专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基材真空成形模具和方法-CN201680037189.9在审
  • 池洪根;蔡圭奉 - 康宁精密材料有限公司
  • 2016-06-22 - 2018-04-06 - C03B23/035
  • 用于真空成形基材的模具包括腔体和形成成与腔体连通的真空入口。真空入口形成在腔体的侧壁表面上,并且腔体内位于基材下侧的空气通过侧壁表面吸取出去。此外,基材的真空成形方法将基材放在基材真空成形模具的顶部上,所述基材真空成形模具包括腔体和形成在腔体的侧壁表面与腔体连通的真空入口,以及通过真空入口进行吸取,从而腔体内位于基材下侧的空气通过侧壁表面吸取出去
  • 基材真空成形模具方法
  • [发明专利]真空成膜装置-CN201180042876.7有效
  • 天久勇人 - 新明和工业株式会社
  • 2011-08-30 - 2013-05-08 - C23C14/24
  • 本发明的真空成膜装置(100)是在真空状态下对多个基材(20)成膜的成膜装置,具备:用于支持基材的多个基材支持体(23);支持并搬运多个基材支持体(23)的基材单元(2);和具有用于搬入及搬出该基材单元(2)的搬入口(10)以及用于开闭该搬入口(10)的搬入口门(11),且用于形成真空状态的真空槽(1)。基材单元(2)支持多个基材支持体(23)以使其在向真空槽(1)的搬运方向上直列地配置;搬入口(10)根据基材单元(2)的尺寸而形成。
  • 真空装置
  • [发明专利]位于过滤器基材上的选择性催化还原催化剂-CN201980070772.3在审
  • M·彼得;S·斯蒂贝尔斯;K·杜穆布亚;C·赞贝尔 - 巴斯夫公司
  • 2019-10-30 - 2021-06-11 - B01J35/00
  • 本发明涉及一种用于处理被动点火发动机的排气料流的选择性催化还原催化剂,该催化剂包含:多孔壁流式过滤器基材,其包含入口端、出口端、在入口端和出口端之间延伸的基材轴向长度(w),以及由多孔壁流式过滤器基材的多孔内壁限定的多个通道;其中催化剂还包含第一涂层,所述第一涂层在由基材入口端至出口端的基材轴向长度的x%上延伸,其中x在10至100的范围内,其中第一涂层包含铜和8员环孔沸石材料;其中催化剂还包含第二涂层,所述第二涂层在由基材的出口端至入口端的基材轴向长度的y%上延伸,其中y在20至90的范围内,其中第二涂层包含铜和任选地8员环孔沸石材料;其中催化剂任选地还包含第三涂层;其中x+y为至少90;其中由基材的出口端至入口端的w的y%限定涂覆基材的出口区,且由基材入口端至出口端的w的(100‑y)%限定涂覆基材入口区;其中入口区中以CuO计的铜负载量Cu(in)相对于出口区中以CuO计的铜负载量Cu(out)的比值Cu(in):Cu(out)小于1:1。
  • 位于过滤器基材选择性催化还原催化剂
  • [实用新型]热熔胶涂布贴合机-CN201620970307.9有效
  • 蔡锦云;蔡锦龙;谢容泉 - 厦门市豪尔新材料股份有限公司
  • 2016-08-29 - 2017-03-15 - B32B37/06
  • 本实用新型涉及热熔胶涂布贴合机,用于第一基材、中间基材以及第二基材的贴合成型,包括机台,其特征在于该机台上安装有第一涂布机构、第二涂布机构、中间基材放卷机构以及贴合机构以及切断机构、传输机构、接料盒;该第一、第二基材经由第一、第二涂布机构涂胶后分别载入至该贴合机构的入口端;该中间基材放置于中间基材放卷机构上,而后载入至该贴合机构的入口端;在该贴合机构的入口端,该第一、第二基材涂胶的一面相对设置,且该中间基材位于第一、第二基材之间,进而该第一基材、中间基材以及第二基材经该贴合机构所贴合成型。
  • 热熔胶涂布贴合
  • [发明专利]纤维增强树脂的制备方法-CN201380007644.7有效
  • 山本晃之助;辻诚司;北川将士 - 东丽株式会社
  • 2013-02-15 - 2014-10-15 - B29C39/24
  • 一种纤维增强树脂的制备方法,所述方法向配置在成型模具内的增强纤维基材,从在面对该增强纤维基材表面的方向开设的注入口注入树脂,使其含浸在该增强纤维基材中,所述制备方法的特征在于,在厚度方向至少部分地预先除去位于所述注入口的正下方的增强纤维基材部分,由此,在成型模具内的增强纤维基材中形成注入树脂通过用空间,使由注入口注入的树脂通过注入树脂通过用空间而含浸在增强纤维基材中。通过预先在注入口正下方的增强纤维基材部位形成注入树脂通过用空间,从而可以抑制由注入树脂导致的增强纤维基材表面的下压,减少表面的树脂层,可以在维持优异的生产能力的同时提高成型品的表面的设计性。
