专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种降低叶黄素溶剂残留装置-CN202223242192.6有效
  • 刘艳普;李俊侠;郑国义 - 山东广通宝医药有限公司
  • 2022-12-01 - 2023-05-12 - B01D3/38
  • 本实用新型涉及化工设备技术领域,特别是涉及一种降低叶黄素溶剂残留装置,在盛有产品的搅拌罐中通入蒸气,通过搅拌机构进行搅拌,使蒸气和产品充分接触,带出残留溶剂,在冷却器和搅拌罐之间加入U型管,防止水蒸气回流,整个系统在真空条件下,降低系统温度,去除溶剂残留更彻底,而且不会回流造成样品二次污染;包括搅拌罐和搅拌机构,搅拌机构设置于搅拌罐上;还包括蒸汽进口、冷凝水出口、排出管、U型管、储存机构和冷却机构,蒸汽进口设置于搅拌罐的上部
  • 一种降低叶黄素溶剂残留装置
  • [发明专利]一种盐酸头孢唑兰的制备方法-CN201510566040.7有效
  • 张颖;时洪涛;郑均飞;朱玉正 - 济南康和医药科技有限公司
  • 2015-08-29 - 2017-08-22 - C07D519/06
  • 本发明以中间体头孢唑兰为起始物反应物,研究如何制备水分含量低、有机溶剂残留低,符合日本JP15药典中盐酸头孢唑兰原料药的要求,本发明采用以下技术方案(1)式Ⅱa头孢唑兰以有机溶剂和水为溶剂,和盐酸反应生成Ⅰa盐酸头孢唑兰溶剂化物;(2)Ⅰa溶剂化盐酸头孢唑兰在水溶剂下,滴加三乙胺,反调制备头孢唑兰,得到溶残合格的Ⅱb头孢唑兰;(3)溶残合格的Ⅱb头孢唑兰以醚类溶剂为反应溶剂,通HCl气体成盐得水分含量合格的盐酸头孢唑兰通过该技术方案制备的终产品纯度达到99.0%以上、溶剂残留和水分含量均符合药典标准,可直接用于药物制剂。
  • 一种盐酸头孢制备方法
  • [实用新型]一种适用凹印系统降低产品溶剂残留的装置-CN202121148454.5有效
  • 王晨光;陈太连;李伟松;吴官良 - 浙江爱迪尔包装股份有限公司
  • 2021-05-26 - 2021-12-03 - B41F31/08
  • 本实用新型公开了一种适用凹印系统降低产品溶剂残留的装置,包括自动添加器、印刷机和干燥设备,自动添加器连接印刷机,印刷机连接干燥设备,自动添加器包括涂料箱,涂料箱的内壁上安装液位探测器,涂料箱的外壁上安装控制器,涂料箱的顶部固定安装混料器,混料器的顶板一侧固定连接料粉桶,混料器的顶板另一侧通过管道连接溶剂桶,且涂料箱和溶剂桶间的管道上安装有泵和流量计,干燥设备包括干燥箱,干燥箱连接印刷机,干燥箱的外壁上安装换热箱自动对印刷机进行稳定地补料,避免人工匆忙间配比错误导致的溶剂超标,印刷品通过干燥设备干燥,通过换热箱将热风干燥排出的热风进行热回收,避免热风残留溶剂再次进入干燥箱,降低产品溶剂残留
  • 一种适用系统降低产品溶剂残留装置
  • [发明专利]一种刻蚀残留物清洗剂-CN202210130669.7在审
  • 郭启祯;程挥戈;苏双峰;鄢艳华;周达文 - 深圳新宙邦科技股份有限公司
  • 2022-02-12 - 2023-08-22 - C11D7/26
  • 本发明涉及清洗工艺技术领域,具体涉及一种刻蚀残留物清洗剂。本发明所述清洗剂包括:羟胺,水,有机溶剂和螯合剂,以所述清洗剂的总质量为100%计,所述羟胺的含量为10‑15%,所述有机溶剂的含量为50‑63%;当有机溶剂含量/羟胺含量=a时,满足水含量/8≤a≤水含量本发明所述的清洗剂,能够实现在不腐蚀特定材料(尤其是金属铝)的情况下,去除掉刻蚀后残留的聚合物碎片、有机金属残留、金属氧化物等杂质,且使用效果好,制备方法简单,具有较好的市场前景。
  • 一种刻蚀残留物洗剂

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