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[发明专利]S-1全硅分子筛及制备方法及在制备己内酰胺中的应用-CN201010616382.2有效
发明人：袁学民;刘文;曹振岩;王志文;孙世谦;宋辉;张媛;钱震;张蒙;王海国;孙艳行;刘楠;梁莹 -专利权人：中国天辰工程有限公司;天津天辰绿色能源工程技术研发有限公司
申请日： 2010-12-30 - 公布日： 2011-07-13 - 主分类号： C01B37/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种S-1全硅分子筛及制备方法及在制备己内酰胺中的应用，S-1全硅分子筛是用下述方法制成：(1)四丙基氢氧化铵模板剂的合成；(2)分子筛的合成：将四丙基氢氧化铵水溶液与正硅酸乙酯和乙醇反应，用去离子水洗涤，反应液干燥，焙烧，得到分子筛原粉；向分子筛原粉中加入硅溶胶、聚乙二醇2000、浓氨水、田箐粉和活性炭粉末，用捏合机捏合后进行挤条成型；焙烧；将焙烧后的产物依次放入NH3-NH3NO3混合溶液和氢氟酸水溶液中浸泡
分子筛制备方法己内酰胺中的应用

[发明专利]一种稀土精矿的加工方法和系统-CN202310555166.9在审
发明人：里卡多·塞普尔韦达·莱特列尔;尼科尔·艾丽鹃卓·桑·马丁·雷瓦 -专利权人：稀土一号股份有限公司
申请日： 2023-05-17 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C22B59/00 文献下载
摘要：获得感兴趣的材料，将该感兴趣的材料与第一再循环流混合以产生第一感兴趣的材料流；b)对感兴趣的材料流进行分类，将进入的材料与第二再循环流混合并分类成细料线和粗料线；c)提取镧系元素，使该细料线与离子交换促进剂溶液和第三再循环流接触，获得负载材料流；d)沉淀杂质，负载材料流与第四再循环流和碳酸氢铵、氢氧化铵、无水氨或氢氧化钠的溶液接触以通过沉淀除去杂质；e)稀土浓缩物的沉淀，其中进入的材料与碳酸氢铵或无水氨、氢氧化铵或氢氧化钠的溶液接触
一种稀土精矿加工方法系统

[发明专利]正型感光性硅氧烷组合物-CN201380060802.5有效
发明人：野中敏章;横山大志;福家崇司;田代裕治 -专利权人： AZ电子材料（卢森堡）有限公司
申请日： 2013-11-14 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： G03F7/023 文献下载
摘要：一种正型感光性硅氧烷组合物，其含有：(I)在四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液中的溶解速度不同的至少两种以上的聚硅氧烷、(II)预烘烤后的膜在2.38％重量TMAH水溶液中的溶解速度为50～1,000/秒的具有除了硅烷醇基以外的TMAH水溶液可溶性基团的聚硅氧烷、(III)重氮基萘醌衍生物以及(IV
正型感光性硅氧烷组合物聚硅氧烷溶解四甲基氢氧化铵可溶性基团硅烷醇基重氮基萘醌衍生物预烘烤溶剂

[发明专利]多级孔分子筛及其制备方法和应用-CN202211604867.9在审
发明人：于吉红;白日升 -专利权人：吉林大学
申请日： 2022-12-14 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C01B39/00 文献下载
摘要：本发明使用四丙基氢氧化铵、四丙基溴化铵、正丁胺、四乙基氢氧化铵或四乙基溴化铵作为结构导向剂，在碱金属离子和/或水溶性有机小分子作用下，可以导向多级孔结构的原位产生；本发明仅使用四丙基氢氧化铵或四乙基氢氧化铵作为微孔模板
多级分子筛及其制备方法应用

[发明专利]一种四正丙基过钌酸铵(Ⅶ)的制备方法-CN202210741461.9在审
发明人：晏彩先;许明明;侯文明;常桥稳;王洪友;陶乔平;刘伟平;刘盛虎 -专利权人：昆明贵金属研究所;贵研化学材料（云南）有限公司
申请日： 2022-06-27 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： C07C209/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种四正丙基过钌酸铵(Ⅶ)的制备方法，具体是：(1)以钌废渣为原料，在熔剂中，碱熔，水浸，获得含钌溶液；(2)再在以硫酸为介质，在氧化剂条件下，对钌溶液进行氧化蒸馏，钌被氧化为四氧化钌；(3)将适量的氢氧化钠和四丙基氢氧化铵溶于适量的水中，在低温条件下，再通入四氧化钌气体，反应适量时间，过滤，得到四正丙基过钌酸铵(Ⅶ)粗品，再用适量的冰水洗涤2～3次，干燥，得到绿色固体，以钌计产率为99％该制备方法选取了钌废渣为原料，碱熔，水浸，再氧化为四氧化钌，再加入适量的四丙基氢氧化铵，最终获得目标化合物。实现了废液的循环利用，能够大大降低成本，步骤易操作、产率高，容易实现批量产业化生产。
一种丙基钌酸铵制备方法

