专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种真空热压烧结备的高性能氮化铝陶瓷基板及制备方法-CN202110824142.X有效
  • 伍尚华;汪亮;郭伟明;盛鹏飞;林坤吉 - 广东工业大学
  • 2021-07-21 - 2022-12-23 - C04B35/581
  • 本发明公开了一种真空热压烧结备的高性能氮化铝陶瓷基板及制备方法,涉及氮化铝陶瓷技术领域。其由以下重量份组分用真空热压烧结备得到:氮化铝90‑100份,稀土氢化物0‑10份;或者,氮化铝90‑100份,稀土氢化物0‑10份,稀土氟化物0‑10份。本发明提供的真空热压烧结备的高性能氮化铝陶瓷基板,稀土氢化物、稀土氢化物与稀土氟化物作为烧结助剂,其加入有助于降低烧结的温度,促进烧结致密;选用的烧结助剂可与氧杂质反应,净化晶格,有效提高热导率。本发明提供的真空热烧结进行制备的陶瓷基板,在炉体压力的作用下,以及流动氮气氛围下有利于氮化铝的生成,进一步促进烧结致密化,同时能有效减小晶粒的尺寸,从而提高陶瓷的抗弯强度。
  • 一种真空热压烧结法制性能氮化陶瓷制备方法
  • [发明专利]一种氧气氛无压烧结备ITO靶材的方法-CN201010597008.2无效
  • 陈敬超;周晓龙;杜焰;阮进;于杰;冯晶 - 昆明理工大学
  • 2010-12-20 - 2011-08-31 - C04B35/64
  • 本发明公开了具有较强创新性的烧结ITO靶材的方法,其目的是通过对烧结工艺的优化,实现无压氧气氛烧结,最终得到高致密度、高性能的靶材。该方法以烧结为基础,根据ITO靶材的烧结特性,采用分段烧结工艺,通过控制进入炉膛的氧气流量来控制烧结气氛中的氧分压,抑制ITO靶材的分解,最终得到了致密度高于99.3%,导电性能好的靶材。本发明的氧气氛无压烧结是一种新型的陶瓷烧结方法,主要应用于易分解的氧化物陶瓷的烧结,其设备简单,烧结制品不受尺寸限制,可生产大尺寸的陶瓷制品,应用这种方法制备ITO靶材尚属首次,制备得到的ITO靶材性能优于目前常用的热压烧结、热等静压烧结和普通的常压烧结
  • 一种氧气氛无压烧结法制ito方法
  • [发明专利]用于烧结备铝盐酸水泥的预热设备-CN202111394882.0在审
  • 杨青 - 江苏中意建筑材料有限公司
  • 2021-11-23 - 2022-02-15 - B28B17/02
  • 本发明公开了用于烧结备铝盐酸水泥的预热设备,涉及铝盐酸水泥加工设备技术领域,包括预热舱,所述预热舱的内部固定套装有输料管,且预热舱的底部固定安装均匀分布的支撑底座,所述输料管的左端延至预热舱的外部并固定套装有驱动电机该用于烧结备铝盐酸水泥的预热设备,通过驱动电机和活动轴以及绞龙叶片和电热管的配合使用,使得该用于烧结备铝盐酸水泥的预热设备能够将原料注入输料管的内部,之后启动驱动电机和控制器,驱动电机启动后通过其输出轴带动活动轴和绞龙叶片旋转
  • 用于烧结法制盐酸水泥预热设备
  • [发明专利]一种基于气氛烧结备的氮化硅耐磨片-CN202010515694.8在审
  • 瞿友福 - 浙江锐克特种陶瓷有限公司
  • 2020-06-08 - 2020-09-01 - C04B35/584
  • 本发明公开了一种基于气氛烧结备的氮化硅耐磨片,所述基于气氛烧结备的氮化硅耐磨片以氮化硅(Si3N4)、碳氮化钛(TiCN)、助烧剂为原料,所述基于气氛烧结备的氮化硅耐磨片是将氮化硅(Si3N4)、碳氮化钛(TiCN)、助烧剂混合均匀得到氮化硅配方粉将所述配方粉在钢模中干压成型得到耐磨片成型坯体,将所述氮化硅耐磨片成型坯体进行塑封,在90‑150MPa条件下进行冷等静压处理,保压时间为30‑90S,在1‑10MPa惰性或还原气体氛围中1650‑1800℃的条件下烧结2‑4小时,气氛烧结后的瓷片经冷却,在水中振磨抛洗2‑8小时制得。
  • 一种基于气氛烧结法制氮化耐磨

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