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[发明专利]陶瓷砖粘结剂及其制备方法与制备系统-CN202210363336.9在审
发明人：沈月国 -专利权人：江苏雄鹰建材科技有限公司
申请日： 2022-04-07 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： C04B18/16 文献下载
摘要：该陶瓷砖粘结剂中的每千克陶瓷抛光粉废弃物超细粉表面积不小于500㎡，所述陶瓷抛光粉废弃物分级细砂粒度范围为40～200目；本发明的陶瓷砖粘结剂的制备方法，包括如下步骤：制备陶瓷抛光粉废弃物超细粉：取陶瓷抛光粉废弃物进行压滤、烘干至含水量小于0.8％；利用选粉设备选择粒径小于70um的陶瓷抛光粉废弃物颗粒；本发明通过的筛选框在往复运动的过程中，会使得筛选框内的陶瓷抛光粉废弃物颗粒发生运动，这样可以防止大粒径的陶瓷抛光粉废弃物颗粒堵住筛选网
陶瓷砖粘结及其制备方法系统

[发明专利]一种显示屏打磨清洗垫及其制备方法-CN202111256943.7在审
发明人：林业怀;邓光荣;李胜林 -专利权人：广东伟艺精细研磨科技有限公司
申请日： 2021-10-27 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： B24D3/28 文献下载
摘要：本发明提出了一种显示屏打磨清洗垫，包括基材和浆料，其中，所述基材选用聚氨酯过滤海绵，所述浆料包括底浆和面浆，且底浆和面浆的组成都包括：氧化铈磨料0％～40％；硅烷偶联剂1％～3％；聚氨酯胶黏剂40％～80本发明相对于现有的显示屏抛光磨具来说，具有更加优良的刚弹性、耐磨度、研磨力、抗拉扯力和不易烂等性能，还具有抛光皮、抛光革不具有的“自洁”功能，因为有着较大的孔隙率，抛光粉尘易于从空隙处出去，一般加水抛，水可以带走粉尘，不易积粉损伤工件。
一种显示屏打磨清洗及其制备方法

[发明专利]一种石材抛光粉-CN201610018671.X有效
发明人：陈孝章;陈应挺;陈华实 -专利权人：上海欧柏森环境工程管理有限公司
申请日： 2016-01-13 - 公布日： 2017-12-15 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种石材抛光粉，由草酸、磨粒、草酸氢盐、氧化铁、三聚氰胺组成，其中草酸氢盐和草酸的摩尔比为12‑5，三聚氰胺和草酸的摩尔比为15‑10。本发明通过倒入草酸和磨粒进行搅拌直至均匀，再加入草酸氢盐继续搅拌均匀，再加入氧化铁，在氧化铁的作用下直到色泽均匀，最后加入三聚氰铵合成石材抛光粉。本发明的有益效果是草酸在抛光的同时也逐渐被水解成其他物质，不但起到作抛光作用，同时能很好地保护石材不被草酸所烧。
一种石材抛光

[发明专利]一种具有长效性的稀土抛光剂-CN201810812302.7在审
发明人：何士忠 -专利权人：蚌埠中梁机械科技有限公司
申请日： 2018-07-23 - 公布日： 2018-12-04 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明属于眼镜片抛光设备用稀土抛光剂技术领域，具体涉及一种具有长效性的稀土抛光剂，包括以下重量份的原料：氧化铈抛光粉30‑40份、改性六环石粉20‑30份、水30‑40份、二聚体聚酯二醇3‑7份、环糊精本发明相比现有技术具有以下优点：本发明中通过合理配比各原料，得到各原料分布均匀的抛光剂，适合用于树脂镜片抛光，具有极低的粘度和高铺展性，能够有效延长保存周期，降低长期保存后刮伤比率，切削力强，抛光效率高，抛光后易清洗。
抛光剂稀土抛光长效性氮丙啶类化合物二聚体聚酯二醇氧化铈抛光粉长期保存多官能度高铺展性合理配比六环石粉抛光设备抛光效率树脂镜片共溶剂环糊精抗菌剂切削力眼镜片易清洗重量份助悬剂改性刮伤保存