[发明专利]显影废液的处理方法-CN200580047345.1无效
发明人：山下喜文;大城户始;野仲彻 -专利权人：株式会社德山
申请日： 2005-11-29 - 公布日： 2008-01-23 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明的显影废液的处理方法其特征在于测定包含氢氧化四烷基铵水溶液的显影废液中的四烷基铵(TAA)浓度和金属杂质的含量，根据测定的单位TAA的金属杂质的含量，选择精制处理上述显影废液，再生用作上述显影液的氢氧化TAA水溶液的步骤，废弃处理上述显影废液的步骤，或者使用作为显影液未使用的氢氧化TAA水溶液进行稀释后，精制处理稀释的显影废液，再生用作上述显影液的氢氧化TAA水溶液的步骤，各步骤选择的基准设定为单位TAA根据该方法，可以长期稳定地精制处理由光致抗蚀剂显影步骤排出的包含氢氧化TAA的显影废液，结果能再生在要求高精度的光致抗蚀剂显影步骤中也可作为显影液循环利用的高纯度的氢氧化TAA水溶液。
显影废液处理方法

[发明专利]半导体衬底的清洗方法-CN99121769.1有效
发明人：高石和成;高田凉子 -专利权人：三菱硅材料株式会社;三菱材料株式会社
申请日： 1999-08-27 - 公布日： 2003-08-27 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种半导体衬底的清洗方法包括以下步骤：将半导体衬底浸入混合过氧化氢和氢氧化铵制备的混合溶液中；将在混合溶液中浸泡过的半导体衬底浸入至少包括溶解有臭氧的水溶液、硝酸溶液或过氧化氢溶液中一种的氧化溶液中；将在氧化溶液中浸泡过的衬底浸入氢氟酸与有机酸或与该有机酸盐的混合溶液中；将在该混合溶液中浸泡过的半导体衬底漂洗之后，再氧化漂洗过的半导体衬底。
半导体衬底清洗方法

[发明专利]一种生物组织中纳米颗粒的提取方法-CN202110762292.2在审
发明人：郭玉婷;高雅;葛广路 -专利权人：国家纳米科学中心
申请日： 2021-07-06 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：所述提取方法包括以下步骤：(1)将含纳米颗粒的生物组织和研磨液混合研磨，制成组织匀浆；(2)将步骤(1)所述组织匀浆用四甲基氢氧化铵溶液溶解，提取得到纳米颗粒。本发明所提供的提取方法，通过较低浓度四甲基氢氧化铵溶液溶解生物组织匀浆，在保证纳米颗粒完整颗粒性的基础上，避免了纳米颗粒团聚，缩短了提取时间、提取率高、操作简单、成本低。
一种生物组织纳米颗粒提取方法

[发明专利]用于制造酯的催化剂-CN200480029424.5无效
发明人： M·G·帕特里奇;C·H·麦金托什;A·J·汉拉迪 -专利权人：约翰森·马瑟公开有限公司
申请日： 2004-10-05 - 公布日： 2006-11-15 - 主分类号： C08G63/85 文献下载
摘要：一种适合于在酯化反应中使用的催化剂，其包括钛、锆或铪的化合物，2－羟基羧酸和选自四乙基氢氧化铵和四甲基氢氧化铵中的季铵化合物，任选地和水或醇的反应产物。
用于制造催化剂

[发明专利]一种连续流生物电化学系统制备四甲基氢氧化铵的方法-CN201410848595.6在审
发明人：刘广立;程兴;骆海萍;张仁铎 -专利权人：中山大学
申请日： 2014-12-20 - 公布日： 2015-05-06 - 主分类号： C25B3/00 文献下载
摘要：本发明属于生物电化学技术领域，旨在提供一种连续流生物电化学系统制各四甲基氢氧化铵的方法。该方法所述的连续流生物电化学系统由四隔室的微生物脱盐同步产酸碱池组成，所述的四隔室由双极膜、阳离子交换膜和阴离子交换膜，通过不同顺序排列，组成阳极室、酸室、中室、碱室四个隔室，以一定摩尔浓度的四甲基氯化铵水溶液作为原料，通过连续运行的方式来制备四甲基氢氧化铵。
一种连续流生物电化学系统制备甲基氢氧化铵方法

