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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]气体阻隔性膜及其制造方法-CN201280034525.6有效
发明人：本田诚 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2012-07-10 - 公布日： 2014-03-19 - 主分类号： B32B7/02 文献下载
摘要：本发明提供具有高的气体阻隔性能的气体阻隔性膜及连续生产率优异的气体阻隔性膜的制造方法。所述气体阻隔性膜为在树脂基材上层叠了至少1层气体阻隔性层的气体阻隔性膜，其中，与该气体阻隔性层邻接的至少1层的硬度及弹性回复率，在利用纳米压痕法的测定时，为0.5GPa≤硬度≤5.0GPa、且50%≤弹性回复率
气体阻隔及其制造方法

[发明专利]气体阻隔性膜、电子设备用基板和电子设备-CN201380021977.5有效
发明人：本田诚 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2013-04-24 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种气体阻隔性膜，该气体阻隔性膜以具有光学各向异性的膜为基材，具有非常优异的气体阻隔性能和良好的生产率，可用于OLED显示器，可视性也优异。上述气体阻隔性膜具备具有光学各向异性的膜基材(1)和配置于膜基材(1)的至少一面的气体阻隔性单元，气体阻隔性单元从膜基材(1)侧起具备含有无机物的第1阻隔层(3)和对涂布聚硅氮烷而形成的涂膜进行改性处理而得到的第2阻隔层(4)。
气体阻隔电子备用电子设备

[发明专利]气体阻隔性层叠膜-CN201080034077.0有效
发明人：高津洋二;津曲祐美;大川刚;森原芳治;松田修成 -专利权人：东洋纺织株式会社
申请日： 2010-07-27 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： B32B27/28 文献下载
摘要：本发明提供即使在蒸煮袋处理后，气体阻隔性的下降也小、不发生层间剥离的气体阻隔性层叠膜。本发明的气体阻隔性层叠膜，在塑料膜的至少一个表面借助或不借助其他层依次层叠无机薄膜层和气体阻隔性树脂组合物层，上述气体阻隔性树脂组合物层由气体阻隔性树脂组合物形成，该气体阻隔性树脂组合物含有包含乙烯-乙烯醇系共聚物的气体阻隔性树脂和无机层状化合物和添加剂，该气体阻隔性树脂组合物中的无机层状化合物的含量为0.1质量％～9.0质量％，并且上述添加剂为偶联剂和/或交联剂，上述气体阻隔性树脂组合物层的厚度为0.05μm～0.5μm。
气体阻隔层叠

[发明专利]层叠体及包含其的器件-CN201780070736.8有效
发明人：伊藤丰;山下恭弘 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2017-11-17 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：在气体阻隔性膜与粘合剂层层叠而成的层叠膜的最外层具有剥离性膜的层叠体中，在将粘合剂层侧的剥离性膜剥离时，粘合剂层侧的相反侧的剥离性膜会发生剥离，或者产生气泡，或者发生气体阻隔性膜的断裂。本发明提供一种层叠体，其具有气体阻隔性膜、位于该气体阻隔性膜的一个表面的粘合剂层、位于该气体阻隔性膜的另一个表面的剥离性膜1、和位于该粘合剂层的与气体阻隔性膜侧呈相反侧的表面的剥离性膜2，前述气体阻隔性膜具有至少包含挠性基材的基材层
层叠包含器件

[发明专利]气体阻隔性叠层薄膜及其制造方法-CN200580035390.5有效
发明人：藤井均;秋田纪雄;柴田步;千叶大道;三上浩一;坂元寿 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2005-08-15 - 公布日： 2007-09-19 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种既具有优异的气体阻隔性又具有透明性、耐冲击性也优异的气体阻隔性叠层薄膜及其制造方法。本发明的气体阻隔性叠层薄膜是在基材上设置无机氧化物的蒸镀膜，再在该蒸镀膜上设置气体阻隔性涂布膜而形成的气体阻隔性叠层薄膜，其特征在于，是在基材的、待形成蒸镀膜的表面侧实施预处理或者底涂处理而成，所述的气体阻隔性涂布膜是通过在所述的无机氧化物膜上涂布气体阻隔性涂布液后
气体阻隔性叠层薄膜及其制造方法