[发明专利]一种用玻璃抛光废渣压坯烧结技术制备磨盘用稀土抛光粉的方法-CN202111602691.9在审
发明人：罗浩宁 -专利权人：甘肃金阳高科技材料有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： C22B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及废渣再利用技术领域，具体涉及一种用玻璃抛光废渣压坯烧结技术制备磨盘用稀土抛光粉的方法，包括如下步骤：调浆、过滤、湿法球磨、气浮除杂、多级曝气、升温搅拌、压滤、重结晶、离心分离、蒸馏、精馏、调浆洗涤、烘干、压坯、烧结和破碎、分级、混料包装；本发明是采用了压坯烧结技术使抛光废渣中的细小颗粒再次紧密团聚在一起，通过煅烧使各细小颗粒之间发生固相反应，氟元素在颗粒间迁移形成新的氟氧化物，由于颗粒的紧密接触限制了晶粒的球形化，从而形成了多个非球形结合面，使得再生的抛光粉团聚颗粒的棱角又增加了，同时提升了再生抛光粉的团聚强度。
一种玻璃抛光废渣烧结技术制备磨盘稀土方法

[发明专利]一种水泥窑协同处置稀土抛光粉废料的系统与方法-CN201810648415.8在审
发明人：肖喜才 -专利权人：长沙中硅水泥技术开发有限公司
申请日： 2018-06-22 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： C22B7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种水泥窑协同处置稀土抛光粉废料的系统与方法，系统包括：废料预处理系统、转化焙烧系统、浸取分离系统以及水泥窑系统；其采取铵盐焙烧、溶解回收提取稀土抛光粉废料中高价的稀土物质；利用水泥窑的原材料适用性强的特点处置因稀土抛光粉废料化学回收处理中产生的残渣，利用水泥窑高温碱性处理稀土抛光粉废料化学回收处理中排放的气体，利用水泥窑废弃的低温余热蒸发结晶和干燥物料，以及利用水泥窑脱硝需要的铵类脱硝剂作为化学处理稀土抛光粉废料所需要的铵盐，处理后排出的氨气作为水泥窑脱硝剂，实现三废的有效治理；从而真正实现稀土抛光粉废料的无害化、资源化和终极化处置。
稀土抛光粉水泥窑化学回收脱硝剂铵盐氨气焙烧协同水泥窑系统预处理系统焙烧系统低温余热分离系统干燥物料高温碱性化学处理稀土物质有效治理蒸发结晶无害化终极化资源化浸取脱硝铵类后排溶解废弃回收排放转化

[发明专利]一种再生应用于水晶玻璃的废弃稀土抛光粉的方法-CN201110265136.1有效
发明人：雷华;张序虎;张甜甜;鲁阳 -专利权人：金华冠华水晶有限公司;浙江大学
申请日： 2011-09-08 - 公布日： 2012-03-28 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种再生应用于水晶玻璃的废弃稀土抛光粉的方法，具有如下工艺过程：(1)利用筛分设备对稀土抛光粉废渣进行粗筛去除杂物及大颗粒；(2)对稀土抛光粉废渣调浆，并利用重选设备进行重选分选，分离得到的重组分为高含量的稀土抛光粉废弃物；(3)再用强酸进行化学处理溶解其中的可溶物；(4)把废弃物经过800℃以上的高温焙烧，去除其中的热固性树脂及有机油污，并提高稀土抛光粉的硬度；(5)降温后磨细焙烧物，达到可重新作为抛光粉使用的粒径范围
一种再生应用于水晶玻璃废弃稀土抛光方法

