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[发明专利]一种用于抛光砷化镓的抛光粉体及抛光液的制备方法-CN201911189209.6有效
发明人：周利虎;付莹;徐丹丹 -专利权人：德米特(苏州)电子环保材料有限公司
申请日： 2019-11-28 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： C09G1/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于抛光砷化镓的抛光粉体及抛光液的制备方法，包括：1）将含有特定形貌的α‑三氧化二铝的白刚玉球磨至D50在4‑10μm，分离出3‑25μm的α‑三氧化二铝浆液；2）将含有特定形貌二氧化锆的锆英砂作为原料球磨至D50在4‑10μm，分离出3‑25μm的二氧化锆浆液；3）将α‑三氧化二铝浆液、二氧化锆浆液和润滑剂混合，喷雾干燥，筛分，制得；控制α‑三氧化二铝浆液中含有的粉体与二氧化锆浆液中含有的粉体投料质量比为1∶0.9‑1.1；及采用上述抛光粉体与水混合制成抛光液的方法；本发明制备的抛光粉体在应用于表面处理后，在保证砷化镓表面没有划伤等表面缺陷的前提下实现高切削率
一种用于抛光砷化镓制备方法

[发明专利]一种回收废弃抛光粉中稀土组分的方法-CN202210279767.7有效
发明人：黄红军;苟浩然 -专利权人：中南大学
申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： B03D1/018 文献下载
摘要：本发明公开了回收废弃抛光粉中稀土组分的方法，本发明根据抛光粉失效的原因，首先通过破碎和粉碎工艺是稀土氧化物暴露出来，并且进一步通过草酸清洗去除稀土氧化物表面的其他污染物，暴露出稀土氧化物的晶面，然后通过高效的捕收剂在浮选过程中对其进行捕收本发明通过干燥脱水、破碎、磨矿、清洗、浮选、脱水过滤、烘干等工序，将废弃抛光粉中的稀土组分作为精矿选别出来，可作为抛光粉的再生利用。
一种回收废弃抛光稀土组分方法

[发明专利]一种适宜于工业化生产的二氧化铈纳米粉体的制备方法-CN202010870862.5在审
发明人：张军;于俊超;刘宝仓;荆鹏 -专利权人：内蒙古大学
申请日： 2020-08-26 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： C01F17/235 文献下载
摘要：本发明公开了一种适宜于工业化生产的二氧化铈纳米粉体的制备方法。本发明首先提供了一种由胺和水组成的二氧化碳气体捕集剂，该气体捕集剂可快速吸收捕集大量温室气体二氧化碳制备液体沉淀剂，液体沉淀剂更利于工业生产，解决沉淀剂难洗涤、难运输等问题；可以直接将固体铈盐加入液体沉淀剂中制备水合碳酸氧铈水合碳酸氧铈经分离、干燥、球磨和煅烧处理可以得到粒径30‑80nm的球形(类球形)二氧化铈纳米粉体。本发明所制备的二氧化铈纳米粉体可呈球形、类球形、纤维状等，产品可用于高端抛光粉、催化剂载体、纳米添加剂等。
一种适宜于工业化生产氧化纳米制备方法

[发明专利]一种表面改性稀土抛光粉制备工艺-CN202310361666.9在审
发明人：许鹏 -专利权人：许鹏
申请日： 2023-04-06 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C09G1/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种表面改性稀土抛光粉制备工艺，包括以下步骤：1)将氟氧化物加分散剂进行混料过筛，再用气流磨粉碎；2)将粉碎后的混料进行射流分级；3)加入了湿润剂、分散剂进行混料；4)用除铁器除去混料中铁磁性杂质清除后，即可制得表面改性稀土抛光粉。表面改性稀土抛光粉加水稀释可形成稳定并能够抛光使用的悬浮液；成品便于贮存、运输；生产技术简单、设备配套成熟，生产成本低。
一种表面改性稀土抛光制备工艺

