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[发明专利]靶材的处理方法-CN201310396542.0在审
发明人：姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;徐清锋 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2013-09-03 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种靶材的处理方法，包括：提供靶材，所述靶材包括边缘区域的非溅射区；对所述靶材的非溅射区表面进行喷砂处理，形成粗糙面；对所述粗糙面进行熔射处理，在所述非溅射区表面形成膜层。经喷砂处理后，靶材的非溅射区表面形成粗糙面；接着，对粗糙面进行熔射处理形成膜层，由于粗糙面凹凸不平，熔化的粉末很容易在粗糙面着陆，而不会滚落。相比于单纯的喷砂处理，经喷砂、熔射处理后的非溅射区表面形成的膜层与非溅射区表面的粘附性强。在将本技术方案的靶材应用到真空溅射较长时间时，即使靶材原子形成堆积，膜层也不会脱落，保持溅射参数稳定。
处理方法

[发明专利]成膜装置-CN201910147039.9在审
发明人：足立耕一 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2019-02-27 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供可有效地抑制粒子附着于被成膜材料上的成膜装置。成膜室(12)具有用以捕获粒子的粒子捕获部，对该粒子捕获部实施滚花加工，在该滚花加工后实施空气喷射加工，且在该空气喷射加工后实施熔射加工。通过熔射加工使粒子捕获部的表面变得比通过空气喷射加工而形成的表面的粗糙度更粗。因此，可使附着粒子的面积变大，从而捕获更多的粒子，由此可有效地抑制粒子附着于被成膜材料上。
加工空气喷射粒子捕获成膜材料成膜装置粒子附着有效地滚花熔射粒子捕获粒子成膜室粗糙度附着捕获

[发明专利]一种单电机驱动全电注塑系统-CN202211558163.2在审
发明人：张文君;钟孟巧;刘宏;林国荣;张远波;陈烨;冯玉强 -专利权人：东华机械有限公司
申请日： 2022-12-06 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： B29C45/54 文献下载
摘要：本发明公开一种单电机驱动全电注塑系统，包括底座、可活动设于底座上的射台组件，底座上设有熔胶筒，熔胶筒中穿设有熔胶螺杆，射台组件驱动熔胶螺杆在熔胶筒中做旋转直线运动，射台组件包括射台支架、设于射台支架上的驱动电机及熔射分动轴，射台支架上设有熔胶带轮和射胶带轮，驱动电机驱动熔射分动轴旋转，熔射分动轴通过熔胶单向轴承与熔胶带轮联动，熔胶带轮驱动熔胶螺杆旋转熔胶，熔射分动轴通过射胶单向轴承与射胶带轮联动，射胶带轮驱动射台支架直线运动在底座上，以带动熔胶螺杆在熔胶筒中直线运动射胶。本发明采用单个电机可实现注塑系统的熔胶与射胶动作，简化注塑系统结构、降低了注塑系统的制作成本。
一种电机驱动注塑系统

[发明专利]一种半导体器件电弧熔射工艺及其智能熔射装置-CN202211220394.2在审
发明人：许杰;孙德付;王益宝;夏礼飞 -专利权人：合肥升滕半导体技术有限公司
申请日： 2022-10-08 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： C23C4/134 文献下载
摘要：本发明公开一种半导体器件电弧熔射工艺及其智能熔射装置，工艺包括：S1、膜层去除；S2、喷砂作业；S3、一次高压清洗；S4、一次烘干检测；S5、熔射作业；S6、二次高压清洗；S7、二次烘干检测。装置包括：底板、加工仓、角度调节框、熔射机。本发明相比于传统的电弧熔射工艺工序少，且生产出的半导体器件质量并不会降低，同时减少了生产成本，提高了生产效率，具有较强的实用性；整体设有多种加工模块，功能齐全，能够完成多种工序，实际生产过程中不需要再对工件进行转移
一种半导体器件电弧工艺及其智能装置

