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[发明专利]感放射线性树脂组合物-CN200380102382.9有效
发明人：西村幸生;石井宽之;西村功;小林英一 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2003-10-23 - 公布日： 2005-12-14 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种感放射线性树脂组合物，该树脂组合物在使用如KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线之类的各种放射线的微细加工中可以用作为化学增幅型抗蚀剂。本发明的感放射线性树脂组合物含有〔A〕含有由下述通式(I－1)表示的重复单元(1－1)的树脂、〔B〕感放射线性酸发生剂(1－(4－正丁氧基萘基)四氢噻吩鎓九氟－正丁磺酸酯等)。
放射线性树脂组合

[发明专利]感放射线性树脂组合物-CN200510113729.0无效
发明人：八子由子;武部和男 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2005-10-14 - 公布日： 2006-04-19 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种感放射线性树脂组合物，其为含有具有硬化性的碱可溶性树脂(A)、醌二叠氮基化合物(B)和溶剂(C)的感放射线性树脂组合物，其中溶剂(C)为含有乳酸丁酯的溶剂。
放射线性树脂组合

[发明专利]感放射线性树脂组合物-CN200910126173.7无效
发明人：西村幸生;石井宽之;西村功;小林英一 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2003-10-23 - 公布日： 2009-09-16 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种感放射线性树脂组合物，该树脂组合物在使用如KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线之类的各种放射线的微细加工中可以用作为化学增幅型抗蚀剂。本发明的感放射线性树脂组合物含有〔A〕含有由通式(I-1)表示的重复单元(1-1)、以及、由通式(I-2)表示的重复单元(1-2)或由通式(I-5)表示的重复单元(1-5)，为碱难溶性或不溶性的、通过酸的作用而变成碱易溶性的树脂、以及〔B〕感放射线性酸发生剂；其中，上述树脂中没有内酯环，在构成上述树脂的总重复单元的合计量为100摩尔％的情况下，上述重复单元(1-1)的含有比例为40～90摩尔％。
放射线性树脂组合

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202080089460.X在审
发明人：吉村务;后藤研由;小岛雅史;崎田享平 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2020-12-07 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性树脂膜、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：含有具有特定的环结构的重复单元(a1)的树脂(A)、通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物(B)通过光化射线或放射线的照射分解而酸捕获性降低的特定的化合物
感光射线放射线性树脂组合图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202180016486.6在审
发明人：畠山直也;福崎英治;吉野文博 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-02-16 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、通过上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)树脂及(B)通过光化射线或放射线的照射产生酸的由特定的通式(1)表示的化合物。
感光射线放射线性树脂组合图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN201680062519.X在审
发明人：吉野文博 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2016-11-01 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用了该感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法，本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物用于形成膜厚为1μm以上的感光化射线性或感放射线性膜，并且用于进行基于波长200～300nm的光化射线或放射线的曝光，其中，由所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的膜厚12μm的感光化射线性或感放射线性膜中的对波长248nm的光的透射率为5％以上，且使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物，并通过波长200～300nm的光来对膜厚为1μm以上的感光化射线性或感放射线性膜进行曝光时，能够形成灵敏度优异，并且具有优异的剖面形状的图案。
感光射线感放射线性树脂组合物感放射线性波长膜厚电子器件图案形成光化射线剖面形状放射线灵敏度曝光透射率制造图案

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法及感光化射线性或感放射线性树脂组合物-CN201580013849.5在审
发明人：藤森亨;森弘喜 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2015-03-13 - 公布日： 2016-11-09 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法、及由所述制造方法所制造的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法包括使感光化射线性或感放射线性树脂组合物通过过滤器而进行过滤的过滤步骤，所述过滤步骤使感光化射线性或感放射线性树脂组合物通过孔径为10nm以下的第一过滤器
感光射线放射线性树脂组合制造方法

[发明专利]感放射线性树脂组合物-CN200510113741.1无效
发明人：八子由子;武部和男;川口裕次郎 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2005-10-14 - 公布日： 2006-04-19 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种感放射线性树脂组合物，其为含有具有硬化性的碱可溶性树脂(A)、醌二叠氮基化合物(B)、溶剂(C)和硅氧烷系表面活性剂(D)的感放射线性树脂组合物，其中，硅氧烷系表面活性剂(D)为含有HLB值为1以上
放射线性树脂组合