  • 纤维增强树脂制备方法
  • [实用新型]一种显微拉曼光谱微流控芯片-CN202120480291.4有效
  • 尹桂林;周龙龙;牛增元;叶曦雯;罗忻;张雪琰;孙忠松;刘泉 - 尹桂林
  • 2021-03-05 - 2021-10-26 - B01L3/00
  • 本实用新型提供一种显微拉曼光谱微流控芯片,包括聚二甲基硅氧烷基材、以及形成于所述聚二甲基硅氧烷基材内的液体流动通道,所述液体流动通道包括以下结构:试样入口、SERS试剂入口、聚集剂入口、微流控反应通道、检测液池和废液出口;所述试样入口、SERS试剂入口、聚集剂入口、微流控反应通道、检测液池和废液出口互相贯通,其中试样入口、SERS试剂入口、聚集剂入口和废液出口的末端位于聚二甲基硅氧烷基材的外表面,与外界相通;微流控反应通道和检测液池密封于聚二甲基硅氧烷基材内部。
  • 一种显微光谱微流控芯片
  • [实用新型]一种高效能精密烘箱-CN200720059429.3无效
  • 吴培唐;杨思国;吴图壮 - 吴培唐
  • 2007-11-07 - 2008-10-01 - F26B13/00
  • 本实用新型是为了解决现有同类热风烘箱存在的烘干温度不均匀、造成被烘干基材各部分收缩率不同、影响涂布产品质量的问题。技术方案要点:包括壳体以及其内的匀风室、烘干室、基材导辊,其中壳体上有进风口、排风口、基材入口基材输出口,进风口与匀风室相通,匀风室有若干个缝隙式风嘴与烘干室相通,排风口与烘干室相通,基材入口基材输出口与烘干室相通,若干个基材导辊排列于基材入口基材输出口之间,其特征是:匀风室在进风口和风嘴之间由一匀流板分隔开为二部分,匀流板上均匀密布有风孔。
  • 一种高效能精密烘箱
  • [发明专利]浸润式微影系统与微影制程-CN200610099439.X无效
  • 张庆裕;林进祥 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2006-07-20 - 2007-03-21 - G03F7/20
  • 此系统至少包括:具有前表面的成像透镜、位于成像透镜的前表面下方的基材平台、浸润液维持结构,此浸润液维持结构是设置来容纳第一流体,其中第一流体是至少部分地填充在前表面与基材平台上的基材间的空间中。此浸润液维持结构包括第一入口和第二入口其中的至少一者,其中第一入口是位于靠近成像透镜并连接至真空泵系统,第一入口可操作来提供第一流体至前表面与基材之间;第二入口是位于靠近成像透镜,并可操作来提供第二流体至基材
  • 浸润式微系统微影制程
  • [发明专利]排气后处理装置-CN201910159103.5有效
  • K·德鲁德尔 - 唐纳森公司
  • 2015-02-25 - 2021-06-18 - F01N3/28
  • 一种用于处理排气的排气处理装置(100)包括:主体(110),所述主体限定了内部(111)、入口(115)、以及出口(116);入口安排(120),所述入口安排被布置在所述入口(115)处;后处理基材(130),所述后处理基材被布置在所述入口(115)与所述出口(116)之间;限流器安排(140),所述限流器安排被布置在所述主体内部(111)的第一封闭端(112)与所述后处理基材(130)之间;以及配量安排所述限流器安排(140)限定了限流通路,所述限流通路(145)朝向所述第一封闭端(112)延伸,以使得从所述入口(115)进入所述主体内部(111)的排气在进入所述限流通路(145)和通到所述后处理基材
  • 排气处理装置
  • [发明专利]排气后处理装置-CN201580009443.X有效
  • K·德鲁德尔 - 唐纳森公司
  • 2015-02-25 - 2019-04-09 - F01N3/20
  • 一种用于处理排气的排气处理装置(100)包括:主体(110),所述主体限定了内部(111)、入口(115)、以及出口(116);入口安排(120),所述入口安排被布置在所述入口(115)处;后处理基材(130),所述后处理基材被布置在所述入口(115)与所述出口(116)之间;限流器安排(140),所述限流器安排被布置在所述主体内部(111)的第一封闭端(112)与所述后处理基材(130)之间;以及配量安排所述限流器安排(140)限定了限流通路,所述限流通路(145)朝向所述第一封闭端(112)延伸,以使得从所述入口(115)进入所述主体内部(111)的排气在进入所述限流通路(145)和通到所述后处理基材
  • 排气处理装置

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