[实用新型]一种注射机的注射装置-CN201420323189.3有效
发明人：张银炫 -专利权人：嵊州市富炫电声器材有限公司
申请日： 2014-06-17 - 公布日： 2014-11-26 - 主分类号： B29C45/54 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种注射机的注射装置，包括熔胶筒，所述的熔胶筒的右侧连接有射台板，所述的熔胶筒的中心设有熔胶螺杆，所述的熔胶螺杆的左端设有熔胶头，熔胶头与熔胶螺杆之间设有一分胶嘴，分胶嘴的外圈套接有分胶圈，射台板的下方设有射台导杆，射台导杆的左端设有射移活塞杆，射移活塞杆的左端外圈设有射移油缸，所述的射移活塞杆的左端设有射移活塞。熔胶头上设有射嘴。射台导杆的下方设有支撑架。熔胶螺杆的左端设有熔胶头，熔胶头上设有射嘴，可减小熔胶的出量；同时射移活塞、射移油缸和射移活塞杆的设计，可对熔胶的出量进行定量控制，避免熔胶浪费，减少电能的浪费，效率较高。
一种注射装置

[发明专利]一种具有熔射层的不粘锅及其加工制造方法-CN202310868988.2在审
发明人：朱泽春;刘海亮;张兆宾;魏云杰 -专利权人：杭州九阳小家电有限公司
申请日： 2023-07-14 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： A47J36/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种不粘锅，包括锅体基材和覆盖在锅体基材内表面的熔射层，锅体基材经拉伸或压铸形成侧壁及底壁，熔射层为经喷枪喷出的高速多粒子叠附形成，包括覆盖锅体基材侧壁的侧熔射层和覆盖锅体基材底壁的底熔射层，底熔射层包括位于锅体基材底壁中心区域的强化熔射层区及外围的过渡熔射层区，强化熔射层区内熔射层的厚度大于过渡熔射层区内熔射层的厚度，且强化熔射层区的覆盖锅体基材中心区域的等效直径小于25mm。本申请提供的不粘锅，其锅具基材底壁中心的熔射层经过增大厚度的强化处理，进而不易脱落，延长使用寿命，并且不易糊锅，还能够同时兼顾锅具基材较大面积的熔射层厚度的均匀性以及底壁中心区域熔射层的强化效果。
一种具有熔射层不粘锅及其加工制造方法

[发明专利]一种射料装置-CN202110996043.X在审
发明人：王耀佳 -专利权人：嘉兴功力机械有限公司
申请日： 2021-08-27 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： B22D17/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种射料装置，包括熔锅和主射料机构，主射料机构包括主熔杯和主压射杆，主熔杯设置在熔锅中，具有主压射腔，主压射杆的下端在主压射腔中，压射管与主压射腔的底部密封连接，还包括密封圈、辅射料机构和连接管，密封圈设置在主熔杯的上端部，主压射杆从密封圈中穿过，并且与密封圈之间形成密封，辅射料机构包括辅熔杯和辅压射杆，辅熔杯设置在熔锅中，具有辅压射腔和吸料孔，吸料孔连通辅压射腔和辅熔杯外部，辅压射杆的下端在辅压射腔中，辅压射杆可相对辅熔杯上下来回移动，连接管的两端分别与辅压射腔的底部和主压射腔的底部密封连接。本发明减少了主熔杯的磨损，大大提高了主熔杯的寿命，降低了生产成本，生产效率高。
一种装置

[实用新型]一种射料装置-CN202122042280.0有效
发明人：王耀佳 -专利权人：嘉兴功力机械有限公司
申请日： 2021-08-27 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： B22D17/30 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种射料装置，包括熔锅和主射料机构，主射料机构包括主熔杯和主压射杆，主熔杯设置在熔锅中，具有主压射腔，主压射杆的下端在主压射腔中，压射管与主压射腔的底部密封连接，还包括密封圈、辅射料机构和连接管，密封圈设置在主熔杯的上端部，主压射杆从密封圈中穿过，并且与密封圈之间形成密封，辅射料机构包括辅熔杯和辅压射杆，辅熔杯设置在熔锅中，具有辅压射腔和吸料孔，吸料孔连通辅压射腔和辅熔杯外部，辅压射杆的下端在辅压射腔中，辅压射杆可相对辅熔杯上下来回移动，连接管的两端分别与辅压射腔的底部和主压射腔的底部密封连接。本实用新型减少了主熔杯的磨损，大大提高了主熔杯的寿命，降低了生产成本，生产效率高。
一种装置