[发明专利]一种除油剂-CN201711106619.0在审
发明人：李静 -专利权人：李静
申请日： 2017-11-10 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： C11D7/60 文献下载
摘要：本发明公开了一种除油剂，其包括尿素、二硫化碳、氢氧化钠溶液、氢氧化铵溶液、氢氧化钾溶液、葡萄糖酸钠溶液、铝酸钠、偏铝酸钠、三聚磷酸钠、磷酸钠以及水。
除油剂葡萄糖酸钠溶液氢氧化钾溶液氢氧化钠溶液氢氧化铵溶液生产周期三聚磷酸钠无三废排放产品成本产品工艺二硫化碳偏铝酸钠生产过程药剂用量磷酸钠铝酸钠去油尿素

[实用新型]一种制备四甲基氢氧化铵的电解装置-CN201520124765.6有效
发明人：刘颂军 -专利权人：沧州信联化工有限公司
申请日： 2015-03-03 - 公布日： 2015-08-05 - 主分类号： C25B9/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种制备四甲基氢氧化铵的电解装置，包括四甲基碳酸氢铵中间储罐、过滤器A、电解槽、过滤器B和产品储罐；所述四甲基碳酸氢铵中间储罐的出口端连接过滤器A的入口端，过滤器A的出口端连接电解槽的入口端，电解槽的出口端通过出料管连接过滤器B的入口端，过滤器B的出口端连接产品储罐；该制备四甲基氢氧化铵的电解装置，经过精馏精制的四甲基碳酸氢铵溶液，在经过过滤装置预处理，保证了电解生产的四甲基氢氧化铵金属杂质和阴离子杂质达到显示面板
一种制备甲基氢氧化铵电解装置

[发明专利]新型电解法制备丁酮连氮的方法-CN202210827232.9在审
发明人：陈艳艳;官凤钢;于如军;山书锋 -专利权人：山东河清化工科技有限公司
申请日： 2022-07-13 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： C25B3/09 文献下载
摘要：所述的制备方法由以下步骤组成：将氯化铵、氨水和丁酮的混合物置于电解池中进行搅拌，然后接通电源进行电解；当达到电解阈值时停止电解，这时电解池中得到的是丁酮连氮和氯化铵的混合物，然后进行后处理，制备得到高纯度丁酮连氮本发明所述的新型电解法制备丁酮连氮的方法，原料氯化铵溶液中的氯离子发生电解产生氯气和氢氧化铵，氯气和氢氧化铵反应生成氯化铵和次氯酸铵，次氯酸铵、氢氧化铵和丁酮反应生成氯化铵和产物，生成的氯化铵可实现循环利用
新型解法制备丁酮方法

[发明专利]一种制造晶硅太阳能电池的刻蚀清洗工艺-CN201511019411.6在审
发明人：蒋建宝;李科伟 -专利权人：无锡赛晶太阳能有限公司
申请日： 2015-12-30 - 公布日： 2016-04-13 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明公开一种制造晶硅太阳能电池的刻蚀清洗工艺，其包括如下步骤：用8-10％的HF酸，通过滚轮带液的方式，将扩散后硅片非扩散面和边缘的磷硅玻璃去除；在可加热的不锈钢槽中，用5-30％的四甲基氢氧化铵，70-80℃下，腐蚀150-300s，利用四甲基氢氧化铵与硅反应但不与二氧化硅反应的特性，用四甲基氢氧化铵对非扩散面和边缘进行腐蚀，去除PN结，达到刻蚀PN结同时抛光的效果；纯水溢流的方式对硅片表面残留的四甲基氢氧化铵进行稀释，时间10-50s，对硅片进行降温；在PVDF材质的槽中，用15％左右的盐酸，常温下，对四甲基氢氧化铵进行中和，时间50s；在PVDF材质的槽中，用10-20％的HF酸，常温下，去除硅片扩散面的磷硅玻璃
一种制造太阳能电池刻蚀清洗工艺

[发明专利]正胶显影液制备方法-CN201410574835.8有效
发明人：朱祥龙 -专利权人：江阴市化学试剂厂有限公司
申请日： 2014-10-25 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种正胶显影液制备方法，其特征在于，所述方法是将四甲基氢氧化铵输送至配置罐中，向配置罐通入纯水，对四甲基氢氧化铵进行稀释，在配置罐中按照2.5~3:0.5~1.2:0.5~1.2的质量比例通入聚乙二醇、水洗后的氨气以及氢氧化钾，所述聚乙二醇、水洗后的氨气以及氢氧化钾的通入总量为0.1%~0.3%，使得最终四甲基氢氧化铵的浓度为2.37%~2.39%，经过滤得成品。本发明正胶显影液制备方法生产出的正胶显影液具有低表面张力，可避免与二氧化碳反应，产品表面无斑点。
显影液制备方法