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[发明专利]气氛置换装置和热处理系统-CN202011172574.9有效
发明人：松田伸 -专利权人：捷太格特热系统株式会社
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： C21D1/76 文献下载
摘要：提供气氛置换装置和热处理系统，在工件搬入时能够根据工件搬出目的地的室的气氛来高效地置换气氛置换室的气氛，防止在工件搬出后从工件搬出目的地的室流入的气体滞留在气氛置换室中，从而防止流入的气体对工件产生影响在气氛置换室(21)中设置有提供气氛置换用气体的气体提供口(22)和在置换气氛时将气氛置换室(21)内的气体向外排出的气体排出口(23)。第1气体提供部(24)在工件(16)被搬入到气氛置换室(21)的状态下将作为气氛置换用气体的第1气体从气体提供口(22)提供到气氛置换室(21)。第2气体提供部(25)在工件(16)从气氛置换室(21)搬出之后将作为气氛置换用气体的第2气体从气体提供口(22)提供到气氛置换室(21)。
气氛置换装置热处理系统

[发明专利]金属部件的处理方法和处理装置-CN202180077040.4在审
发明人：平冈泰 -专利权人：帕卡热处理工业株式会社
申请日： 2021-11-16 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： C23C8/02 文献下载
摘要：本发明涉及使用处理炉的金属部件的处理方法，其具备下述工序：向处理炉内导入活化气氛气体的工序；将处理炉内的活化气氛气体加热至第1温度的工序；向处理炉内导入氮化气氛气体或软氮化气氛气体的工序；以及将处理炉内的氮化气氛气体或软氮化气氛气体加热至第活化气氛气体藉由活化气氛气体导入配管被导入至处理炉内。液体状态的有机溶剂被间歇地多次投入到持续导入活化气氛气体的状态下的活化气氛气体导入配管内。
金属部件处理方法装置

[发明专利]气体循环的方法和系统-CN200780020548.0有效
发明人： F·D·洛马克斯;G·S·卡尔;R·S·托德 -专利权人： H2GEN创新公司
申请日： 2007-02-22 - 公布日： 2009-06-17 - 主分类号： B01D53/00 文献下载
摘要：用来循环热处理室(10)排放的排出的气氛气体的系统，其中所述热处理室(10)使用保护性气氛气体。所述系统包括为接收所述排出的气氛气体(16)而配置的气体循环装置(15)。所述气体循环装置包括为将所述排出的气氛气体分为提纯的气氛气体流和不纯的物流而配置的气体分离器(13)。所述气体循环装置是为将所述提纯的气氛气体流送入所述热处理室而配置的。可以提供储存容器(11)以接收来自所述气体循环装置的提纯的气氛气体流，并且所述存储容器(11)是为了用所述提纯的气氛气体流向所述热处理室(1)补充气氛气体供应而配置的。
气体循环方法系统

[发明专利]一种制绒后晶硅片的处理方法及异质结电池的制备方法-CN202110006131.0在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企业（有限合伙）
申请日： 2021-01-04 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： H01L31/0236 文献下载
摘要：本发明提供了一种制绒后晶硅片的处理方法，包括将制绒后晶硅片放置在气氛炉内；对气氛炉内抽真空使气氛炉内压力小于第一压力；输入第一气体至气氛炉内，使气氛炉内压力大于第二压力，对制绒后晶硅片预处理；输入保护气体至气氛炉内，使气氛炉内压力大于第二压力，对制绒后晶硅片的表面生成气体保护膜；输入第二气体至气氛炉内，使气氛炉内压力升高至常压，将气氛炉内温度降至常温。通过第一气体、保护气体、第二气体对制绒后晶硅片进行处理，在制绒后晶硅片表面附着一层气体保护膜进行保护，延长制绒后晶硅片保存时间，确保太阳能电池性能。
一种制绒后晶硅片处理方法异质结电池制备

[实用新型]一种多用途焙烧系统-CN201821816846.2有效
发明人：赵飞燕;陈东;张小东;王永旺;张云峰;赵宇航;刘延红;郭志峰;李超 -专利权人：中国神华能源股份有限公司;神华准能资源综合开发有限公司
申请日： 2018-11-06 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： F27B17/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种多用途焙烧系统，包括气氛气体供应装置、气氛气体输送管、焙烧炉和尾气吸收装置；焙烧炉设有用于将气氛气体输入至焙烧炉的炉膛内的气氛气体入口和用于将焙烧炉的炉膛内产生的尾气排出的尾气出口，气氛气体供应装置和所述气氛气体入口之间通过所述气氛气体输送管相连通，气氛气体入口上设有气阀；尾气吸收装置包括带有内腔的壳体，壳体上设有用于接收来自焙烧炉的所述尾气的尾气入口和用于排出净化气的净化气出口，尾气吸收装置用于将进入其内腔的所述尾气与尾气吸收液接触以对尾气进行净化获得所述净化气本实用新型提供的焙烧系统可以适用于需要或不需要气氛气体的焙烧工艺中，且能对焙烧尾气进行净化处理。
气氛气体焙烧炉尾气尾气吸收装置焙烧系统焙烧炉膛本实用新型供应装置净化气输送管壳体排出净化气出口净化处理尾气出口尾气入口尾气吸收气阀内腔净化

