专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于测量拉曼散射的光学探头及其测量方法-CN201611124263.9有效
  • 赵军;周新;王晓路 - 必达泰克知识产权公司
  • 2016-12-08 - 2020-10-09 - G01N21/65
  • 本发明公开了一种用于测量拉曼散射的光学探头,包括一个包含至少两个端口的反射腔,所述反射腔覆盖的样品散射激发光并产生拉曼散射光,被样品散射的激发光和拉曼散射光被反射反射直至该激发光和拉曼散射光从反射腔的第一端口输出以进行测量或者在第二端口被样品再次散射本发明提高了拉曼散射的激发和接受效率,而且对于具有漫散射特性的非透明样品,可以使更多的激发光进入样品内部,从而使测量样品内部拉曼信号成为可能。本发明还公开了一种测量大面积样品拉曼散射的方法,一种测量表层和里层为不同材料的漫散射样品的拉曼散射的方法和一种测量透明或漫散射样品透射拉曼散射的方法。
  • 用于测量散射光学探头及其测量方法
  • [发明专利]具有对称性和自校准的垂直入射薄膜反射率计-CN201010251597.9有效
  • 艾曼灵;张梅骄;金波;顾培夫;唐晋发;黄文标 - 杭州科汀光学技术有限公司
  • 2010-08-10 - 2010-12-15 - G01M11/02
  • 本发明公开一种具有对称性和自校准的垂直入射薄膜反射率计,其两个照明系统和两个光收集系统分别对称地置于样品台的两侧;光源发射的光线依次经由其中一个照明系统的反射棱镜的一个反射面、第一凹面镜、反射棱镜的另一个反射反射后由分束镜透射到置于样品台的样品上,分别形成透射光和反射光;样品反射光返回该照明系统的分束镜上,光线由该分束镜反射后由其中一个光收集系统的第一反射镜接收并依次由第二凹面镜、第二反射反射到单色仪中,后进入光电系统;另一个照明系统的分束镜接收样品的透射光并反射到另一个光收集系统的第一反射镜后再依次由第二凹面镜、第二反射反射到单色仪,后进入光电系统。
  • 具有对称性校准垂直入射薄膜反射率
  • [发明专利]监测装置和方法-CN201911101763.4在审
  • 赵勇明;杨国文;王刚;祁鲁汉;赵卫东 - 度亘激光技术(苏州)有限公司
  • 2019-11-12 - 2020-04-24 - H01L21/67
  • 本申请提供一种监测装置和方法,装置包括:光源,用于发射探测光束;旋转台,放置有待测样品,其中,在所述旋转台的至少一个旋转周期内,所述待测样品被所述探测光束照射;导光器,设置在所述待测样品和所述光源之间,用于导引所述探测光束在所述待测样品上产生的反射光束;光接收器,用于接收所述待测样品在所述探测光束照射下的反射光束;处理器,连接所述光接收器,用于接收所述反射光束,并根据所述反射光束确定所述待测样品的当前状态本申请实现了实时对待测样品的状态进行检测。
  • 监测装置方法
  • [实用新型]一种采用Herroitt多次反射样品室的气体检测平台-CN201120106370.5无效
  • 陈科;邵乐骥;龚真;丁宗英 - 朱坚磊
  • 2011-04-12 - 2011-10-26 - G01N21/17
  • 一种采用Herroitt多次反射样品室的气体检测平台,该检测平台包括样品室壳体、红外光发射装置、光接收装置和共轭红外反射装置,样品室壳体上设有空气入口和空气出口,内腔内设有入射变向装置和出射变向装置;共轭红外反射装置由两片凹面红外反射镜构成,两片共轭凹面红外反射镜分别固定在样品室壳体的两端,红外光发射装置的发射光线射入到样品室壳体内腔,光线经过入射变向装置反射后在两片共轭凹面红外反射镜之间经过多次反射,最后由出射变向装置反射到所述的光接收装置上本实用新型系统实际光程是多次反射池主体总长的六倍以上(1m左右),使多次反射池气体检测平台的NO测量下限达到小于25ppm。
  • 一种采用herroitt多次反射样品气体检测平台
  • [实用新型]一种用于多点光谱探测的三维自扫描装置-CN201922148284.X有效
  • 杨蕊竹;李强;吴吉良;叶小球;陈长安;冯春蓉;王雪峰;严俊 - 中国工程物理研究院材料研究所
  • 2019-12-04 - 2020-08-25 - G01N21/25
  • 本实用新型公开一种用于多点光谱探测的三维自扫描装置,包括光学反射系统、光学聚焦单元、电控三维平移系统、光学成像系统、计算机控制单元;光学反射系统用于将探测光反射,并经光学聚焦单元聚焦后照射到样品表面;电控三维平移系统用于带动光学反射系统和光学聚焦单元移动,以调整光学反射系统和光学聚焦单元与固定样品之间的相对位置,使探测光以移动的方式照射到样品表面各个位置上;光学成像系统用于接收由样品表面反射过来的光线并进行成像,获得样品表面形貌图像;计算机控制单元用于控制电控三维平移系统和光学成像系统工作本实用新型能实现光谱探测光的自扫描,克服了现有光谱mapping功能依赖于样品台移动而无法分析固定或大型样品的问题。
  • 一种用于多点光谱探测三维扫描装置
  • [发明专利]材料介电性能测试设备-CN202110754642.0有效
  • 朱恒;张龙;奚洪亮;艾辽东;宋锡滨 - 山东国瓷功能材料股份有限公司
  • 2021-07-05 - 2021-11-05 - G01R27/26
  • 本发明提供一种材料介电性能测试设备,包括耦合波导组件、第一反射镜、第二反射镜、驱动单元和支撑组件,将被测样品置入第一反射镜和第二反射镜之间所形成的谐振腔中,光束从耦合波导组件的发射端中输入至谐振腔中,在穿透被测样品后进入耦合波导组件的接收端,控制单元可获得与未置入被测样品时不同的谐振频率,从而计算出被测样品的相对介电常数,当需要改变谐振腔中的波频时,通过驱动单元使被测样品在所述第一反射镜与所述第二反射镜之间运动,检测被测样品在不同位置时所对应的电场,最强电场确定后,后续在该波频下进行不同被测样品的检测时均可将被测样品放置于该最强电场的位置,从而提高了最终所计算的复介电常数的准确度。
  • 材料性能测试设备

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