。一次涂覆上载率高，涂层均匀度高，堵塞率低，涂覆效率高，利于载体被涂覆材料润湿与粘附。
一种 vocs 催化氧化整体催化剂真空装置

[实用新型]一种真空负压式涂覆装置-CN202021847257.8有效
发明人：肖雷;刘炜;姚元庆;冯艳婷;陈志坤;杨莎莎 -专利权人：启源（西安）大荣环保科技有限公司
申请日： 2020-08-31 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： B05C3/09 文献下载
摘要：本实用新型属于涂覆装置技术领域，涉及一种真空负压式涂覆装置，包括装置支架，装置支架的下部设置放料仓，放料仓的上方设置有控制箱、真空过渡室、液环式真空泵、涂覆室及气体吸收桶；放料仓与真空过渡室相连通，真空过渡室与涂覆室相连通，液环式真空泵的抽气口与真空过渡室相连，液环式真空泵的排水口连接有排气管道，且排气管道伸入气体吸收桶。利用液环式真空泵将涂敷浆料从放料仓引流到涂覆室，使工件载体在涂覆室内进行充分涂装。该涂覆装置，在实验室内采用真空负压的方式将含催化剂分体的混合浆液涂覆于待涂敷工件载体上，提高了混合浆液在非金属基材上的吸附能力和均匀性。
一种真空负压式涂覆装置

[发明专利]一种工件表面的耐磨耐腐蚀处理方法-CN201710720086.9有效
发明人：霍会宾;苏成明;李世亮;曹鹏;田林飞;李军强 -专利权人：陕西天元智能再制造股份有限公司
申请日： 2017-08-21 - 公布日： 2019-11-19 - 主分类号： C23C24/10 文献下载
摘要：本发明提出一种工件表面的耐磨耐腐蚀处理方法，包括以下步骤：步骤一、配制真空熔覆预涂覆料，所述真空熔覆预涂覆料为镍基自熔合金粉末和粘结胶体的混合物；步骤二、在工件表面预热后均匀涂覆所述真空熔覆预涂覆料，并使所述真空熔覆预涂覆料在工件表面凝固形成预涂覆层；步骤三、将表面形成有预涂覆层的工件放入真空炉中，并在真空炉中采用阶梯加热方式将镍基自熔合金真空熔覆在工件表面，从而在工件表面形成致密的无氧化耐磨耐腐蚀合金涂层。本发明通过对工件表面涂层制备过程中关键工艺参数的探索和优化，最终在复杂工件如双螺杆泵转子上熔覆形成符合要求的耐磨、耐腐蚀修复和保护涂层，具有广阔的推广应用前景。
熔覆工件表面预涂覆耐磨预涂覆层真空炉镍基自熔合金粉末耐腐蚀合金涂层工件表面涂层关键工艺参数镍基自熔合金致密耐腐蚀处理转子表面形成复杂工件加热方式均匀涂覆双螺杆泵粘结胶体制备过程混合物耐腐蚀预热放入配制凝固修复优化探索

[实用新型]用于重稀土扩散法制作钕铁硼永磁的真空磁控涂覆设备-CN201820332172.2有效
发明人：陈刚;张浙军;裴宏伟;邓广林;康振东 -专利权人：山东睿磁真空设备有限公司
申请日： 2018-03-09 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：用于重稀土扩散法制作钕铁硼永磁的真空磁控涂覆设备，包括真空涂覆室，和安装在真空涂覆室内的磁控溅射靶极，真空涂覆室内安装有传动机构，传动机构上设置有用于承载待涂覆工件的承载盘或承载板，所述磁控溅射靶极设置在传动机构的上方本实用新型提供了一种用于重稀土扩散法制作钕铁硼永磁的真空磁控涂覆设备。采用重稀土材料制作磁控溅射靶极的靶材，靶材可以绕管的中心轴线360°匀速旋转，使靶材上的重稀土材料被均匀刻蚀，通过选择适当的磁控溅射靶极间距或者传动机构往复运动的节拍速度，可以控制待涂覆磁铁在靶极下涂覆受热升温时间和未涂覆散热降温时间占比，解决长时间连续涂覆过高的温升问题。
重稀土磁控溅射靶涂覆钕铁硼永磁涂覆设备真空涂覆靶材磁控扩散本实用新型散热降温时间连续室内安装涂覆工件匀速旋转中心轴线受热承载板承载盘磁铁靶极刻蚀绕管温升节拍承载室内