[发明专利]一种适用于物理气相沉积工艺的不锈钢部件的电弧熔射方法-CN202210485916.5在审
发明人：许杰 -专利权人：合肥升滕半导体技术有限公司
申请日： 2022-05-06 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种适用于物理气相沉积工艺的不锈钢部件的电弧熔射方法，涉及不锈钢电弧熔射技术领域。包括以下步骤：S1、去膜操作；S2、酸洗操作；S3、水洗研磨；S4、烘干操作；S5、检测操作；S6、遮蔽操作；S7、喷砂操作；S8、去除遮蔽；S9、二次检测操作；S10、二次水洗研磨；S11、二次烘干；S12、二次遮蔽；S13、熔射操作；S14、二次去除遮蔽和检测操作；S15、高压冲洗；S16、超声波清洗和烘干处理。该适用于物理气相沉积工艺的不锈钢部件的电弧熔射方法，本发明不锈钢部件采用电弧熔射，来达到高粗糙度的金属附着，这样能够有效的吸附附着物的同时也保护了自身基材，可有效的提升维修次数，降低维修的损耗，提高寿命
一种适用于物理沉积工艺不锈钢部件电弧方法

[发明专利]熔射制造模具的方法-CN03119035.9无效
发明人：张海鸥;王桂兰 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2003-05-05 - 公布日： 2003-10-22 - 主分类号： C23C4/06 文献下载
摘要：熔射制造模具的方法，属于注塑成形或金属成形用的模具制造方法，省去由原型翻制被熔射原型或由原型复制橡胶模具再翻制被熔射原型的工序，以缩短工艺流程。本发明依序包括步骤：(1)直接制作被熔射原型，(2)在被熔射原型表面形成熔射层，(3)对熔射层补强，(4)去除被熔射原型得到金属模具。本发明快速、低成本、精度提高，缩短现有的熔射制造模具工艺的流程，适于制造注塑成形或金属成形模具。
制造模具方法

[发明专利]熔射涂层的清洗方法-CN202310813996.7在审
发明人：李仁杰;刘晓刚;刘超;冯卫东 -专利权人：合肥微睿科技股份有限公司
申请日： 2023-07-03 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本发明属于半导体器件清洗技术领域，涉及熔射涂层的清洗方法。针对现有技术中，半导体领域中熔射涂层的清洗再生，一般是将熔射涂层整体去除，易造成的基体工件损伤，需大气等离子体喷涂作业，维修成本高，工艺复杂耗时的技术问题，本申请提供熔射涂层的清洗方法，去除熔射涂层上的灰尘微粒，保留熔射涂层，方法包括有机酸清洗、研磨和高压水洗，在不剥离熔射涂层的前提下，对熔射涂层上的灰尘微粒清洗效果较好，清洗后的熔射涂层性能和再生方式的熔射涂层几乎无差异，满足性能需求的同时，简化了工艺，降低了熔射涂层的维修成本
涂层清洗方法

[发明专利]射胶熔胶控制机构及其控制方法-CN201711324069.X在审
发明人：苏勇 -专利权人：深圳市深格兰机电科技有限公司
申请日： 2017-12-12 - 公布日： 2018-03-30 - 主分类号： B29C45/54 文献下载
摘要：本发明公开一种射胶熔胶控制机构及其控制方法，其中，该射胶熔胶控制机构包括内设有相连通的熔胶腔和射胶腔的壳体、设于所述熔胶腔内的熔胶螺杆、设于所述射胶腔内的柱塞杆、射胶滚珠丝杆、射胶滚珠司筒、熔胶电机和射胶电机；所述熔胶电机的电机轴连接于所述熔胶螺杆；所述射胶滚珠司筒一端固接所述射胶电机的电机轴、另一端适配套设所述射胶滚珠丝杆的周面，所述柱塞杆一端连接所述射胶滚珠丝杆位于所述射胶滚珠司筒外的端面、另一端用以活动抵推所述射胶腔内的熔胶从所述射胶腔的射嘴喷出本发明技术方案能实现射胶熔胶控制机构的高精密注塑。
射胶熔胶控制机构及其方法

