专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种连杆模具的自动抛光方法-CN202311005862.9在审
  • 王超;郑乾健;伍启华;刘鹏;肖聚亮;黄田;桑国良;陈国清 - 潍柴动力股份有限公司
  • 2023-08-10 - 2023-09-08 - B24B1/00
  • 本申请提供了一种连杆模具的自动抛光方法,包括:划分待抛光区域,选取对应的抛光头,获取抛光头的磨损规律,并建立抛光头的材料去除模型,以解算任意抛光参数下,抛光头材料去除深度随抛光时间的变化,以及获取待抛光区域的抛光深度最后利用材料去除模型,根据抛光深度及加工路径,得到期望抛光参数,并基于期望抛光参数和加工路径编写抛光程序,抛光机器人基于抛光程序进行自动抛光。该抛光方法利用材料去除模型,根据材料去除深度及加工路径得到期望抛光参数,使得该抛光方法可以根据抛光头的磨损程度设置对应的抛光参数,尽可能的避免抛光头磨损对于抛光质量的影响,有助于提高连杆模具的生产质量。
  • 一种连杆模具自动抛光方法
  • [发明专利]抛光液物理参数测量装置、测量方法和化学机械抛光设备-CN201110058436.2有效
  • 路新春;赵德文;何永勇;雒建斌 - 清华大学
  • 2011-03-10 - 2011-10-19 - G01K7/00
  • 本发明公开了一种用于化学机械抛光设备的抛光液物理参数测量装置及测量方法。化学机械抛光设备包括抛光头、转台、抛光盘和抛光垫,其中抛光垫设置有通孔。抛光液物理参数测量装置包括传感器,传感器设置在抛光盘内且适于通过抛光垫内的通孔与抛光液接触以测量抛光液的物理参数;变送器,变送器设置在转台内且与传感器相连用于将传感器的测量信号转换为标准电信号;和处理单元,处理单元与变送器相连用于获取标准电信号以得到抛光液的物理参数。根据本发明实施例的抛光液物理参数测量装置可以在线测量并得到抛光头与抛光垫之间的抛光液的物理参数。本发明还公开了一种具有所述抛光液物理参数测量装置的化学机械抛光设备。
  • 抛光物理参数测量装置测量方法化学机械抛光设备
  • [发明专利]一种利用抛光生成结构型表面的方法-CN201010560985.5有效
  • 张志辉;孔令豹;何丽婷;杜雪;李荣彬 - 香港理工大学
  • 2010-11-26 - 2012-05-30 - G06F17/50
  • 本发明涉及一种利用抛光生成结构型表面的方法,用户通过在抛光仿真系统中设定抛光参数,并通过抛光仿真系统模拟抛光生成结构型表面,所述抛光参数包括:抛光策略、表面设计参数、加工参数抛光参数、工件材料以及抛光液的配比;所述抛光仿真系统包括:输入模块、基于模型的仿真系统以及输出模块。本发明所述的利用抛光生成结构型表面的方法可处理含铁材料和难加工材料,具有生成更多不同结构型表面及纹理的能力,而这些表面纹理用其他加工方法不可能实现,使抛光过程更具可控性与可预测性。
  • 一种利用抛光生成结构表面方法
  • [发明专利]一种抛光设备的智能化控制方法及系统-CN202111235940.5有效
  • 许鹏 - 南通豪派金属制品有限公司
  • 2021-10-22 - 2022-03-11 - B24B49/12
  • 本发明公开了一种抛光设备的智能化控制方法及系统,获得第一尺寸信息;获得第一标准尺寸信息;获得第一抛光表面要求信息,将第一尺寸信息、第一标准尺寸信息和第一抛光表面要求信息输入抛光参数分配模型,获得第一参数分配结果;根据第一参数分配结果对粗抛光设备进行控制,获得第一粗抛光产品;获得第一粗抛光产品的第二尺寸信息;获得第一粗抛光产品的第一图像;根据第一图像和第二尺寸信息对第一参数分配结果进行调整,获得第二参数分配结果;通过第二参数分配结果进行精抛光设备参数控制。解决了现有技术中存在不能根据产品的具体参数信息和产品需求信息,智能化进行粗抛光和精抛光参数的联合智能化控制,导致抛光不良率升高的技术问题。
  • 一种抛光设备智能化控制方法系统
  • [发明专利]普雷斯顿矩阵产生器-CN201980012030.5在审
  • 锡瓦库马尔·达丹帕尼;托马斯·李;钱隽 - 应用材料公司
  • 2019-12-18 - 2020-09-22 - B24B37/005
  • 一种产生矩阵以将化学机械抛光系统的多个可控制参数抛光速率分布相关的方法包括抛光测试基板。使用将第一参数设置为第一值的基线参数值,来针对第一时间段抛光测试基板,并且使用将第一参数设置为修改的第二值的第一修改参数值,来针对第二时间段抛光测试基板。在抛光期间监控测试基板的厚度,并且针对第一时间段决定基线抛光速率分布,并且针对第二时间段决定第一修改抛光速率分布。基于基线参数值、第一修改参数、基线抛光速率分布和第一修改抛光速率分布,来计算矩阵。
  • 普雷斯顿矩阵产生器
  • [发明专利]一种镜片加工的抛光方法-CN201911019887.8在审
  • 朱晓;祝建军 - 明灏科技(北京)有限公司
  • 2019-10-24 - 2020-01-24 - B24B1/00
  • 一种镜片加工的抛光方法,该方法包括以下的抛光流程:设置对应于左右眼两片镜片的抛光加工参数;选取所述两片镜片的其中一个,根据对应的抛光加工参数对选取的镜片进行抛光加工;抛光加工完成后,根据对应的抛光加工参数对剩余的镜片进行抛光加工;本发明根据左右镜片其中一个镜片的折射率、屈光度、中心厚度等技术参数,设定精确的加工参数对该镜片进行抛光,相较于左右两片镜片依照其中一个镜片的加工参数同时进行抛光,本发明能够确保高精确度的镜片加工要求,降低了因同时抛光导致其中一个镜片精确度不够而产生过高的镜片废品率。
  • 镜片抛光加工抛光加工参数镜片加工屈光度技术参数折射率左右眼
  • [发明专利]抛光工艺参数优化方法、抛光系统、电子设备及存储介质-CN202310805671.4有效
  • 谢银辉;李俊 - 泉州装备制造研究所
  • 2023-07-03 - 2023-09-19 - G06F30/27
  • 本发明涉及数据处理技术领域,提供一种抛光工艺参数优化方法、抛光系统、电子设备及存储介质,首先获取用户输入的目标工件的抛光工艺参数的取值,抛光工艺参数包括抛光工具施加的压力、抛光工具的转速和进给速度;然后将目标工件的抛光工艺参数的取值输入至表面粗糙度预测模型,由表面粗糙度预测模型基于XGBoost算法确定目标工件经所述抛光工具进行抛光作业后的表面粗糙度。该方法结合抛光工具施加的压力、抛光工具的转速和进给速度等抛光工艺参数,利用XGBoost算法确定目标工件经抛光工具进行抛光作业后的表面粗糙度,可以实现对表面粗糙度的准确预测,为后续实现精确的表面质量控制提供理论基础,有助于提高抛光工具的抛光效率。
  • 抛光工艺参数优化方法系统电子设备存储介质

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