专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]余氯传感芯片及余氯检测方法-CN201811014115.0有效
  • 王宁;杨建强;雷磊 - 武汉理工大学
  • 2018-08-31 - 2020-08-11 - G01N35/00
  • 所述空心光子晶体光纤的一端通过光纤连接外部的光电探测器,另一端的底部端面为反射面;所述空心光子晶体光纤的一端还设有光源耦合端口;在所述空心光子晶体光纤外部沿其长度方向依次设置显色剂腔、混合反应腔和溶液回收腔;所述显色剂腔内设有显色剂流体管;所述混合反应腔内设有流控芯片,该流控芯片上设有沟道,该沟道与所述空心光子晶体光纤的内部连通;所述该沟道上设有显色剂入口和水样入口,该显色剂入口与所述显色剂流体管连通,该水样入口连接一水流体管
  • 余氯传感芯片检测方法
  • [发明专利]低电压驱动阵列电极式毛细管电泳芯片-CN200610200183.7无效
  • 闫卫平;陈里铭;刘军民;郭吉洪 - 大连理工大学
  • 2006-02-28 - 2006-10-11 - G01N33/48
  • 本发明属于分析化学中的全分析系统研究技术领域,用以在芯片毛细管电泳分离过程中实现低电压驱动样品进样。其特征是利用毛细管电泳中电渗流驱动的原理,在玻璃盖片上刻蚀毛细管电泳沟道,并以热键合的方法封接基片和盖片,制作出阵列电极式毛细管电泳芯片。在“十”字形毛细管电泳芯片的进样沟道和分离沟道上分别设置了一系列电极,即在缓冲液池至十字沟道之间,以及样品废液池至十字沟道之间,都分别设置了阵列电极,通过设计不同的电压组合,在电极上循环施加电压实现样品的进样和分离本发明的效果和益处是较大幅度降低毛细管电泳的进样和分离电压,使全分析系统实现真正的集成化和微型化。
  • 电压驱动阵列电极毛细管电泳芯片
  • [发明专利]一种微小三维结构沟道流芯片的制备方法-CN201410574398.X有效
  • 刘侃;刘松林;艾钊;方义 - 武汉纺织大学
  • 2014-10-24 - 2015-02-04 - B01L3/00
  • 本发明涉及一种微小三维结构沟道流芯片的制备方法,包括湿法刻蚀工艺中的基底的选择、刻蚀图样的包埋、湿法刻蚀、基底的键合,所述的湿法刻蚀是指将基底经过刻蚀图样的掩膜包埋物之后,通过输送夹具,按照0.01mm/min-1mm/min的速率将基底缓慢的放入到刻蚀液中,通过调整输送夹具的速率,得到不同坡度的微小三维结构沟道流芯片。本发明的制备方法改变了以往以直接浸泡腐蚀方法刻蚀出的流芯片的沟道过于单一和过于规则的现状,通过调整夹具的输送速率,使浸入到刻蚀液中的基底的刻蚀面的各个部分刻蚀的时间不同,从而得到不同特殊形状的微小三维结构沟道本发明的制备方法工艺简单,制备出来的流芯片具有微型化的特点,可广泛的用于分析领域。
  • 一种微小三维结构沟道芯片制备方法
  • [发明专利]一种纳跨尺度聚合物喷针的制造方法-CN202010893592.X有效
  • 邹赫麟;郭冉;徐良 - 大连理工大学
  • 2020-08-31 - 2022-06-14 - B81C1/00
  • 本发明属于微机电研究领域,涉及一种纳跨尺度聚合物喷针的制造方法。本发明采用侧蚀剥离法和反应离子深刻蚀技术,制备硅纳米模具;通过PDMS浇注技术将硅纳米模具的图形转移到PDMS上,制备带有纳米沟道图形的PDMS纳米模具。通过热压印将PDMS纳米模具的图形转移到SU‑8光刻胶上,形成纳米沟道;采用反向紫外曝光方法制造微米沟道同时紫外固化纳米结构。用SU‑8光刻胶盖板通过氧等离子体辅助热键合,对沟道进行封装,获得纳跨尺度聚合物喷针。热键合后采用湿法刻蚀方法去除聚合物喷针下面的玻璃基底,使聚合物喷针针尖前部悬空,形成针尖悬空的带有纳复合图形的聚合物喷针。本发明操作简单、成本低、工艺重复性好。
  • 一种微纳跨尺度聚合物制造方法
  • [实用新型]一种H桥双路电机驱动电路-CN201921008463.7有效
  • 谭伟;李涵;师杰 - 重庆海德世拉索系统(集团)有限公司
  • 2019-07-01 - 2020-04-14 - H02P5/46
  • 一种H桥双路电机驱动电路,包括两个电机、三个N沟道场效应管、三个P沟道场效应管,三个P沟道场效应管的漏极与电源连接,三个N沟道场效应管的源极接地,第一电机的第二连接端连接第二电机的第二连接端,第一电机的第一连接端连接第一P沟道场效应管的源极和第一N沟道场效应管的漏极,第二电机的第一连接端连接第三P沟道场效应管的源极与第三N沟道场效应管的漏极,第二P沟道场效应管的源极和第二N沟道场效应管的漏极与第一电机的第二连接端、第二电机的第二连接端间的连接点相连,三个P沟道场效应管和三个N沟道场效应管的栅极连接控制单元相应的控制端口,通过控制单元控制三个N沟道场效应管和三个P沟道场效应管的导通和关断。
  • 一种桥双路电机驱动电路
  • [发明专利]沟道场效晶体管制造方法-CN03816143.5有效
  • R·菲赫哈伯;H·图斯 - 因芬尼昂技术股份公司
  • 2003-06-21 - 2005-09-07 - H01L21/28
  • 本发明涉及一种短沟道场效晶体管制造方法。本发明乃涉及一种制造一短沟道场效晶体管的方法,包括下列步骤:形成一次影栅极牺牲层(3M),在该次影栅极牺牲层(3M)的侧壁处形成间隙壁(7S),移除该次影栅极牺牲层(3M)以形成一栅极凹陷,以及在该栅极凹陷中形成一栅极介电质(10)与一控制层(11),而如此的结果为会形成在低于100纳米范围内的临界尺寸中具有最小波动的一短沟道FET。
  • 沟道晶体管制造方法

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