[实用新型]射胶熔胶控制机构-CN201721727230.3有效
发明人：苏勇 -专利权人：深圳市深格兰机电科技有限公司
申请日： 2017-12-12 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： B29C45/54 文献下载
摘要：本实用新型公开一种射胶熔胶控制机构，该射胶熔胶控制机构包括内设有相连通的熔胶腔和射胶腔的壳体、设于所述熔胶腔内的熔胶螺杆、设于所述射胶腔内的柱塞杆、射胶滚珠丝杆、射胶滚珠司筒、熔胶电机和射胶电机；所述熔胶电机的电机轴连接于所述熔胶螺杆；所述射胶滚珠司筒一端固接所述射胶电机的电机轴、另一端适配套设所述射胶滚珠丝杆的周面，所述柱塞杆一端连接所述射胶滚珠丝杆位于所述射胶滚珠司筒外的端面、另一端用以活动抵推所述射胶腔内的熔胶从所述射胶腔的射嘴喷出本实用新型技术方案能实现射胶熔胶控制机构的高精密注塑。
射胶熔胶射胶腔滚珠丝杆滚珠司筒本实用新型熔胶电机熔胶螺杆射胶电机熔胶腔柱塞杆注塑电机轴连接一端连接电机轴高精密抵推固接壳体喷出射嘴周面配套

[实用新型]一种喷覆熔射涂层的锅具-CN202221646511.7有效
发明人：朱泽春;李红亮;潘少卿;徐嘉悦 -专利权人：九阳股份有限公司
申请日： 2022-06-29 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： A47J27/00 文献下载
摘要：本申请提供一种喷覆熔射涂层的锅具，所述锅具基体表面附着有熔射层，所述熔射层为合金组合物，所述合金组合物由不同材质金属丝熔射形成，所述熔射层具有位于锅具中心的主喷面，所述主喷面上熔射层的厚度为0.2mm~本申请的锅具内表面的主喷面上的熔射层厚度为0.2mm~0.8mm，一方面避免熔射层过厚而带来锅体冗重的不足，另一方面又防止熔射层过于薄而降低其耐磨等品质，0.2mm~0.8mm的熔射厚度兼顾涂层性能和锅体轻量化，且还需适当的熔射层厚度保证与锅具不粘层的结合强度。
一种喷覆熔射涂层

[发明专利]一种大注射量注塑机射台储射料开关机构-CN202210277172.8在审
发明人：石则满;王旭;孙玉红;王青虎;龚建康;詹亮焜 -专利权人：浙江旭昌昇装备科技有限公司
申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： B29C45/54 文献下载
摘要：本发明公开了注塑机领域的一种大注射量注塑机射台储射料开关机构，包括熔胶筒和挤出螺杆，所述挤出螺杆设置在所述熔胶筒的内部，所述熔胶筒一端部设置有熔胶射座，所述熔胶射座内部一体成型有L型的通道一，所述熔胶射座内部下方设置有针阀一，所述熔胶射座底端设置有熔胶接座，所述熔胶接座下方设置有射料座。本发明中针阀一安装在熔胶射座和熔胶接座内通道内；针阀二安装在射料座和射嘴接座二内通道内，针阀一和针阀二互为关联的开闭，储料筒中的熔融胶料就不会因为反流到熔胶筒内，而形成倒流造成注射量不足和注射精度偏差，确保注塑机的熔胶和射胶精度更加精准。
一种注射注塑机射台储射料开关机构