专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]萃取装置-CN202111305189.1在审
  • 郑子涛;陈建明 - 建溢金融财务有限公司
  • 2021-11-05 - 2022-03-25 - A47J31/44
  • 本发明属于家用电器技术领域,涉及一种萃取装置,包括:水箱,用于存储液体;萃取容器,具有密闭腔体密闭腔体通过第一连接管与水箱连接,并且密闭腔体具有一投放开口,用于投放萃取物;真空泵,通过第二连接管与密闭腔体连通,用于对密闭腔体进行减压;制冷器,设置于密闭腔体的至少一面,用于对密闭腔体进行降温;控制器,分别与制冷器和真空泵连接,控制器控制真空泵抽气使水箱中的液体进入密闭腔体中,并且控制器还用于控制制冷器对密闭腔体中的液体降温至预设温度;和/或控制器还用于控制真空泵在液体进入到密闭腔体后,使密闭腔体内的压力减小到预设压力。
  • 萃取装置
  • [实用新型]铝塑包装密闭下料系统-CN201720225700.X有效
  • 陈琭;周晓凤 - 上海罗氏制药有限公司
  • 2017-03-09 - 2017-10-20 - B65B1/00
  • 铝塑包装密闭下料系统包括密闭下料腔体、负压控制系统、进气装置、料斗、热封腔体和PVC成型腔体,负压控制系统与密闭下料腔体左侧连接,进气装置和料斗设于密闭下料腔体顶端,热封腔体密闭下料腔体右侧连接,PVC成型腔体密闭下料腔体底端连接;其中,负压控制系统包括传感装置、风道、粉尘过滤装置、电磁阀、真空泵、PLC控制系统、排气口和壳体。本实用新型采用在密闭腔体预留的公用设施接口安装特殊的排风系统进行负压控制的方法,使铝塑下料系统的密闭环境IOEL的指标不会超标,方便操作人员的实际操作和清洁,保护人员健康安全。
  • 包装密闭系统
  • [实用新型]带隔板的密闭腔体-CN202121480173.X有效
  • 王飞;罗兵 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2021-06-30 - 2021-12-10 - C21D1/09
  • 本申请公开了一种带隔板的密闭腔体密闭腔体包括:装置主体,装置主体内设置有腔体腔体用于填充氮气,以进行激光退火;装置主体包括相对设置的两个侧板,其中一个侧板上设置有进气口,另一个侧板上设置有排气口;隔板,设于腔体中,隔板将腔体分成上下两个腔体,进气口用于向上腔体中注入氮气,排气口用于将上腔体中的氮气排出。本申请能快速的向进行激光退火的腔体中注满氮气,且能降低氮气的使用量、确保氮气均匀平稳的向腔体内输送。
  • 隔板密闭
  • [发明专利]一种裸芯级恒温密闭装置-CN202310202567.6在审
  • 柴俊标;卜建明;贺庭玉;廖剑;余亮 - 杭州中安电子有限公司
  • 2023-02-24 - 2023-05-30 - G01R31/28
  • 本发明涉及器件测试装置技术领域,提供了一种裸芯级恒温密闭装置,所述装置由控制检测模块,小型化密闭恒温装置,氮气连接密闭装置组成,位于老化箱箱体内,所述小型化密闭恒温装置包括大腔体高温恒温装置和小腔体密闭恒温装置,所述小腔体密闭恒温装置位于大腔体高温恒温装置内,所述氮气连接密闭装置通过气管分别与小腔体密闭恒温装置连接,所述控制检测模块分别与大腔体高温恒温装置、小腔体密闭恒温装置以及氮气连接密闭装置通过控制线控制连接通过一个独立恒温大腔体和独立恒温小腔体,使DUT的温度精度控制在±0.5之内,并且使得芯片可以工作在更高的温度环境下,同时让微波匹配板的工作在安全的温度环境中。
  • 一种裸芯级恒温密闭装置
  • [发明专利]一种在产品表面制作图案的设备及方法-CN201610755404.0在审
  • 孙侥鲜;唐臻;王长明;谢守德 - 东莞劲胜精密组件股份有限公司
  • 2016-08-29 - 2016-12-14 - B41F16/00
  • 一种在产品表面制作图案的设备和方法,该设备包括上腔体、下腔体腔体合模驱动装置、承载平台、承载平台驱动装置、抽真空装置和加热装置,上腔体和下腔体的开口相对设置,印有图案的薄膜固定在上腔体或下腔体的开口上,腔体合模驱动装置用于驱动上腔体和下腔体合模以形成密闭腔体,薄膜将密闭腔体分隔为第一密闭腔室和第二密闭腔室,加热装置设置在上腔体和/或下腔体中,用于对薄膜进行加热,抽真空装置分别连通第一密闭腔室和第二密闭腔室,承载平台设置在下腔体中,用于承载待制作图案的产品,承载平台连接承载平台驱动装置。
  • 一种产品表面制作图案设备方法
  • [实用新型]一种在产品表面制作图案的设备-CN201620977237.X有效
  • 孙侥鲜;唐臻;王长明;谢守德 - 东莞劲胜精密组件股份有限公司