[实用新型]一种水泥窑协同处置稀土抛光粉废料的系统-CN201820965018.9有效
发明人：肖喜才 -专利权人：长沙中硅水泥技术开发有限公司
申请日： 2018-06-22 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： C22B7/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种水泥窑协同处置稀土抛光粉废料的系统，系统包括：废料预处理系统、转化焙烧系统、浸取分离系统以及水泥窑系统；其采取铵盐焙烧、溶解回收提取稀土抛光粉废料中高价的稀土物质；利用水泥窑的原材料适用性强的特点处置因稀土抛光粉废料化学回收处理中产生的残渣，利用水泥窑高温碱性处理稀土抛光粉废料化学回收处理中排放的气体，利用水泥窑废弃的低温余热蒸发结晶和干燥物料，以及利用水泥窑脱硝需要的铵类脱硝剂作为化学处理稀土抛光粉废料所需要的铵盐，处理后排出的氨气作为水泥窑脱硝剂，实现三废的有效治理；从而能真正实现稀土抛光粉废料的无害化、资源化和终极化处置。
稀土抛光粉水泥窑化学回收脱硝剂铵盐氨气焙烧协同本实用新型水泥窑系统预处理系统焙烧系统低温余热分离系统干燥物料高温碱性化学处理稀土物质有效治理蒸发结晶无害化终极化资源化浸取脱硝铵类后排溶解废弃回收排放转化

[发明专利]一种石材护理用抛光粉的制备方法-CN201911203130.4在审
发明人：潘安 -专利权人：深圳市思创力石材护理有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种石材护理用抛光粉的制备方法，包括以下步骤：S1，准备以下重量份的原料：水200‑260份、氧化铈20‑26份、氧化锡12‑18份、氧化硅7‑13份、氧化铝10‑16份、氢氧化钠4‑10份、草酸40‑46份、草酸氢氨10‑16份、三聚氰胺2‑8份、聚乙烯蜡3‑8份、酚醛树脂4‑10份、硬脂酸6‑12份；S2，将氧化铈、氧化锡、氧化硅、氧化铝、聚乙烯蜡、酚醛树脂、硬脂酸依次通过研磨辊研磨成粉末状本发明设计合理，不仅能够起到较好的抛光效果，避免造成划痕，而且能够降低草酸的腐蚀性，起到保护石材的效果，提高石材表面光泽度。
一种石材护理抛光制备方法

[发明专利]一种高分散类球纳米氧化铈抛光液及其应用-CN202210989564.7有效
发明人：王杰;黄晓伟;袁黎光;钱金龙;杨小牛 -专利权人：广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院
申请日： 2022-08-18 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种高分散类球纳米氧化铈抛光液及其应用，抛光液包括类球纳米氧化铈粉体；所述类球纳米氧化铈粉体的制备方法，包括如下步骤：（1）将四价铈盐与聚乙烯吡咯烷酮溶液混合配成铈盐溶液，并添加沉淀剂和氧化剂，于70‑90℃高速剪切，直至生成沉淀，制得前驱体浆液；（2）将前驱体浆液洗涤至中性，然后进行喷雾干燥，得到氧化铈前驱体，向其中添加助熔盐，并细化物料，再次进行喷雾干燥；（3）将得到的物料进行煅烧，得到纳米氧化铈粉体所得产品粒径可控，形貌均一，粒度分布范围窄，拥有极高的分散性，不会划伤抛光件的表面，更容易获得低粗糙度的表面。
一种分散纳米氧化抛光及其应用

[发明专利]一种球型复合稀土抛光粉的制备方法-CN201110426077.1无效
发明人：周新木;李永绣;岑志军 -专利权人：南昌大学
申请日： 2011-12-19 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：一种球型复合稀土抛光粉的制备方法，按以下步骤：镧和铈的氯化物按氧化物的质量比10：90～40：60溶于50℃～90℃水中，浓度0.1～2.0mol/L；搅拌下，将铵或碱金属硫酸盐加入50℃～90℃的氯化稀土溶液中，量为稀土氧化物的2-6%；搅拌下，将氟化物与碳酸盐或碳酸氢盐中的一或两种按摩尔比CO32-/F-=3～4混合，0.5～3小时内加入稀土溶液中，量为理论量的1.0～1.3倍，搅拌0.5～2小时；50℃～95℃保温0.5～3小时；过滤或离心分离，100℃～150℃干燥、粉碎；800℃～1100℃温度煅烧；粉碎分级，控制抛光粉粒度0.3～0.7um。本发明具有很好的球形，粒度较小，有较好的粒度分布和很好的悬浮性，原料来源广泛，价格低廉，方法简单易行，对光学玻璃、硅晶片、显示屏等材料的抛光可提高表面性能，减少表面划痕。
一种复合稀土抛光制备方法