[发明专利]一种废旧稀土抛光粉的回收再生制备方法-CN201510437815.0在审
发明人：杜长镐;谷登宇 -专利权人：西安西光精细化工有限公司
申请日： 2015-07-23 - 公布日： 2015-10-07 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种废旧稀土抛光粉回收再生制备方法，包括以下步骤：1、将废旧的稀土抛光粉加一定量水浸泡1.5-2.5小时后，依次用50-100目及500-1000目的筛网对滤液过筛处理，待滤液沉淀后180-220℃烘干，得到提纯精制的废旧稀土抛光粉；2、称取提纯精制后的废弃稀土抛光粉：100份、添加剂I：1-5份、添加剂II：5-15份，混合均匀后研磨5-30分钟，其中添加剂I为硫酸铵、添加剂II为二氧化硅；3、将研磨后的物料装罐，在炉中700-1000℃焙烧2-6小时，随炉自然冷却后开炉门取出；4、对物料进行球磨至所需粒度并烘干、装袋即可；本发明采用加入添加剂的方法使废旧抛光粉再生，工艺简单、生产成本低、回收效率高，再生的抛光粉综合性能好，整个回收再生过程最大限度地减少了环境污染。
一种废旧稀土抛光回收再生制备方法

[发明专利]一种去除贵金属纳米线阵列背面金膜电极的机械抛光方法-CN201110317071.0无效
发明人：张俊喜;张立德;许伟;章天赐;胡小晔;方明;刘毛 -专利权人：中国科学院合肥物质科学研究院
申请日： 2011-10-19 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： B24B27/033 文献下载
摘要：本发明提供了一种去除贵金属纳米线阵列背面金膜电极的机械抛光方法，包括加工和固定抛光过程所用的支撑体，将粗抛光与精细抛光两道工艺有效结合，达到去除电极的目的，其中，粗抛光所用的材料是粒度为9-11μm的氧化铝抛光粉，而精细抛光所用的材料则是粒度为3.4-3.6μm的细的氧化铝抛光粉，将这两种粒度的抛光粉分别用去离子水配制30-60g/L的悬浮液，用脱脂棉球蘸取少量悬浮液进行抛光。
一种去除贵金属纳米阵列背面电极机械抛光方法

[发明专利]一种用于红玛瑙抛光的抛光粉的制备方法-CN201610291821.4有效
发明人：李慧芝;裴梅山;卢燕 -专利权人：济南大学
申请日： 2016-05-05 - 公布日： 2017-07-25 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于红玛瑙抛光的抛光粉的制备方法，其特征在于，该方法具有以下工艺步骤在反应器中，按如下组成质量百分浓度加入，铅粉5~8%，复合物80~88%，氧化锡5~13%，各组分之和为百分之百，开启研磨机，以500转/分的转速，研磨30~60min，得到玛瑙抛光粉，其中复合物中含有纳米氮化铝、氧化铝、氧化锆、氧化铁、氧化钴。抛光过程，具有粉体抛光效果好，光泽度，无划痕，平整度高，粉的用量少。
一种用于玛瑙抛光制备方法

[发明专利]硅铈抛光液及其制备方法-CN201410589847.8有效
发明人：张海龙;张磊;王红艳 -专利权人：安阳方圆研磨材料有限责任公司
申请日： 2014-10-29 - 公布日： 2017-11-10 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种硅铈抛光液，其含有微米级二氧化铈粉体，纳米级二氧化铈粉体，胶体二氧化硅，琥珀酸酯或盐，阴离子分散剂，和余量的水；其中所述微米级二氧化铈粉体的粒径为0.5~2.0μm，并且粒径为1.5μm以下的微米级二氧化铈粉体占60%以上，粒径为1.8μm以上的占5%以下；所述纳米级二氧化铈粉体的粒径为20~100 nm，且粒径为50nm以下的纳米级二氧化铈粉体占30~35%，粒径为80nm以上的占10~15%。本发明的硅铈抛光液，可以用于玻璃、蓝宝石、树脂镜片以及半导体基片的高精度研磨和抛光工艺，具有抛光效率高、抛光精度高，切削率高的优点。
抛光及其制备方法