  • 2016-08-29 - 2017-03-08 - B41F16/00
  • 一种在产品表面制作图案的设备,包括上腔体、下腔体腔体合模驱动装置、承载平台、承载平台驱动装置、抽真空装置和加热装置,上腔体和下腔体的开口相对设置,印有图案的薄膜固定在上腔体或下腔体的开口上,腔体合模驱动装置用于驱动上腔体和下腔体合模以形成密闭腔体,薄膜将密闭腔体分隔为第一密闭腔室和第二密闭腔室,加热装置设置在上腔体和/或下腔体中,用于对薄膜进行加热,抽真空装置分别连通第一密闭腔室和第二密闭腔室,承载平台设置在下腔体中,用于承载待制作图案的产品,
  • 一种产品表面制作图案设备
  • [实用新型]一种具有多层密闭腔体的灯具-CN202020036310.X有效
  • 巢芳超;曾平;胡俊 - 中节能晶和照明有限公司
  • 2020-01-09 - 2020-10-09 - F21S8/08
  • 本实用新型公开的一种具有多层密闭腔体的灯具,包括灯具主体,多个密闭腔体,所述多个密闭腔体采取上下叠加的方式通过紧固件进行组合,所述密闭腔体包括密封结构件,腔体主体,采用独立的密闭腔体组合,利用密封结构件及固定件将多个密闭腔体进行叠加固定,解决了现有电子器件腔体为放置单灯控制器而统一设计过大,降低了过度的呼吸效应从而导致的防水等级降低的风险;同时,根据需要进行腔体数量的增减,降低生产成本的同时,更适应市场需求。
  • 一种具有多层密闭灯具
  • [实用新型]齿轮油预处理装置-CN201521032596.X有效
  • 吴向亚;王建兵 - 铜陵有色金属集团铜冠物流有限公司
  • 2015-12-14 - 2016-05-11 - F16N39/04
  • 本实用新型公开了齿轮油预处理装置,它包括矩形密闭腔体(1),所述矩形密闭腔体两端顶部分别设有进油口(2)和出油口(3),所述矩形密闭腔体内交错间隔分布有至少两道纵向隔板,使得矩形密闭腔体内部形成S型通道,所述纵向隔板包括固接在矩形密闭腔体顶部向下延伸的第一纵向隔板(4)和固接在矩形密闭腔体底部向上延伸的第二纵向隔板(5),所述第一纵向隔板的底部与矩形密闭腔体底部留有一定间隙,所述第二纵向隔板的顶部与矩形密闭腔体顶部留有一定间隙本实用新型的有益效果是纵向隔板使得矩形密闭腔体内形成S型通道,可以对经过的齿轮油进行流向交替变换,使得齿轮油内的杂质下沉至底部,保证齿轮油的上部是叫纯净的齿轮油。
  • 齿轮油预处理装置
  • [发明专利]一种硅基晶圆的表面处理装置及处理方法-CN202110234628.8在审
  • 黄鹤;杨霞 - 昆山赛米瑟泊电子科技有限公司
  • 2021-03-03 - 2021-05-18 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种硅基晶圆的表面处理装置及处理方法,包括密闭腔体和连通密闭腔体内部的第一管路以及第二管路,所述密闭腔体还连接有第三管路,所述密闭腔体内设有用于放置硅基晶圆的反应台,所述密闭腔体上设有对应所述反应台的高透光玻璃窗,所述密闭腔体的外部具有能量光源;所述第一管路连通氮气,所述第二管路连通惰性气体,所述第三管路外接真空泵,所述第一管路上设有第一控制阀,所述第二管路上设有第二控制阀,所述第三管路上设有第三控制阀;所述密闭腔体还外接有用于监测所述密闭腔体内部气压的压力计本发明通过设置密闭腔体并在密闭腔体内充入反应气体,为硅基晶圆表面处理提供反应环境,保证硅基晶圆的表面处理的稳定性,提高硅基晶圆表面处理工艺效果。
  • 一种硅基晶圆表面处理装置方法
  • [实用新型]一种硅基晶圆的表面处理装置-CN202120460640.6有效
  • 黄鹤;杨霞 - 昆山赛米瑟泊电子科技有限公司
  • 2021-03-03 - 2021-09-24 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了一种硅基晶圆的表面处理装置,包括密闭腔体和连通密闭腔体内部的第一管路以及第二管路,所述密闭腔体还连接有第三管路,所述密闭腔体内设有用于放置硅基晶圆的反应台,所述密闭腔体上设有对应所述反应台的高透光玻璃窗,所述密闭腔体的外部具有能量光源;所述第一管路连通氮气,所述第二管路连通惰性气体,所述第三管路外接真空泵,所述第一管路上设有第一控制阀,所述第二管路上设有第二控制阀,所述第三管路上设有第三控制阀;所述密闭腔体还外接有用于监测所述密闭腔体内部气压的压力计本实用新型通过设置密闭腔体并在密闭腔体内充入反应气体,为硅基晶圆表面处理提供反应环境,保证硅基晶圆的表面处理的稳定性,提高硅基晶圆表面处理工艺效果。
  • 一种硅基晶圆表面处理装置

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