[发明专利]气氛气体的露点控制装置-CN200810130358.0有效
发明人：竹田孝广 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2008-07-11 - 公布日： 2009-01-21 - 主分类号： F27D7/02 文献下载
摘要：本发明提供可准确地控制气氛气体的露点，并容易将露点控制在水温以下，且可控制设备成本和运转成本的气氛气体的露点控制装置。本发明的气氛气体的露点控制装置包括：具备利用注入到炉内的气氛气体的压力将水喷雾并气化的气化喷嘴的气化器；注入到炉内的气氛气体的流量控制计；以及供给到气化喷嘴的水的流量控制计。水的流量控制计具有将根据注入到炉内的气氛气体的流量和所要设定的露点来算出的水量供给至气化喷嘴的功能，由此可准确地控制气氛气体的露点。气氛气体既可以是还原性也可以是氧化性。
气氛气体露点控制装置

[实用新型]气氛炉冷却装置-CN200420115647.0无效
发明人：秦文隆 -专利权人：秦文隆
申请日： 2004-11-17 - 公布日： 2006-02-01 - 主分类号： F27D9/00 文献下载
摘要：本实用新型是有关一种气氛炉冷却装置，其主要是在气氛炉冷却段设有至少一条连通二端炉体的气冷循环管，该气冷循环管设有气体循环帮浦及冷却装置，借助气体循环帮浦自气氛炉冷却段炉体一端抽取炉内热气氛气体，经冷却装置冷却后，冷气氛气体再由气氛炉冷却段另端导入，前述冷却装置包括有环设于气冷循环管的冷水套或冰水套，借冷水槽或冰水槽提供循环冷水或冰水，来冷却气冷循环管中的气氛气体，具有在不改变炉内气氛环境下，提高冷却效率，并可节省气氛气体用气量
气氛冷却装置

[发明专利]基板处理装置-CN202010019383.2在审
发明人：青木大辅;南田纯也;丰田康典 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-01-08 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：该基板处理装置可靠地进行基板处理装置内的空间的气氛调整并且削减气氛调整用的气体的使用量。基板处理装置包括：控制基板处理区的处理区域内的气氛的第1气氛控制系统和控制基板处理区的基板输送区域内的气氛的第2气氛控制系统。第1气氛控制系统在利用各液体处理单元进行液体处理时，利用第1气体供给部向该液体处理单元供给气氛控制气体，并且利用第1气体排出部排出该液体处理单元内的气氛。第2气氛控制系统使气氛调整气体在属于该第2气氛控制系统的循环系统内循环，并且在液体处理单元中的至少一个液体处理单元于基板输送区域开放时，利用第2气体排出部排出第2气氛控制系统的循环系统内的气氛。
处理装置

[实用新型]连续气氛炉-CN201120526206.X有效
发明人：竹田孝广 -专利权人： NGK（苏州）精细陶瓷器具有限公司
申请日： 2011-12-15 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： F27B9/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种连续气氛炉。该连续气氛炉在对含有粘结剂的制品进行热处理时，能够避免由制品产生的粘结剂气体从连续气氛炉的入炉侧流出的现象。该连续气氛炉是一边通过搬送机构搬送被热处理物、一边进行热处理的连续气氛炉，在进行热处理的热处理室(1)的入口(5)具有气氛气体喷嘴(4)，该气氛气体喷嘴(4)具有向着炉宽方向喷出气体的气氛气体喷出口(6
连续气氛

[实用新型]辊道窑-CN202222800688.4有效
发明人：松井良太;村濑贵哉 -专利权人： NGK (苏州) 热工技术有限公司
申请日： 2022-10-24 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： F27B9/36 文献下载
摘要：本实用新型提供一种辊道窑，其具备向炉内导入气氛气体的气氛气体导入路，所述辊道窑的特征在于具备：腔室，形成于所述辊道窑的绝热层内部；外侧流路，形成于相对于所述腔室靠炉外侧的第一绝热层，从炉外的气氛气体的供给源与所述腔室连通；和内侧流路，形成于相对于所述腔室靠炉内侧的第二绝热层，从所述腔室与炉内连通，包含所述外侧流路和所述腔室以及所述内侧流路而形成有气氛气体导入路。由于气氛气体导入路具备腔室，因此能够增加气氛气体导入路内的气氛气体的滞留时间，能够更可靠地对气氛气体进行预热。
辊道窑