[发明专利]一种磁流变抛光胶及其制备方法-CN201710662144.7有效
发明人：曹建国;李建勇;朱朋哲;聂蒙;徐金环 -专利权人：北京交通大学
申请日： 2017-08-04 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： H01F1/44 文献下载
摘要：本发明提供了一种磁流变抛光胶及其制备方法。磁流变抛光胶由羰基铁粉(30％‑70％)、抛光粉(2％‑7％)、凝胶(0.5％‑5％)、气相二氧化硅(0.2％‑1.5％)、去离子水(10％‑35％)、甘油(15％‑40％)组成。制备方法包括：(1)根据磁流变抛光胶的配方称取羰基铁粉、抛光粉、气相二氧化硅、凝胶、去离子水及甘油；(2)将甘油和去离子水放入容器中，搅拌得到甘油水溶液，加热后将凝胶在搅拌下溶于甘油水溶液形成混合溶液。(3)将称取的羰基铁粉、气相二氧化硅和抛光粉，依次加入到混合溶液，再搅拌得到磁流变抛光胶。(4)将形成的磁流变抛光胶放入冷藏室冷藏，取出可用。本发明的磁流变抛光胶制备方法简单，且具有较高的稳定性和较高的剪切屈服应力，能满足加工的性能要求。
磁流变抛光气相二氧化硅去离子水羰基铁粉抛光粉甘油凝胶制备甘油水溶液混合溶液称取放入容器剪切屈服性能要求冷藏室放入可用加热冷藏配方取出加工

[发明专利]人造大理石抛光粉改性HDPE木塑复合材料及其制备方法-CN201811324032.1在审
发明人：何慧;刘宇星;陈韩江;田生慧 -专利权人：华南理工大学;东莞市拓展实业有限公司
申请日： 2018-11-08 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： C08L23/06 文献下载
摘要：本发明公开了人造大理石抛光粉改性HDPE木塑复合材料及其制备方法；按质量分数计，木塑复合材料的原料组分组成为：HDPE树脂100份；植物纤维20‑60份；废人造大理石抛光粉20‑60份；膨胀型阻燃剂20本发明可有效地回收利用废人造大理石抛光粉，能够改善难以高效回收利用废人造大理石抛光粉的处理现状。本发明加入的膨胀型阻燃剂与人造大理石抛光粉中的氢氧化铝协同作用，能够有效地给予材料良好的阻燃性能，且综合力学性能良好。
人造大理石抛光粉木塑复合材料膨胀型阻燃剂界面改性剂改性HDPE 有效地制备聚烯烃弹性体接枝马来酸酐聚乙烯接枝马来酸酐综合力学性能硅烷偶联剂高效回收回收利用聚磷酸铵氢氧化铝植物纤维阻燃性能硼酸锌钛酸酯

[发明专利]含纳米混合抛光粉的磁流变抛光液及其制备方法-CN202011554452.6在审
发明人：戴一帆;林之凡;彭小强;胡皓;关朝亮;何康宁 -专利权人：中国人民解放军国防科技大学
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种含纳米混合抛光粉的磁流变抛光液及其制备方法。该磁流变抛光液包括40％～70％的基载液、20％～50％的羰基铁粉、1％～15％的纳米混合抛光粉、1％～5％的表面活性剂和0.1％～3％的pH调节剂，纳米混合抛光粉由平均粒径为10nm～100nm的纳米二氧化硅粉和平均粒径为50nm～800nm的纳米金刚石粉组成，二者的体积比为5～9∶4～1，制备方法包括将羰基铁粉、纳米混合抛光粉、基载液混合，然后加入表面活性剂和pH调节剂即得。本发明的磁流变抛光液可实现磁流变抛光高去除效率和高表面质量的兼容，流变性能好，稳定性强，能够实现光学元件的磁流变高效超光滑加工。
纳米混合抛光流变及其制备方法

