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- [发明专利]微粒涂布设备及方法-CN202310216058.9在审
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迈克·维鲁夫
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迈克·维鲁夫
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2023-03-08
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2023-09-12
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C23C14/22
- 本发明涉及一种涂布微粒的涂布设备、涂布微粒的方法以及相应的用途。所述涂布设备包括涂布室和布置于涂布室中的涂布装置。该涂布装置包括含轴线的中空体、微粒源和微粒槽以及至少一个涂布源，中空体内壁围绕中空体轴线形成微粒轨迹。涂布源适于沿垂直于中空体轴线的方向发射涂布材料。涂布装置还包括旋转装置和清洁装置，旋转装置适于使中空体绕其轴线旋转，清洁装置以相对于中空体静止的方式布置于中空体内部并适于从中空体内壁清除附着的涂布材料。
- 微粒布设方法
- [发明专利]涂布装置-CN201610718005.7在审
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铃木晓雄
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东丽工程株式会社
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2016-08-24
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2017-03-15
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B05C5/02
- 提供涂布装置，能够通过提高涂布膜形成结束时的止液的响应性而形成均匀厚度的涂布膜。该涂布装置具有载台部，其对基板进行载置；以及涂布液提供部，其向涂布喷嘴提供涂布液，一边将从涂布液提供部提供的涂布液从涂布喷嘴喷出，一边使涂布喷嘴与载台部相对地移动，从而在基板上形成涂布膜，该涂布装置还具有涂布液吸引部，其对涂布喷嘴内的涂布液进行吸引，涂布液吸引部具有吸引源以及吸引用容器，该吸引用容器配置于将该吸引源与涂布喷嘴连结的配管路径中，其直径比配管的直径大，涂布液吸引部的吸引动作是在来自涂布喷嘴的涂布液的液面存在于吸引用容器的状态下通过吸引源使吸引用容器内减压而进行的
- 装置
- [发明专利]一种晶圆正面涂源装置-CN202210120586.X在审
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李学良;马晓洁;敬毅;谢雷;罗艳
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四川洪芯微科技有限公司
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2022-02-09
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2022-05-13
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H01L21/67
- 一种晶圆正面涂源装置，包括支撑架、转动机构、顶升机构、防护罩，矫正机构及刮涂机构；转动机构，其设于支撑架上，包括转动构件和固定构件，转动构件用于驱动固定构件进行转动，固定构件用于晶圆的放置固定；顶升机构设于转动机构上；防护罩设于支撑架上；矫正机构其设于防护罩上，当晶圆转动时，以使晶圆绕其几何中心进行转动；刮涂机构，其设于防护罩上，用于扩散源的涂盖操作。方便进行晶圆的涂源操作，在涂源时通过缓速涂布的方式进行涂布，从而当源液的粘稠度较低时，也方便进行源液的涂布操作，同时在涂布时能降低源液的浪费量，而在涂源时采用由内而外的刮涂方式，能将源液均匀地涂布在晶圆上
- 一种正面装置
- [发明专利]双错位涂布方法及装置-CN201611033402.7在审
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张文广;龙海;陶兴华;谢斌
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宁德新能源科技有限公司
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2016-11-22
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2017-02-22
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B05D1/26
- 本申请涉及涂布加工领域，尤其涉及一种双错位涂布方法及装置。方法包括：在基材张紧输送过程中采用负压源贴合吸附待涂布面；在基材输送至涂布位置后，移动负压源，使待涂布面与错唇模头贴合；采用吻涂方式对待涂布面进行涂布；在涂布至预定长度后，移动负压源，使待涂布面与错唇模头脱离负压组件、移动组件以及吻涂组件；第一辊以及第二辊平行间隔设置，负压组件包括吸附头，吸附头在输送方向上位于第一辊以及第二辊之间；吻涂组件包括错唇模头，错唇模头在输送方向上位于吸附头与第二辊之间，且朝向待涂布面本申请的双错位涂布方法和装置能够保证涂布重量均匀。
- 错位方法装置
- [发明专利]微凹涂布机-CN201210454757.9有效
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杨志明
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深圳市信宇人科技有限公司
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2012-11-14
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2013-02-13
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B05C9/08
- 一种微凹涂布机，包括放卷装置、微凹涂布头、烘烤和冷却箱及收卷装置，隔膜从放卷装置出来，经微凹涂布头涂布浆料，再经烘烤和冷却，进入收卷装置收卷，所述微凹涂布机的展平系统包括位于微凹涂布头的微凹陶瓷网纹辊两侧的第一展平辊和第二展平辊，以及位于烘烤和冷却箱内的隔膜两侧边紧贴下底面的一个以上的真空展平装置，所述真空展平装置包括与负压源连接的负压源器件和设有许多吸附孔的吸附件，所述吸附件相对于所述负压源器件运动，并被负压源器件有选择性控制吸附件上的部分吸附孔与外界相通本微凹涂布机在隔膜被涂布和行进过程中采用综合展平技术，提高隔膜的展平效果。
- 微凹涂布机
- [实用新型]微凹涂布机-CN201220599606.8有效
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杨志明
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深圳市信宇人科技有限公司
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2012-11-14
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2013-05-08
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B05C9/08
- 一种微凹涂布机，包括放卷装置、微凹涂布头、烘烤和冷却箱及收卷装置，隔膜从放卷装置出来，经微凹涂布头涂布浆料，再经烘烤和冷却，进入收卷装置收卷，所述微凹涂布机的展平系统包括位于微凹涂布头的微凹陶瓷网纹辊两侧的第一展平辊和第二展平辊，以及位于烘烤和冷却箱内的隔膜两侧边紧贴下底面的一个以上的真空展平装置，所述真空展平装置包括与负压源连接的负压源器件和设有许多吸附孔的吸附件，所述吸附件相对于所述负压源器件运动，并被负压源器件有选择性控制吸附件上的部分吸附孔与外界相通本微凹涂布机在隔膜被涂布和行进过程中采用综合展平技术，提高隔膜的展平效果。
- 微凹涂布机
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