[发明专利]基板处理装置-CN201910105615.3在审
发明人：南田纯也;伊藤达也;豊田康典;青木大辅 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-02-01 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：可靠地进行需要区域的气氛调整，同时削减气氛调整用气体使用量。基板处理装置具备：处理单元，其对基板实施处理；输送空间，其在容器输入输出部与处理单元间输送基板；基板输送机构，其在输送空间内容器输入输出部与处理单元间输送基板；第1气体供给路径，其向处理单元供给气氛调整气体；第1气体排出路径，其从处理单元排出气氛调整气体；循环路径，其与输送空间连接，使从输送空间流出的气氛调整气体返回输送空间；第2气体供给路径，其向由输送空间和循环路径构成的循环系统供给气氛调整气体；及第2气体排出路径，其从循环系统排出气氛调整气体。
输送空间处理单元基板处理装置气体供给路径气体排出路径输入输出部输送基板循环路径循环系统排出基板输送机构气体使用量对基板内容器流出削减返回

[发明专利]制造碳化硅晶体的方法以及碳化硅晶体-CN201080043770.4无效
发明人：西口太郎 -专利权人：住友电气工业株式会社
申请日： 2010-10-27 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： C30B29/36 文献下载
摘要：本发明提供一种通过升华来制造SiC晶体的方法，其中用于生长SiC晶体的气氛气体含有He。所述气氛气体可还含有N。所述气氛气体可还含有选自Ne、Ar、Kr、Xe和Rn中的至少一种气体。He在所述气氛气体中的分压优选为40％以上。
制造碳化硅晶体方法以及

[发明专利]一种高温真空反应釜循环气氛系统-CN202310894928.8在审
发明人：欧文龙;陈志江;刘汝威;邓朝辉;赵海涛 -专利权人：佛山市天禄智能装备科技有限公司
申请日： 2023-07-20 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： F27B14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种高温真空反应釜循环气氛系统，包括：循环气氛系统主体，循环气氛系统主体包括依次连通的冷却器、集尘器、真空泵、保护气氛部、反应气氛部，真空泵、保护气氛部之间设置有尾气处理装置，冷却器、反应气氛部分别与高温反应釜连通，高温反应釜的搅拌轴上设置有气体密封模块，气体密封模块与保护气氛部连通。在使用时先启动真空泵，真空泵通过集尘器将高温反应釜内进行抽气，使得该高温反应釜内部处于真空状态；而保护气氛部向气体密封模块提供惰性保护气体，使得气体密封模块中填充惰性保护气体，当发生泄漏后惰性保护气体则会进入高温反应釜
一种高温真空反应循环气氛系统

[发明专利]透明导电膜的形成方法及透明电极-CN200480001692.6有效
发明人：浮岛祯之;竹井日出夫;石桥晓;厚木勉;小田正明;山口浩史 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2004-12-17 - 公布日： 2006-01-18 - 主分类号： H01B13/00 文献下载
摘要：把含有选自铟、锡、锑、铝及锌的金属微粒，这些金属的二种以上的金属组成的合金微粒，或这些微粒的混合物的分散液涂布在基材上后，在真空气氛、惰性气体气氛、还原性气氛中进行烧成，然后，在氧化性气氛中进行烧成。在该氧化性气氛中烧成后，还可以再在还原性气氛中进行烧成。惰性气体气氛是选自稀有气体、二氧化碳及氮的气体的气氛，还原性气氛是选自氢、一氧化碳及低级醇的气体的气氛。
透明导电形成方法电极

[发明专利]气氛置换方法及装置和附带气氛置换装置的烧成炉-CN201711005921.7有效
发明人：松井良太;王兴 -专利权人： NGK（苏州）热工技术有限公司
申请日： 2017-10-25 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： F27D7/06 文献下载
摘要：一种气氛置换方法及装置和附带气氛置换装置的烧成炉。气氛置换装置具备隧道部、遮板、遮板升降机构及输送线，置换室具有设置在隧道部入口侧的第一置换室及设置在隧道部出口侧的第二置换室，遮板具有设置在第一置换室入口侧的第一遮板、设置在第一置换室与第二置换室间的第二遮板及设置在第二置换室出口侧的第三遮板，第二置换室具有将从气氛气体的供给源供给的气氛气体注入至第二置换室内的第一气体注入口和从第二置换室排出气氛气体的第一气体排出口，第一置换室具有将从第二置换室排出的气氛气体注入至第一置换室内的第二气体注入口和从第一置换室排出气氛气体的第二气体排出口，气氛置换装置具备连结第一气体排出口和第二气体注入口的连结部。
气氛置换方法装置附带烧成

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