专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种二氧化粉体的制备方法-CN202010312772.4有效
  • 谈发堂;马伟涛 - 湖北联合贵稀资源再生科技有限公司
  • 2020-04-20 - 2023-09-29 - C01G17/02
  • 本发明公开了一种二氧化粉体的制备方法,涉及半导体氧化物制备技术领域。具体包括:将四氯化液体均匀地加入温度为0~10℃的高纯水或二次蒸馏水中,搅拌水解反应成悬浊液后,进行固液分离,得到二氧化滤饼和含母液,再将二氧化滤饼干燥、粉碎,得二氧化粉体;二氧化干燥过程中产生的含酸性气体进行二级冷凝回收,酸性含废液返回提取生产,四氯化返回水解生产二氧化。本发明摒弃传统四氯化水解、多次洗涤、干燥工艺,大大减少了二氧化滤饼的洗涤用水,减少了含母液的量;且将产生的含酸性气体进行分级冷凝回收,减小水解、洗涤、干燥生产二氧化过程中因四氯化挥发造成的损失
  • 一种氧化锗粉体制备方法
  • [发明专利]一种FDSOI的硅层的制作方法-CN202111053103.0在审
  • 陈勇跃;洪佳琪;颜强;谭俊;周海锋;成鑫华;方精训 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2021-09-08 - 2022-01-14 - H01L21/762
  • 本发明提供一种FDSOI的硅层的制作方法,方法包括:提供SOI基片;在SOI基片的顶层硅上外延形成硅层;形成覆盖硅层的硅盖帽层;在硅盖帽层上沉积含有氧自由基的氧化物,以形成氧化物材料层;在硅层表面热氧化形成氧化层,硅层的厚度同时被减小,利用氧化物材料层中氧自由基的催化氧化作用使硅盖帽层氧化,且在氧化层和硅层的界面处形成凝聚;进行热退火将氧化层和硅层界面处凝聚的扩散到整个硅层;刻蚀去除氧化物材料层和氧化层本发明不仅实现了硅层浓度的提升,还降低高浓度硅层制备所需的时间和热预算,同时还保证硅层的工艺质量,使得硅层能很好的适用于半导体器件的制作,使半导体器件的性能得到改善。
  • 一种fdsoi锗硅层制作方法
  • [发明专利]火法从褐煤中提取的方法-CN200810233658.1无效
  • 葛启明;李巴克 - 云南蓝湾矿业有限公司
  • 2008-12-01 - 2009-04-22 - C22B41/00
  • 本发明一种火法从褐煤中提取的方法,其特征在于:含褐煤在立窑炉的火法冶炼过程中挥发,使挥发的控制条件为:温度为1150~1250℃;适合的还原气氛,二氧化形式存在的经过碳粒及一氧化碳的还原反应后生成一氧化;适合的氧化气氛使一氧化随着同时挥发出来的烟尘颗粒遇到烟气管中的过量氧气氧化成了二氧化;二氧化通过冷却器使温度降低,生成的二氧化变成了固态,附在了烟尘颗粒的表面上,富的烟尘颗粒经过静电除尘器后,附着在了静电除尘器上,收集富的静电尘,即得到精矿。本发明工艺技术先进、经济实用、提成本较低,比起链条炉提工艺及其它的提方法,具有的挥发效率高、静电尘的直收率高、静电尘的含品位高、产出静电尘的后期湿法处理收率高、易于后续加工等优点。
  • 火法褐煤提取方法
  • [发明专利]制备纯羧乙基三氧化的方法-CN95193177.6无效
  • M·阿诺德 - 维瓦美国销售有限公司
  • 1995-12-22 - 1997-06-25 - C07F7/30
  • 制备不含有毒杂质的纯羧乙基三氧化的合成方法,在此方法中不使用二氧化和金属作为起始原料,该方法包括如下步骤(a)不含任何残余的四氯化以确保不生成二氧化;(b)除去任何二氧化;(c)除去后来由任何二氧化产生的任何四氯化;(d)最后除去任何二氧化。在另一方法中,当在室温下倾入非极性烷基溶剂优选己烷中用卤代溶剂优选二氯甲烷从浓溶液中直接沉淀制备中间体TPA,然后将其转化为羧乙基三氧化
  • 制备乙基氧化方法
  • [发明专利]一种氧化生产用提纯设备及其使用方法-CN202310810757.6在审
