“上林浩行”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果11个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]复合薄膜-CN202210187040.6在审
发明人：张硕;上林浩行;真锅功 -专利权人：东丽先端材料研究开发（中国）有限公司
申请日： 2022-02-28 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： B32B7/12 文献下载
摘要：本发明提供一种刚性好、反弹性能佳、耐老化性优异、绝缘性好、加工方法简单、成本低廉的复合薄膜，其包含芳纶纸层、两层以上的聚合物薄膜层、和两层以上的胶粘剂层，其中，所述聚合物薄膜层中的至少两层是树脂薄膜层。
复合薄膜

[实用新型]一种复合膜-CN202223193760.8有效
发明人：吴琦琦;杨扬;冯迪;真锅功;上林浩行 -专利权人：东丽先端材料研究开发（中国）有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C08J7/04 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种复合膜，所述复合膜至少含有第一层和第二层，且在上述第二层设置可撕线，所述的第一层含有聚氨酯树脂、环氧树脂、不饱和聚酯树脂、丙烯酸树脂或氟树脂中的一种，所述的第二层含有聚酯树脂、聚氨酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚烯烃树脂、丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、芳纶树脂或氟树脂中的一种，其特征在于，上述可撕线的撕裂强度τ1与所述第一层和所述第二层之间的剥离强度τ2满足以下关系式：τ1＜τ2，所述可撕线的切割宽度a范围为20‑200μm，所述可撕线的切割长度b范围为300‑3000μm。本实用新型可提升撕开完整性和在模具中搭接的铺设速度提高生产效率的效果。
一种复合

[发明专利]一种复合薄膜及其应用-CN202210853906.2在审
发明人：杨扬;冯迪;吴琦琦;真锅功;上林浩行;桂宗彦;杜震宇 -专利权人：东丽先端材料研究开发（中国）有限公司
申请日： 2022-07-12 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： B32B27/00 文献下载
摘要：本发明提出了一种复合薄膜，其含有纤维层和第一树脂层，且复合薄膜的挺度为2.0‑9.9cm，具有挺度适中、便于铺设的性能。通过与纤维层的复合，既保留了树脂层的功能性，又提高了复合薄膜整体的铺设使用性。该复合薄膜可用于将热转印等领域，特别是用于真空成型时，可以达到功能层直接转印到成型品表面，省略了现有方式中高粉尘排出、高VOC排出的工序，可以达到高效生产、尺寸精度高、树脂表面低污染、生产过程环境友好的有益效果。
一种复合薄膜及其应用

[发明专利]叠层体-CN201980066861.0在审
发明人：德永幸大;佐藤诚;上林浩行 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2019-10-04 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：一种叠层体，其在基材的至少一侧具有A层，上述A层包含选自周期表的第IIA、IIIB、IVB、VB、IIB、IIIA和IVA族的元素中的至少2种元素、以及氧，上述A层表面的通过原子力显微镜(AFM)算出的算术平均粗糙度Ra为5.0nm以下。提供低成本并且即使为简单的构成也具有高度的阻气性的叠层体。
叠层体

[发明专利]阻气性膜-CN201810245065.0有效
发明人：森健太郎;上林浩行 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2013-12-25 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： C08J7/048 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种具有高度的阻气性，并且耐弯曲性优异的阻气性膜。本发明的阻气膜，其特征在于，是在高分子基材的至少一侧，从上述高分子基材侧起依次具有无机层[A]和硅化合物层[B]的阻气性膜，无机层[A]包含锌化合物和硅氧化物，硅化合物层[B]包含硅氧氮化物，并且无机层[A]与硅化合物层[B]接触。
气性

[发明专利]层叠体-CN201780045899.0有效
发明人： 上林浩行;德永幸大;佐藤诚 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2017-08-16 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：一种层叠体，特征在于，在温度23℃、湿度60％下保管48小时后的卷曲量为3mm以下，在高分子基材的至少一个面具有[A]层(厚度低于50nm、并且含有锌化合物的层)。本发明能够提供相对于水蒸气等具有高度阻气性、并具有卷曲减少的优异平面性的层叠体，可以用作例如，食品、药品等的包装材和薄型电视、太阳能电池等电子器件用零件。
层叠

[发明专利]阻气性膜-CN201580004314.1有效
发明人： 上林浩行;佐竹光;德永幸大 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2015-01-20 - 公布日： 2017-11-17 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供具有高度的阻气性的阻气性膜。本发明的阻气膜在高分子基材的至少一面具有阻气层，所述阻气层从高分子基材起依次相接配置有包含氧化锌和二氧化硅的第1层与包含硅化合物的第2层，通过X射线光电子能谱法测定得到的第1层与第2层的界面的Si2p轨道的结合能大于第1层的Si2p轨道的结合能，并且小于第2层的Si2p轨道的结合能。
气性

[发明专利]气体阻隔性膜及其制造方法-CN201480018692.0有效
发明人：德永幸大;上林浩行;佐竹光;铃木基之 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2014-03-28 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种气体阻隔性膜，所述气体阻隔性膜即使在弯曲时，气体阻隔性也不易降低，并呈现出高透明和高度的气体阻隔性。一种气体阻隔性膜，其为下述构成，即，在高分子膜基材的至少一侧具有至少含有氧化锌和二氧化硅的气体阻隔层，所述气体阻隔层满足规定范围的(9664.0eV的光谱强度)/(9668.0eV的光谱强度)的值、规定范围的结构密度指数、规定范围的在920cm^-1具有峰的光谱的面积强度(A)与在1,080cm^-1具有峰的光谱的面积强度(B)之比(A/B)的值中的任一项。
气体阻隔及其制造方法

[发明专利]阻气性膜-CN201380069794.0在审
发明人：森健太郎;上林浩行 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2013-12-25 - 公布日： 2015-09-09 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种具有高度的阻气性，并且耐弯曲性优异的阻气性膜。本发明的阻气膜，其特征在于，是在高分子基材的至少一侧，从上述高分子基材侧起依次具有无机层[A]和硅化合物层[B]的阻气性膜，无机层[A]包含锌化合物和硅氧化物，硅化合物层[B]包含硅氧氮化物，并且无机层[A]与硅化合物层[B]接触。
气性

[发明专利]气体阻隔性膜-CN201280042577.8有效
发明人： 上林浩行;吉田实 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2012-09-04 - 公布日： 2014-04-30 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种高气体阻隔性、并且气体阻隔性的反复再现性优异的气体阻隔性膜。本发明的气体阻隔性膜，其特征在于，是在高分子膜基材的至少一面依次配置有3个无机化合物层即［A］层、［B］层、［C］层的气体阻隔性膜，所述［B］层的厚度为0.2～20nm，且密度比［A］层和［C］层的任何一个的密度都高。
气体阻隔

[发明专利]阻气性膜-CN201280015972.7有效
发明人： 上林浩行;冢村裕介;渡边修 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2012-03-29 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种具有高阻气性，且阻气性的重复再现性优异的阻气性膜。该阻气性膜是在高分子基材的至少一个面上依次层合了以下的[A]层和[B]层而形成的，[A]层：铅笔硬度为H以上且表面自由能为45mN/m以下的交联树脂层，[B]层：厚度为10～1000nm的含硅无机层。
气性

1
共 11 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top