[发明专利]气体阻隔性膜-CN201480057575.5在审
发明人：新真琴;铃木一生 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2014-10-23 - 公布日： 2016-06-08 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供气体阻隔性能优异、构成气体阻隔性膜的层彼此的密合性提高、进而即使将气体阻隔性膜弯曲也抑制气体阻隔性能的下降的气体阻隔性膜。本发明涉及气体阻隔性膜，其依次包含：基材；通过等离子体化学气相生长法形成、含有硅、氧及碳的第1层；和将涂布含有聚硅氮烷的液体而形成的涂膜进行改性处理所得到的第2层，构成上述第1层的最表面的粒子的平均粒径为
气体阻隔

[发明专利]无机层状化合物分散液、其制造方法及其用途-CN03819612.3有效
发明人：松冈裕;上野吉昭;加野仁纪 -专利权人：阪田油墨株式会社
申请日： 2003-08-18 - 公布日： 2005-09-28 - 主分类号： C01B33/38 文献下载
摘要：本发明提供：无机层状化合物分散物，其中的无机层状化合物被劈裂成较薄的层状，且当其用作涂料或者气体阻隔性涂布剂时，可以赋予高的耐腐蚀性和气体阻隔性；气体阻隔性涂布剂组合物，当其以较薄的膜状形成气体阻隔层时，可以低成本地得到具有高透明性和充分的气体阻隔性的膜，而且，即使增加膜厚，也可以得到透明性良好且具有更高的气体阻隔性的膜；以及由具有高的气体阻隔性能的塑料及纸制成的气体阻隔性包装容器，该容器由涂布所述气体阻隔性涂布剂组合物而得到
无机层状化合物分散制造方法及其用途

[发明专利]气体阻隔性膜-CN201280042577.8有效
发明人：上林浩行;吉田实 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2012-09-04 - 公布日： 2014-04-30 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种高气体阻隔性、并且气体阻隔性的反复再现性优异的气体阻隔性膜。本发明的气体阻隔性膜，其特征在于，是在高分子膜基材的至少一面依次配置有3个无机化合物层即［A］层、［B］层、［C］层的气体阻隔性膜，所述［B］层的厚度为0.2～20nm，且密度比［A］层和［C］层的任何一个的密度都高
气体阻隔

[发明专利]气体阻隔性膜及包含其的器件-CN201780065240.1在审
发明人：大关美保;山下恭弘 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2017-11-06 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于向用于柔性显示器的以防湿为目的的气体阻隔性膜赋予耐光性，从而实现对比气体阻隔性膜更靠下层的器件内部的UV劣化的抑制、及/或对气体阻隔性膜本身的UV劣化的抑制。本发明提供气体阻隔性膜，其依次具有至少包含挠性基材的基材层、无机薄膜层、含有紫外线吸收剂的有机层，其中，前述无机薄膜层含有硅原子、氧原子及碳原子，前述气体阻隔性膜的380nm处的透光率为20％以下。
气体阻隔性膜无机薄膜层劣化紫外线吸收剂柔性显示器对比气体挠性基材硅原子基材层耐光性碳原子透光率氧原子有机层阻隔性下层赋予

[实用新型]气体阻隔性层叠膜和波长变换片-CN201621233309.6有效
发明人：村田光司;正田亮 -专利权人：凸版印刷株式会社
申请日： 2016-11-17 - 公布日： 2017-06-16 - 主分类号： G02F1/13357 文献下载
摘要：本实用新型提供气体阻隔性层叠膜和波长变换片。上述气体阻隔性层叠膜具有第1阻隔膜，该第1阻隔膜具有第1基材、第1无机薄膜层和第1气体阻隔性被覆层；以及第2阻隔膜，该第2阻隔膜具有第2基材、第2无机薄膜层和第2气体阻隔性被覆层，其中，第1阻隔膜和第2阻隔膜处于以第1气体阻隔性被覆层与第2气体阻隔性被覆层相对置的方式经由粘接层层叠而成的状态，第1无机薄膜层与第2无机薄膜层之间的距离为1.0μm以上。
气体阻隔层叠波长变换

