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- [发明专利]电镀装置-CN01112161.0无效
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龟山工次郎
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三洋电机株式会社
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2001-03-29
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2002-01-30
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C25D7/12
- 要求用1条传送轨道连续地形成多种组合的电镀膜。为响应这个要求而提供一种简便的焊料电镀装置。本电镀装置在传送轨道下设有多个电镀浴槽,该电镀浴槽设有电镀液贮存浴槽。而且,通过用电镀浴槽与电镀液贮存浴槽来转移电镀液,可以选择形成于导电构件21上的电镀膜。因此,可以用1条传送轨道连续地在导电构件21上形成多种组合的电镀膜。
- 电镀装置
- [发明专利]连续电镀铜的方法-CN200910127431.3有效
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大村直之;礒野敏久;清水宏治;立花真司;川濑智弘;星俊作
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上村工业株式会社
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2009-03-11
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2009-09-16
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C25D17/00
- 本发明提供一种连续电镀铜的方法，其是在收纳有硫酸铜镀浴的镀槽中，使用不溶性阳极作为阳极，以被镀物为阴极，对被镀物进行电镀铜的方法，在该方法中，设置与镀槽不同的铜溶解槽，将镀浴转移到铜溶解槽中，并使镀浴从铜溶解槽返回到镀槽，由此使镀浴在镀槽和铜溶解槽之间循环，通过进一步在铜溶解槽中投入铜离子的补给盐并使其溶解，补给因电镀而消耗的镀浴的铜离子，连续进行电镀，该方法的特征在于，在阳极和阴极之间，镀浴可以移动，在镀浴从铜溶解槽返回到镀槽的过程中，使镀浴返回到电镀中的阳极附近，由此可以氧化分解用于补给铜离子的铜离子的补给盐溶解时产生的妨碍电镀性能的成分，可以防止妨碍电镀性能的成分引起的电镀不良。
- 连续镀铜方法
- [发明专利]电镀浴添加剂的去除-CN201880084280.5在审
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泰伊·A·斯柏林;乔纳森·D·里德
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朗姆研究公司
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2018-12-14
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2020-08-21
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C25D21/18
- 在一示例中，一种电镀系统包含：浴贮存器，其具有用于将新鲜的电解质溶液馈入所述浴贮存器的第一入口以及用于将使用过的电解质溶液排出所述浴贮存器的第一出口、用于将再循环电解质溶液接纳到所述浴贮存器中的第二入口以及用于从所述浴贮存器排放电解质溶液的第二出口提供了一种电镀槽，其用于电镀对象。提取柱提取由所述电镀槽所产生的副产物。第一颗粒过滤器设置在所述浴贮存器的所述第二出口与所述电镀槽的所述入口之间的流体路径中，而第二颗粒过滤器设置于所述提取柱的出口与所述浴贮存器的所述第二入口之间的流体路径中。
- 电镀添加剂去除
- [发明专利]降低三价铬电镀浴中铁离子浓度的方法-CN202080083307.6在审
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迈克尔·穆伊格;安克·沃尔特;塞巴斯蒂安·库恩
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德国艾托特克有限两合公司
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2020-12-17
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2022-07-12
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C25D21/18
- 本发明涉及一种降低三价铬电镀浴中铁离子浓度的方法，所述方法包含以下步骤：(i)提供所述三价铬电镀浴，其包含：(a)三价铬离子，和(b)铁离子，(ii)使所述三价铬电镀浴的至少部分经受空气搅拌，以获得所述三价铬电镀浴的至少空气搅拌部分，(iii)使所述三价铬电镀浴的所述空气搅拌部分与离子交换树脂接触，以获得所述三价铬电镀浴的树脂处理部分，以及(iv)将所述三价铬电镀浴的所述树脂处理部分返回到所述三价铬电镀浴，附带条件是‑步骤(i)中提供的所述三价铬电镀浴曾用于或正用于在施加18A/dm2或更大的阴极电流密度的情况下在至少一个基底上电沉积铬层，‑在步骤(iii)之后，所述三价铬电镀浴的所述树脂处理部分中的所述铁离子的浓度低于所述三价铬电镀浴的所述空气搅拌部分中的浓度，以及‑在步骤(iv)之后，基于所述三价铬电镀浴的总体积，所述三价铬电镀浴中的所述铁离子浓度低于50mg/L。
- 降低三价铬电镀浴中铁离子浓度方法
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