[发明专利]一种光学玻璃抛光盘及其制造方法-CN201710874055.9在审
发明人：王佳佳 -专利权人：王佳佳
申请日： 2017-09-25 - 公布日： 2018-05-25 - 主分类号： B24D13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学玻璃抛光盘及其制造方法，该抛光盘原料包括抛光粉、树脂、氨基脂、造孔剂、固化剂、催化剂，各原料的重量百分比为：抛光粉30％～45％，树脂6％～18％，造孔剂10％～22％，氨基脂0.2 ％～20％，固化剂8％～18％，催化剂8％～18％；本发明的抛光盘在配方上做了改进，直接减少了抛光粉的用量，降低制造成本，减少环境污染，还能降低对人体的伤害；加入的氨基脂有机高分子聚合物与树脂交联反应后粘合力强、韧性好；配位结合后的抛光粉莫氏硬度高，加大其磨削力度；最终实现抛光盘出光率高、抛光效果好且耐用，每年单浦江一个县能省下稀土抛光粉300～400吨。
抛光粉抛光盘氨基脂树脂光学玻璃固化剂造孔剂催化剂有机高分子聚合物抛光盘原料稀土抛光粉重量百分比交联反应莫氏硬度抛光效果配位结合制造成本出光率粘合力磨削制造配方伤害改进

[实用新型]一种抛光粉多级筛分装置-CN202120830745.6有效
发明人：李加海;谭鸿 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2021-04-20 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： B07B1/28 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抛光粉多级筛分装置，包括外筛箱，所述外筛箱的上方开设有进料口，进料口内下方连接导料漏斗，所述外筛箱的内部开设筛分腔体，筛分腔体内设置多级筛粉组件；所述多级筛粉组件包括筛料斗、外接座、本实用新型抛光粉多级筛分装置，能够对抛光粉进行多级筛分，通过不同孔径的筛料孔从而对抛光粉件选择性筛分，多组筛料斗之间可拆分取出，便于对筛分好的抛光粉进行收集，整体组装方便，且收集腔大，可便于一次性筛分多量的抛光粉
一种抛光多级筛分装置

[发明专利]一种玻璃用抛光液及其应用-CN202011574389.2有效
发明人：杨安;潘慧 -专利权人：安徽中飞科技有限公司
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种玻璃用抛光液，属于玻璃表面加工领域。本发明玻璃用抛光液包括以下含量的组分：抛光粉4‑10g/L，分散剂300‑315g/L，氧化腐蚀剂20‑120g/L，碱性腐蚀剂3‑15g/L，酸碱试剂0.1‑1g/L，余量为水；其中酸碱试剂为酸性试剂本发明玻璃用抛光液利用机械磨削与化学腐蚀的协同作用来减少传统抛光法产生的表面瑕疵，提升玻璃的表面质量，同时使用聚二甲基硅氧烷作为分散剂，以更好的提高抛光粉的分散性和防沉性，充分发挥抛光粉的机械磨削作用。
一种玻璃抛光及其应用

[发明专利]脱除废弃抛光粉中硅铝杂质的方法-CN201710284541.5在审
发明人：杨玉飞;潘悦怡;黄启飞;张晶;王希尹;杨金忠;迭庆杞;方艳艳 -专利权人：中国环境科学研究院
申请日： 2017-04-25 - 公布日： 2017-09-05 - 主分类号： C09G1/00 文献下载
摘要：本申请提供一种脱除废弃抛光粉中硅铝杂质的方法，包括提供含有硅铝杂质的废弃抛光粉；提供浓度为0.25摩尔/升至1.75摩尔/升的碱溶液，并将所述废弃抛光粉加入所述碱溶液中进行浸出反应，浸出反应时间为65分钟至105分钟，浸出反应温度为85摄氏度至95摄氏度，所述碱溶液中的碱与所述废弃抛光粉的质量比为0.75～1.5；将浸出反应后的混合液降温至室温，从而获得反应后的浸出液；对所述浸出液进行过滤处理，过滤得到脱除出所述硅铝杂质的废弃抛光粉
脱除废弃抛光粉中硅铝杂质方法