[发明专利]一种利用抛光粉废料制备的高性能稀土纳米涂料及其制备方法-CN202211486688.X有效
发明人：刘金龙;尹健;张光睿;张琪;秦晓婷;王丁卉;李璐;彭维;阚丽欣 -专利权人：天津包钢稀土研究院有限责任公司
申请日： 2022-11-25 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C04B26/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种利用抛光粉废料制备的高性能稀土纳米涂料及其制备方法，涂料包括质量比为5：3：2的纳米稀土浆料、有机树脂、流平剂，所述纳米稀土浆料包括质量比为2：1的纳米稀土溶液、助剂，所述纳米稀土溶液包括质量比为1：1的纳米稀土粉体、化学溶液，所述纳米稀土粉体由包括如下重量百分比的原料制得：抛光粉废料2‑20%，碳粉1‑10%，氧化硼粉末2‑20%，余量为水。本发明所述的高性能稀土纳米涂料不仅保证了产品的高散热性能，并且所使用的原材料为抛光粉废料、碳粉和氧化硼粉末，具有更低的成本，更好的散热性能。
一种利用抛光废料制备性能稀土纳米涂料及其方法

[发明专利]使用高岭土生产抛光粉的方法-CN200710300043.1无效
发明人：李凯琦;汤红伟;陆银平 -专利权人：河南理工大学
申请日： 2007-12-11 - 公布日： 2008-05-28 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：使用高岭土生产抛光粉的方法属于抛光材料的制备技术领域，是一种利用高岭土为原材料来制备抛光粉的技术。对高岭土进行磨矿和分级加工，使矿粉最大粒径控制在5μm以下，然后对其进行脱水、干燥和煅烧，形成抛光粉；按照本发明的生产方法生产出的高岭土抛光粉，对光学玻璃的抛光效果达到了国标规定的Ⅵ级标准，能满足光学玻璃抛光的需要，能抛光硬度小于7.0的各种材料，也可以将生产出的高岭土抛光粉与树脂混炼，制成抛光块，用于大理岩、花岗岩等石材的抛光。
使用高岭土生产抛光方法

[发明专利]一种蓝色大理石抛光粉的制备方法-CN201710811237.1有效
发明人：李慧芝;卢燕;翟殿棠 -专利权人：济南大学
申请日： 2017-09-11 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种蓝色大理石抛光粉的制备方法，其特征在于，（1）AlN‑ZrO2复合物的制备：按下列组分加入，水：40~46%，氯氧化锆：20~26%，纳米氮化铝：30~36%，氢氧化钠：1~5%，室温搅拌反应30min，固液分离，经105±2℃干燥后，再置于550±10℃焙烧2h，冷却后，经气流粉碎，制得AlN‑ZrO2复合物：18~22%，草酸铜：4~8%，研磨，混合均匀，加入草酸氢铵：8~12%，硬脂酸：18~24%，研磨，混合均匀，再加入非离子表面活性剂：0.3~1.0%，混合均匀，即得蓝色大理石抛光粉该抛光粉具有化学抛光的特性，因此，抛光粉的抛光效果好，光泽度，划痕数量少，平整度高，用量少。
一种蓝色大理石抛光制备方法

[发明专利]用电导率指导抛光粉生产和产品质量控制的方法-CN201210507466.1有效
发明人：李炳伟;牟元障;江勇;李剑飞 -专利权人：淄博包钢灵芝稀土高科技股份有限公司
申请日： 2012-11-30 - 公布日： 2013-03-13 - 主分类号： G01N27/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种用电导率指导抛光粉生产和产品质量控制的方法，属于抛光粉生产技术领域，包括以下步骤：首先用准确称取预烘干后的10克抛光粉，加入到100mL量筒中，加纯水至100mL,加盖后，超声振荡使抛光粉充分分散；静置5min后，再次超声振荡使抛光粉中活性中心充分与水结合，然后立即检测电导率。经过本发明检测的抛光粉样品，按电导率范围，电导率在30us/cm以下的对磨耗硬度80及80以上的材质进行抛光，抛削率较快，适应性较好。电导率在50us/cm以上的抛光粉对磨耗硬度80以下的材质进行抛光，抛削率较快，适应性较好。
用电指导抛光生产产品质量控制方法