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[实用新型]一种清洗设备及清洗液供应装置-CN202320577071.2有效
发明人：高创;张国庆;韩小琴;程膘 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2023-03-22 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种清洗设备及清洗液供应装置，清洗设备包括清洗槽和清洗液供应装置，清洗液供应装置包括流量调节阀和至少两个清洗液供应管路，至少两个清洗液供应管路并联；每个清洗液供应管路包括至少一个喷头，喷头设置在清洗槽内，并将清洗液喷入清洗槽；至少一个清洗液供应管路上设置所述流量调节阀，流量调节阀调节对应的清洗液供应管路供应的清洗液的流量。如此配置，可以使得进入清洗槽内的清洗液的总流量较为平稳地增加，避免总流量突然变化而瞬间冲击晶圆，引起晶圆震动或移位，导致晶圆缺陷或破片，提高产品良率和稳定性。
一种清洗设备供应装置

[发明专利]用于清洗经历抛光的硅片的清洗装置、方法及相关设备-CN202011284131.9在审
发明人：白宗权 -专利权人：西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请日： 2020-11-17 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种用于清洗经历抛光的硅片的清洗装置、方法及相关设备，所述清洗装置包括承载单元、清洗液供应单元和清洗液喷射单元，其中，所述承载单元用于对所述硅片进行承载，所述清洗液供应单元用于将清洗液供应至所述清洗液喷射单元，所述清洗液喷射单元设置在与所述承载单元承载的硅片相对的位置处以将所述清洗液供应单元供应的清洗液喷射至所述硅片，其中，所述清洗液包括酸性液和碱性液，并且所述清洗液供应单元构造成将所述酸性液和所述碱性液以交替的方式反复供应至所述清洗液喷射单元
用于清洗经历抛光硅片装置方法相关设备

[发明专利]湿式清洗设备-CN200910004319.0无效
发明人：林宗融;苏德修 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2009-02-06 - 公布日： 2009-07-08 - 主分类号： B08B3/00 文献下载
摘要：本发明为一种湿式清洗设备，包括基板搬运装置以及清洗液供应装置。基板搬运装置具有承载面，且承载面具有倾斜角度，因而承载面具有较高部位以及较低部位。清洗液供应装置设置于基板搬运装置的上方，其中清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路以及多个喷嘴。清洗液供应管路的延伸方向与基板搬运装置的承载面实质平行。多个喷嘴装设于清洗液供应管路上，其中对应设置在承载面的较高部位的喷嘴的清洗液喷出量总合，大于对应设置于承载面的较低部位的喷嘴的清洗液喷出量总合。
清洗设备

[实用新型]电子元件的清洗装置-CN200820036068.5无效
发明人：曹建东;温贻芳;顾涛;王勇;袁淑会 -专利权人：苏州工业职业技术学院
申请日： 2008-05-27 - 公布日： 2009-04-22 - 主分类号： B08B3/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种电子元件的清洗装置，包括可容置清洗液的清洗槽体和清洗液供应系统：所述该清洗槽体的底部至少有一进液口，其与所述的清洗液供应系统相连接以便为所述的清洗槽体供应清洗液；所述的清洗液供应系统具有可调节清洗液流量的流量控制装置以控制清洗液流速该清洗装置结构简单，制作成本低廉，由于清洗液流动液面平稳，因而提高了清洗效果，且不会对产品产生损害，消除了清洗液对产品阴阳极引出线的腐蚀隐患。
电子元件清洗装置

[发明专利]清洗设备-CN201710248501.5在审
发明人：蔡家寿;杨志仁;余昇峰;刘建成;林伟胜 -专利权人：矽品精密工业股份有限公司
申请日： 2017-04-17 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及清洗设备。一种半导体制程用的清洗设备，包含有用以装载清洗液的液体供应源、用以过滤该清洗液的过滤器、用以将该清洗液喷洒于物件上的供应装置、以及用以检测经该过滤器过滤后的清洗液品质的第一感测器，以确保该供应装置所喷洒的清洗液符合所需规范
清洗液清洗设备过滤器供应装置喷洒过滤半导体制程液体供应源感测器物件装载检测

[实用新型]一种牛肉加工设备清洗消毒系统-CN202221776888.4有效
发明人：金中芳;何永军;方汉期 -专利权人：广东温瓯食品科技有限公司
申请日： 2022-07-09 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开一种牛肉加工设备清洗消毒系统，包括清洗液输出设备、控制箱、冷水供应设备、热水供应设备、泡沫清洗剂供应设备和消毒水供应设备；所述清洗液输出设备包清洗液中转箱、清洗液输出软管和喷枪，所述冷水供应设备、热水供应设备、泡沫清洗剂供应设备和消毒水供应设备均与清洗液中转箱连通；通过冷水供应设备、热水供应设备、泡沫清洗剂供应设备、消毒水供应设备和清洗液输出设备，能对车间内的场地和加工设备进行冷水清洗、热水清洗、泡沫清洗和消毒水清洗，且还能通过中转箱把冷水、热水、泡沫清洗剂和消毒水灵活组合成各种清洗液，再通过清洗液输出软管和喷枪把清洗液喷洒至车间内的场地和加工设备上。
一种牛肉加工设备清洗消毒系统