[实用新型]内孔涂覆装置-CN201821117216.6有效
发明人：段绍英;尚华;段冰;黄岷屏;任鹏道;林贵洪 -专利权人：宜宾红星电子有限公司
申请日： 2018-07-13 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： B05C7/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及电子陶瓷涂覆设备领域，尤其是一种内孔涂覆装置。本实用新型所要解决的技术问题是提供一种内孔涂覆装置，包括真空室和浆料注射装置，所述真空室壁面上设置有将真空室内部与外界连通的吸嘴结构，其中，待涂覆产品的内孔与吸嘴结构的嘴口对齐，浆料注射装置注射浆料到待涂覆产品的内孔处，所述浆料通过真空室产生的负压而流经待涂覆产品的内孔并完成待涂覆产品的内孔的涂覆。在本实用新型的构思十分巧妙，利用待涂覆产品的内孔的结构特点，并结合负压，从而实现浆料的涂覆，也使浆料均匀分布于孔内壁，真空室内多余的金属化浆料可以过滤后再次使用，尤其适用于带有内孔的电子陶瓷的内孔涂覆之中
内孔待涂覆产品浆料本实用新型涂覆装置涂覆电子陶瓷吸嘴结构注射装置真空室负压金属化浆料真空室内部涂覆设备外界连通再次使用真空室壁对齐孔内壁和浆嘴口过滤注射室内

[发明专利]涂覆基材的方法-CN97195641.3无效
发明人：维克托·罗斯因斯克;道格拉斯·米恩;保罗·格拉本施泰特尔 -专利权人：恩格尔哈德公司
申请日： 1997-06-06 - 公布日： 2002-01-30 - 主分类号： B05D7/22 文献下载
摘要：一种用涂覆介质涂覆具有多个通道的基材的方法，其中，基材部分地浸入盛有涂覆介质浴的容器中，涂覆介质在基材浸入端上方的体积足以将基材涂覆到所需高度。然后向部分浸入的基材施加真空，其真空度和时间足以将涂覆介质从涂覆介质浴中向上抽入各个通道，以便在其中形成均匀的涂覆外形。$#!
基材方法

[发明专利]凹版印刷板涂覆设备-CN201380019179.9有效
发明人：弗朗索瓦·格雷蒙;劳伦特·克劳德 -专利权人：卡巴-诺塔赛斯有限公司
申请日： 2013-04-12 - 公布日： 2015-01-28 - 主分类号： B41N3/00 文献下载
摘要：在此描述了一种凹版印刷板涂覆设备(1)，该凹版印刷板涂覆设备包括：一个真空室(3)，该真空室具有适配成接收至少一个有待涂覆的凹版印刷板(10)的一个内部空间(30)；一个真空系统(4)，该真空系统被联接到该真空室(3)上并且被适配成在该真空室(3)的内部空间(30)中产生真空；以及一个物理气相沉积(PVD)系统(5)，该物理气相沉积系统被适配成在真空下执行将耐磨涂覆材料沉积到该凹版印刷板(10)的一个雕版表面(10a)上，该物理气相沉积系统(5)包括至少一个涂覆材料靶(51，52)，该至少一个涂覆材料靶包括有待沉积到该凹版印刷板(10)的雕版表面(10a)上的耐磨涂覆材料的一个源头。该真空室(3)被安排成使得有待涂覆的凹版印刷板(10)基本上竖直地安置于该真空室(3)的内部空间(30)中，该凹版印刷板的雕版表面(10a)面向该至少一个涂覆材料靶(51，52)。该凹版印刷板涂覆设备(1)进一步包括一个可移动支架(6)，该可移动支架被定位在该真空室(3)的内部空间(30)中并且被适配成支撑该凹版印刷板(10)并且使其在该至少一个涂覆材料靶(51，52)的前方并且经过该至少一个涂覆材料靶地循环移动
凹版印刷板涂覆设备

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