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法-CN202180024024.9在审
发明人：三好太朗;福崎英治 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-03-17 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)通过酸的作用而极性增加的树脂及(B)通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，该化合物由特定的通式表示，其中，上述树脂(A)包含由特定的通式表示的重复单元。
感光射线放射线性树脂组合图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法-CN201780052785.9有效
发明人：小岛雅史;浅川大辅;后藤研由;加藤启太;王惠瑜 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-06-09 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种保存稳定性优异且形成有抗蚀剂图案时的图案线宽的波动(LWR)较小的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有通过光化射线或放射线的照射而产生由下述式(I)表示的酸的化合物及树脂。抗蚀剂膜由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成。图案形成方法及电子器件的制造方法中使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感活性光线性或感放射线性树脂组合物、膜及化合物-CN201480053035.X有效
发明人：山口修平;土村智孝;横川夏海;高桥孝太郎 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-09-26 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供一种感活性光线性或感放射线性树脂组合物、感活性光线性或感放射线性膜、具备感活性光线性或感放射线性膜的空白掩模、图案形成方法、电子器件的制造方法、电子器件及新型化合物。本发明的感活性光线性或感放射线性树脂组合物的特征在于，含有碱溶性树脂(A)及下述通式(1‑0)所表示的交联剂(C)。[化学式1]
活性线性放射树脂组合备感空白图案形成方法电子器件制造新型化合物

[发明专利]图案形成方法、电子元件的制造方法及电子元件-CN201480021866.9在审
发明人：中村贵之;山中司 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-04-14 - 公布日： 2015-12-02 - 主分类号： G03F7/38 文献下载
摘要：一种图案形成方法，其依序包含：将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤，感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有由于酸的作用而对包含一种以上有机溶剂的显影液的溶解度减少的树脂、通过照射光化射线或放射线而产生酸的化合物、及溶剂；经由液浸液对感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；对感光化射线性或感放射线性膜进行加热的步骤；及利用包含有机溶剂的显影液对感光化射线性或感放射线性膜进行显影的步骤；并且，在膜形成步骤之后且曝光步骤之前、和/或曝光步骤之后且加热步骤之前包含对感光化射线性或感放射线性膜进行清洗的步骤。
图案形成方法电子元件制造

[发明专利]图案形成方法、电子器件的制造方法及感光化射线性或感放射线性树脂组合物-CN202180009570.5在审
发明人：吉野文博;楜泽佑真 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-02-16 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种图案形成方法、电子器件的制造方法及感光化射线性或感放射线性树脂组合物，所述图案形成方法包括：(i)由特定的感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜厚700nm以上的感光化射线性或感放射线性膜的工序；(ii)向上述感光化射线性或感放射线性膜照射波长200nm以下的光化射线或放射线的工序；及(iii)使用显影液对被照射上述波长200nm以下的光化射线或放射线的感光化射线性或感放射线性膜进行显影的工序
图案形成方法电子器件制造感光射线放射线性树脂组合

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法-CN202280014601.0在审
发明人：山口修平;三好太朗;吉冈知昭;福崎英治 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2022-01-17 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种能够减小所形成的图案的LWR的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物为包含具有重复单元(a)的树脂(A)的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，上述重复单元(a)是具有通过光化射线或放射线的照射使脱离基脱离而产生酸的离子性基团，并且将上述脱离基取代为氢原子而成的重复单元的分子量为300以下的重复单元，相对于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总固体成分，上述重复单元(a)为规定量以上。
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法、化合物-CN202180041834.5在审
发明人：小岛雅史;高田晓;后藤研由;川端健志;牛山爱菜 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-05-19 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的第1课题在于提供一种可获得良好的形状的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的第2课题在于提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。并且，本发明的第3课题在于提供一种能够适合用于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的化合物。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物、重均分子量为30,000以下的酸分解性树脂及溶剂，上述通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含化合物(I)
感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜图案形成方法电子器件制造化合物

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