[发明专利]蚀刻装置及其蚀刻方法-CN202080016475.3在审
发明人：李昇勋;牟圣元;李羊浩;裵祯贤;朴成焕;赵显东 -专利权人：杰宜斯科技有限公司
申请日： 2020-04-22 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种蚀刻装置及其蚀刻方法，蚀刻装置包含：蚀刻液供应部，蚀刻液供应部向蚀刻腔室供应蚀刻液；冲洗液供应部，冲洗液供应部向蚀刻腔室供应冲洗液；清洗液供应部，清洗液供应部向蚀刻腔室供应清洗液；及第一加压维持部，第一加压维持部使蚀刻腔室与蚀刻液供应部中至少任意一个维持在加压环境。
蚀刻装置及其方法

[实用新型]清洁部件的清洗装置和表面清洁设备-CN202120370373.3有效
发明人：唐成;钟亮;段飞 -专利权人：北京顺造科技有限公司
申请日： 2021-02-10 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： A47L11/00 文献下载
摘要：本公开提供一种清洁部件的清洗装置，其包括：清洗液体供应部，所述清洗液体供应部用于向所述清洁部件提供清洗液体；以及清洗组件，所述清洗组件能够产生高频振动，并且通过将该高频振动施加于所述清洁部件的方式，对所述清洁部件进行清洗；其中，所述清洁部件被驱动以使得所述清洁部件与清洗液体供应部和清洗组件之间产生相对运动；沿所述清洁部件的运动方向，所述清洗装置位于所述清洗液体供应部将清洗液体提供至清洁部件的位置的下游侧。
清洁部件清洗装置表面设备

[发明专利]清洁部件的清洗装置、清洗方法、表面清洁设备和基站-CN202110185424.X有效
发明人：唐成;钟亮;段飞 -专利权人：北京顺造科技有限公司
申请日： 2021-02-10 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： A47L11/292 文献下载
摘要：本公开提供一种清洁部件的清洗装置，其包括：清洗液体供应部，所述清洗液体供应部用于向所述清洁部件提供清洗液体；以及清洗组件，所述清洗组件能够产生高频振动，并且通过将该高频振动施加于所述清洁部件的方式，对所述清洁部件进行清洗；其中，所述清洁部件被驱动以使得所述清洁部件与清洗液体供应部和清洗组件之间产生相对运动；沿所述清洁部件的运动方向，所述清洗装置位于所述清洗液体供应部将清洗液体提供至清洁部件的位置的下游侧。本公开还提供一种清洁部件的清洗方法、表面清洁设备、基站和表面清洁系统。
清洁部件清洗装置方法表面设备基站

[实用新型]用于液压动力单元的油箱-CN202122831754.X有效
发明人：赵维青;赵苏文;唐咸弟;同武军;关清涛;刁欢;赵德;段明付 -专利权人：中国海洋石油集团有限公司;中海油能源发展股份有限公司
申请日： 2021-11-17 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： F15B1/26 文献下载
摘要：本实用新型提供用于液压动力单元的油箱，箱体采用球形结构，在箱体的内壁最高点处设置输液管，输液管的尾端设置喷头，喷头采用中空球状结构，在喷头的侧壁上均匀开设有喷水口，清洗液供应箱的出液口通过清洗液供应管与输液管的进液口相连通，在清洗液供应管上设置清洗液阀门，清洗液自清洗液供应箱内经清洗液供应管向输液管输送清洗液，清洗液供应管上的清洗液阀门用于控制清洗液供应管的开闭程度，在箱体的侧壁上分别开设有进液口和出液口，进液口与箱体的最高点处的垂直距离不小于箱体的半径的一半该油箱无需工人进入狭小油箱内进行手动清洗；促使杂质聚集于一处，便于清洗以及清洗后的废液排出。
用于液压动力单元油箱

[发明专利]样本分析系统和装置、清洗液制备装置及清洗液供应方法-CN202110725252.0在审
发明人：高木龙辉;若宫裕二 -专利权人：希森美康株式会社
申请日： 2016-10-14 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： G01N35/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够使新制备的清洗液占存放的清洗液的大部分并能用存放的清洗液迅速清洗样本分析装置的样本分析系统、清洗液制备装置、样本分析装置以及清洗液供应方法。清洗液的制备方法包括：在存放部件存放清洗样本分析装置所使用的清洗液，使用所述存放部件中存放的所述清洗液，所述存放部件内的所述清洗液的余量低于第一量时，向所述存放部件补给清洗液，在满足了预先设定的条件时，在使得用于向所述存放部件供应清洗液的流路的阀关闭的状态下，使用所述清洗液直至所述存放部件内的所述清洗液的余量变为比所述第一量少的第二量，之后，打开所述阀，向所述存放部件补给清洗液。
样本分析系统装置清洗制备供应方法