[发明专利]气体阻隔性膜及其制造方法-CN201480018692.0有效
发明人：德永幸大;上林浩行;佐竹光;铃木基之 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2014-03-28 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种气体阻隔性膜，所述气体阻隔性膜即使在弯曲时，气体阻隔性也不易降低，并呈现出高透明和高度的气体阻隔性。一种气体阻隔性膜，其为下述构成，即，在高分子膜基材的至少一侧具有至少含有氧化锌和二氧化硅的气体阻隔层，所述气体阻隔层满足规定范围的(9664.0eV的光谱强度)/(9668.0eV的光谱强度)的值、规定范围的结构密度指数
气体阻隔及其制造方法

[发明专利]气体阻隔性膜及使用其的电子设备、及两者的制造方法-CN201580016562.8有效
发明人：小渊礼子 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2015-03-31 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明涉及气体阻隔性膜及其制造方法、以及使用其的电子设备及其制造方法。本发明的目的在于提供可使将保护膜(50)除去后的残存粘合剂的除去工序简化的气体阻隔性膜。气体阻隔性膜，是具有基材(55)、在基材(55)的一面上配置了的气体阻隔层(52)、和在气体阻隔层(52)上经由粘合层(51)而配置了的保护膜(50)的气体阻隔性膜(201)，其特征在于，气体阻隔层(52)通过对在基材(55)上涂布含有聚硅氮烷的涂布液、使其干燥而得到的涂膜照射活性能量线进行改性处理来形成，在将保护膜(55)剥离的状态下所测定的气体阻隔层(52)的最表层部的元素存在比C/Si为1.5以下
气体阻隔及其制造方法以及使用电子设备

[发明专利]气体阻隔性膜的制造方法、气体阻隔性膜和电子设备-CN201380054591.4有效
发明人：江连秀敏 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2013-10-11 - 公布日： 2015-06-24 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供即便在高温高湿的使用环境下也能够维持优异的气体阻隔性、且挠性(弯曲性)和密合性优异的气体阻隔性膜的制造方法以及气体阻隔性膜和使用其的电子设备元件。本发明的气体阻隔性膜的制造方法是在树脂基材的一个面上具备含有碳原子、硅原子和氧原子的气体阻隔层并在该树脂基材的与具有气体阻隔层的面相反的一侧的面上具有导电层的气体阻隔性膜的制造方法，其特征在于，上述气体阻隔层是使用含有有机硅化合物的原料气体和氧气并利用在施加了磁场的辊间具有放电空间的放电等离子体化学气相生长法而形成的
气体阻隔制造方法电子设备

[发明专利]气体阻隔性膜-CN201680067287.7有效
发明人：门马千明;铃木一生 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2016-10-03 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种气体阻隔性优异且即便在高温高湿下耐弯曲性也高的气体阻隔性膜。本发明的气体阻隔性膜的特征在于，在基膜上具备气体阻隔层，上述气体阻隔层含有Si原子、O原子和C原子，基于在上述气体阻隔层的从与上述基膜相反的一侧的表面到上述基膜侧的表面为止的层厚方向的0～100％的位置利用
气体阻隔

[发明专利]气体阻隔性膜-CN201480006796.X在审
发明人：伊东宏明 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2014-01-31 - 公布日： 2015-10-07 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明提供保存稳定性、尤其在苛刻条件(高温高湿条件)下的保存稳定性优异的气体阻隔性膜。本发明的气体阻隔性膜依次包含基材、第1阻隔层和第2阻隔层，该第1阻隔层含有无机化合物，该第2阻隔层至少含有硅原子和氧原子，且氧原子相对于硅原子的存在比(O/Si)为1.4～2.2，氮原子相对于硅原子的存在比
气体阻隔

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