专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种便于碎屑收集的防火玻璃加工用抛光装置-CN202121450456.X有效
  • 杜峥嵘 - 南京宣汉玻璃有限公司
  • 2021-06-29 - 2022-05-10 - B24B29/02
  • 本实用新型属于玻璃加工设备领域,公开了一种便于碎屑收集的防火玻璃加工用抛光装置,包括抛光设备主体,所述抛光设备主体包括:处理箱,所述处理箱的内部设置有滑坡;夹紧组件,所述夹紧组件前后对称设置有两组,两组所述夹紧组件分别设置于处理箱的前后两端;抛光组件,所述抛光组件设置于处理箱的内侧,通过处理箱配合抛光组件以及夹紧组件使用,整个抛光操作均在处理箱内进行,抛光过程中产生的碎屑会受防护件的阻碍作用下落,避免其四处飞溅,不便使用人员清理,并且防止其飞溅到使用人员皮肤上造成伤害,落下的碎屑经滑坡的导向作用流至回收件内,自动实现碎屑的回收操作,方便使用人员对其进行收集处理,有效增强装置的实用性。
  • 一种便于碎屑收集防火玻璃工用抛光装置
  • [发明专利]抛光剂、铝材及其抛光处理方法-CN202011458207.5在审
  • 王饶玲 - 深圳市恒兆智科技有限公司
  • 2020-12-11 - 2021-04-23 - C23F3/03
  • 本发明涉及一种抛光剂、铝材及其抛光处理方法。抛光剂用于铝材表面预处理,以100重量份计,包括如下重量份数的成分:3‑10份铬酐,0.005‑0.02份硫酸铜,5‑10份硫酸,20‑50磷酸,5‑12份磷酸铝,0.5‑3份硫酸银和余量水。经过上述抛光处理后,铝材表面清洁光亮,而且整个抛光处理方法工艺设备简单、可处理形状复杂的工件,操作方便,无有害气体溢出。而且上述抛光剂原料易得,制造成本低,使用成本低。
  • 抛光及其处理方法
  • [发明专利]无铬抛光剂、铝材及其抛光处理方法-CN202011458209.4在审
  • 王饶玲 - 深圳市恒兆智科技有限公司
  • 2020-12-11 - 2021-05-07 - C23F3/03
  • 本发明涉及一种无铬抛光剂、铝材及其抛光处理方法。抛光剂用于铝材表面预处理,以100重量份计,包括如下重量份数的成分:3‑10份硝酸,0.005‑0.02份硫酸铜,5‑10份硫酸,30‑60份磷酸,3‑8份尿素,1‑5份硫酸铵和余量水。上述抛光剂不含铬成分,符合环保要求,且经过上述无铬抛光处理后,铝材表面清洁光亮,而且整个抛光处理方法工艺设备简单、可处理形状复杂的工件,操作方便,使用成本低。
  • 抛光及其处理方法
  • [实用新型]抛光装置-CN98250325.3无效
  • 蔡笃灿 - 蔡笃灿
  • 1998-12-22 - 1999-12-15 - B24B29/00
  • 本实用新型涉及一种抛光装置,该装置中包括有一输送装置,多个抛光机组及一出料装置,其中,抛光机组在输送装置两侧分别设置垂直抛光机与水平抛光机,输送装置将工件送至各抛光机组作水平及垂直方向的抛光处理,待各段加工面抛光完成后再由出料装置将工件送出,对于不规则形状的工件,由于各抛光机组中抛光布轮高度的不同,而能对其加工面作完整的抛光处理,不须增加额外的抛光程序。
  • 抛光装置
  • [发明专利]一种钨钼合金工件抛光装置-CN202310022657.7有效
  • 徐文进 - 泰州市华诚钨钼制品有限公司
  • 2023-01-08 - 2023-04-25 - B24B31/00
  • 本发明涉及金属工件抛光领域,公开了一种钨钼合金工件抛光装置,包括立状布置的介质桶,介质桶开口朝上,介质桶上方布置有抛光机构;抛光机构包括转轴和抛光单元,转轴沿着介质桶的轴线布置,抛光单元和转轴固定连接,转轴转动安装在升降机构上,转轴上端连接动力机构,抛光单元连接调节机构,调节机构用于在抛光单元跟随转轴转动的过程中调节抛光单元摇动,本发明提出的一种钨钼合金工件抛光装置,能够将轴状或棒状的工件插入介质中,并调节工件在介质中转动和摇动,实现对工件外表面进行全方位的抛光处理抛光处理效果好,还能够在抛光的过程中对工件进行换位夹持,使得工件被夹持部位也能够得到效果一致的抛光处理
  • 一种合金工件抛光装置
  • [实用新型]一种板材加工用表面抛光装置-CN202222079625.4有效
  • 蔡万根;蔡成 - 苏州多恒胜精密机械有限公司