[实用新型]一种用于喷涂器的清洗液切换装置-CN202120806080.5有效
发明人：杨建伟;郭成 -专利权人：东莞市漆兄弟喷涂设备科技有限公司
申请日： 2021-04-19 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： B05B15/55 文献下载
摘要：本实用新型涉及喷涂器技术领域，尤其是指一种用于喷涂器的清洗液切换装置，包括清洗液切换阀，清洗液切换阀设有清洗切换气路控制端、清洗液供应端、清洗液主流道供给端及清洗液旋杯外供给端，清洗切换气路控制端用于控制清洗液切换阀的阀芯阻挡清洗液供应端与清洗液主流道供给端的连通或阻挡清洗液供应端与清洗液旋杯外供给端的连通，清洗液旋杯外供给端经由旋杯外清洗管道与旋杯喷涂器的旋杯外清洗流道连通，清洗液主流道供给端经由导流控制组件与旋杯喷涂器的主流道连通。本实用新型能够对旋杯喷涂器的主流道和旋杯进行切换清洗，清洗便捷、质量好和高效，解决了难以对主流道和旋杯进行清洗的问题。
一种用于喷涂清洗切换装置

[发明专利]晶圆清洗装置-CN201410365916.7在审
发明人：杨贵璞;王坚;王晖 -专利权人：盛美半导体设备(上海)有限公司
申请日： 2014-07-29 - 公布日： 2016-02-10 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明揭示了一种晶圆清洗装置，用于清洗晶圆表面，该清洗装置包括：清洗腔；装卸载台，布置在清洗腔内；喷嘴，内嵌在装卸载台的表面；清洗液供应管道，与喷嘴连接；压力调节阀，设置在清洗液供应管道上；清洗时，晶圆位于装卸载台的上方并距离装卸载台一预定距离，晶圆旋转，喷嘴向晶圆表面喷射清洗液，压力调节阀调节供应至喷嘴的清洗液的压力，使供应至喷嘴的清洗液的压力值保持在清洗液既能够接触到晶圆表面，清洗晶圆表面，又不损坏晶圆上的结构。本发明晶圆清洗装置既去除晶圆表面上的颗粒，又不损坏晶圆上的结构，从而提高了该清洗装置的可靠性。
清洗装置

[发明专利]一种表层土壤污染清洗修复装置-CN202310822857.0在审
发明人：崔婧;雷桂芹;徐聃宁;隋建红 -专利权人：山东省煤田地质规划勘察研究院
申请日： 2023-07-06 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B09C1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种表层土壤污染清洗修复装置，包括移动车辆、框架、上料机构、料筒、清洗过滤机构和清洗液循环供应机构，框架的后端与移动车辆的前端相连接，料筒、清洗过滤机构和清洗液循环供应机构均安装于框架的中间，清洗过滤机构位于料筒的下方并与料筒相连通，上料机构安装于框架的前端；清洗液循环供应机构的进口端与清洗过滤机构的清洗液出口相连接，清洗液循环供应机构的出口端对准料筒并用于向料筒内输送清洗液；料筒内的土壤和清洗液落入至清洗过滤机构内；清洗过滤机构用于土壤的清洗和过滤。本发明清洗修复装置通过移动车辆实现移动，能实现表层污染土壤的大面积清洗修复，土壤清洗修复效率高，使用相当方便。
一种表层土壤污染清洗修复装置

[发明专利]一种浸没式超滤膜离线清洗装置-CN202211013202.0在审
发明人：韩向红;董毅;张晋峰;袁国光;梁珂冰;关赛赛;杨爽 -专利权人：邯郸钢铁集团有限责任公司;河钢股份有限公司邯郸分公司
申请日： 2022-08-23 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： B01D65/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种浸没式超滤膜离线清洗装置，包括清洗水箱、清洗液供应系统、膜丝挂架和正洗配水管道，所述正洗配水管道安装在清洗水箱的顶板下部并通过正洗进料阀与清洗液供应系统连接，所述膜丝挂架安装在正洗配水管道的下方，膜丝挂架内部的配水管道通过反洗进料阀与清洗液供应系统连接，所述清洗水箱设有清洗液加热系统和曝气系统，清洗水箱底部通过水箱出口阀与清洗液供应系统连接。本发明利用清洗液加热系统对清洗液进行加热，通过提高清洗液温度来增加污染物和反应产物的溶解度，不仅可减少水耗、药耗及压缩空气的消耗量，降低清洗成本，而且有效提高了清洗效果，延长了超滤膜的使用寿命。
一种浸没超滤膜离线清洗装置

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