  • 卢鹏荐;曾小龙;张林;蒋东;范晨光;袁珊珊 - 武汉拓材科技有限公司
  • 2023-07-03 - 2023-09-29 - B01J19/26
  • 本发明公开了一种氧化生产用提纯设备及其使用方法,属于化工生产技术领域,通过设置投料筒来进行送料,二氧化粉末脱离螺旋叶片时能够被若干个打散片进行打散,打散后的二氧化粉末落至倒锥形设计的喷气罩上,氢气能够从喷气罩上的分流孔喷出,将二氧化粉末吹起,二氧化粉末则吹出隔离罩并且置于预热筒内,随着二氧化粉末在隔离罩与预热筒之间下落,喷气罩底部的喷嘴再次吹向二氧化粉末,使二氧化粉末向预热筒底部的中心处集中,直至二氧化粉末和氢气一并进入还原炉中,使氢气和二氧化粉末在进入还原炉前能够充分接触,混均后再进入还原炉中进行反应,因而有利于氧化的高效、稳定提纯作业。
  • 一种氧化生产提纯设备及其使用方法
  • [发明专利]一种从高含硅光纤生产废料中回收的方法-CN201811537883.4有效
  • 李世平;钟波 - 六盘水中联工贸实业有限公司
  • 2018-12-15 - 2023-09-05 - C22B7/00
  • 本发明公开了一种从高含硅光纤生产废料中回收的方法,包括以下步骤:(1)将高含硅光纤生产废料磨细至100目以上,然后加入硫化剂并混合均匀制粒为直径1‑5mm;(2)进行的硫化挥发,并收集硫化挥发烟尘,或收集硫化与二氧化的混合挥发烟尘;(3)将获得的含烟尘进行微波氧化焙烧或其他形式的氧化焙烧、或直接进行硫酸氧化浸出;(4)将高含微波氧化焙烧产物直接进行盐酸氯化蒸馏,获得四氯化进行水解得到二氧化精矿;(5)将步骤(2)及步骤(3)的低含物料进行硫酸氧化浸出,浸出液用丹宁沉淀或有机溶剂萃取提取富集,生产精矿。本发明能够高效率、低成本地从含硅达95%以上的物料中提取分离、硅。
  • 一种高含硅光纤生产废料回收方法
  • [发明专利]一种微纳米二氧化锗晶体的制备方法及其制得的产品-CN201510283056.7有效
  • 肖卓豪 - 景德镇陶瓷学院
  • 2015-05-28 - 2015-09-16 - C01G17/02
  • 本发明公开了一种微纳米二氧化锗晶体的制备方法,以普通二氧化粉体为原料,经高温融化后得到二氧化高温液体;将所述二氧化高温液体淬冷而形成二氧化玻璃块;将所述二氧化玻璃块破碎得到二氧化玻璃粉;将所述二氧化玻璃粉倒入水中与水反应;反应产物干燥后即获得微纳米二氧化锗晶体粉体材料。本发明通过以普通二氧化作为原料获得高附加值微纳米二氧化锗晶体的同时,确保了制备过程的安全环保,并且避免生成物被污染及产生缺陷的可能,极大地提高了生产效率、降低了微纳米二氧化的制备成本,有利于促进二氧化半导体光电子材料技术及应用的发展
  • 一种纳米氧化晶体制备方法及其产品
  • [发明专利]高纯二氧化的生产方法-CN202211546614.0在审
  • 邱加焕;吴军;钟明志;刘坚;韦日问;罗少家;薛凤昌;潘东;莫兴泉 - 广西誉升锗业高新技术有限公司
  • 2022-12-05 - 2023-01-31 - C01G17/02
  • 本发明公开了一种高纯二氧化的生产方法,包括:(1)将含精矿放入蒸馏釜中,加入二氧化锰或三氯化铁、硝酸、硫酸和盐酸进行氯化蒸馏,得到粗四氯化;(2)将粗四氯化与盐酸加入蒸馏釜内,连续通入氯气,蒸出纯化后的四氯化;(3)将纯化后的四氯化转移到精馏塔中加热到60‑75℃,再将精馏塔温度升高到80‑90℃,同时加入惰性气体气化高纯四氯化;(4)将气化后的四氯化气体通入超纯水中,控制溶液的pH值≤6,四氯化与水发生水解反应,抽滤法进行固液分离,得到二氧化固体;(5)将二氧化用超纯水洗涤多次,烘干得到高纯二氧化。本发明高纯二氧化的生产方法,能降低高纯二氧化中氯的含量,二氧化的纯度能到99.9999%以上。
  • 高纯氧化生产方法

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