  • 2022-08-08 - 2022-11-29 - B24B29/02
  • 本实用新型公开了一种板材加工用表面抛光装置,涉及板材加工技术领域,该板材加工用表面抛光装置旨在解决现有技术下不能对板材表面进行移动抛光处理抛光不均匀的技术问题。该表面抛光装置包括工作台;工作台的外侧固定安装有固定背板,固定背板的外侧设置有左右调节组件,固定背板的上端设置有顶板,顶板的外侧设置有前后调节组件,顶板的外侧设置有托板,托板的上端设置有抛光机,抛光机的输出端设置有抛光轮该板材加工用表面抛光装置只需通过左右调节组件带动顶板左右移动,通过顶板带动托板移动,通过前后调节组件带动托板前后移动,启动抛光机带动抛光轮转动,通过托板带动抛光轮对板材进行抛光处理,从而实现了对板材的移动抛光处理
  • 一种板材工用表面抛光装置
  • [发明专利]抛光-CN96121008.7无效
  • 宫下直人;安部正泰;下村玛丽子 - 东芝株式会社
  • 1996-11-13 - 2001-10-10 - C09G1/02
  • 一种对晶片作抛光处理时所用的抛光速率大的抛光剂以及在由CMP方法对半导体基片的被抛光膜作平坦化处理时用的抛光剂。$本发明的抛光剂为其中分散有选自氮化硅、碳化硅及石墨(碳)的一种材料的研磨粒子的抛光剂。本发明的抛光剂,其抛光速率大于分散有已知的研磨粒子的抛光剂,且对被抛光膜的平坦化效率高。适用于以CMP法对半导体基片的表面作抛光研磨处理。$#!
  • 抛光
  • [发明专利]抛光谷物加工机器-CN02103518.0有效
  • 宗贞健;河野征弘;藤川英富美;宇田修司 - 株式会社佐竹
  • 2002-02-05 - 2002-09-18 - B02B1/04
  • 一种抛光谷物加工机包括抛光谷物处理部分,通过将颗粒物与抛光谷物混合去除残留在抛光谷物表面上的麦麸,以便将去除麦麸的抛光谷物与吸附麦麸的颗粒物分离;颗粒物再处理部分,再处理吸附有麦麸的颗粒物,并将处理过的颗粒物返回到抛光谷物处理部分以便颗粒物的再利用,颗粒物再处理部分包括筛选管和去麸滚轮。筛选管用于分离预定粒度范围内的颗粒物,去麸滚轮安装在筛选管内并转动,去除吸附在返回到筛选管内的颗粒物表面的麦麸,去除麦麸的有着预定粒度范围内的颗粒物被筛选管分离并返回到抛光谷物处理部分。
  • 抛光谷物加工机器
  • [发明专利]以水枪辅助执行化学机械抛光处理程序的方法及其系统-CN201010180287.2有效
  • 宋健民 - 宋健民
  • 2010-05-13 - 2010-11-17 - B24B53/02
  • 本发明是有关于一种以水枪辅助执行化学机械抛光处理程序的方法及其系统,是在CMP处理程序期间自一CMP抛光垫的抛光表面上移除污染物以及/或是碎屑的方法与系统。在一方面,一在CMP处理程序期间自一CMP抛光垫的抛光表面上移除碎屑的方法可包含旋转一具有抛光表面的CMP抛光垫;以及将一CMP抛光垫修整器压向该CMP抛光垫的抛光表面,其中该CMP抛光垫修整器包含有多个耦合于其上的多个超研磨颗粒该多个超研磨颗粒并且被定向朝向该CMP抛光垫。该方法可进一步包含以一充足力量喷洒一液体喷射注到该CMP抛光垫的抛光表面上来驱除该CMP抛光垫的抛光表面上的碎屑。
  • 水枪辅助执行化学机械抛光处理程序方法及其系统
  • [发明专利]医用钛合金抛光液及抛光方法-CN201210065509.5无效
  • 周广宏;丁红燕;周长培;章跃;夏木建;朱雨富;林岳宾 - 淮阴工学院
  • 2012-03-14 - 2012-07-04 - C25F3/26
  • 本发明公开了医用钛合金抛光液及抛光方法,该抛光液包括高氯酸、甲醇、乙二醇和光亮剂,每升抛光液中高氯酸50~100ml、甲醇500~550ml、乙二醇350~450ml、光亮剂2~10g;抛光方法是:首先将钛合金进行简单机械抛光,然后进行电化学抛光;所述电化学抛光的电解液为上述的抛光液。本发明属于表面处理领域,针对医用钛合金使用前的抛光处理,所涉及的钛合金抛光液不含氢氟酸,不会产生对人体健康不利的挥发物质及强烈刺激性气味,电化学抛光相较于传统的机械抛光和化学抛光,经电化学抛光处理的钛合金表面光亮平整,无划痕或纹路,且对不规则件的抛光也可达到镜面效果。
  • 医用钛合金抛光方法

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