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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]图案细微化用涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法-CN03815397.1无效
发明人：菅田祥树;金子文武;立川俊和 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-06-26 - 公布日： 2005-09-07 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本发明提供一种用于图案细微化的涂膜形成剂，是一种用于按以下方式形成细微图案的涂膜形成剂：在具有光致抗蚀剂图案的基板上涂敷该涂膜形成剂，利用其热收缩作用缩小光致抗蚀剂图案的间隔后，实质上完全除去该涂膜，形成细微图案，其特征在于该涂膜形成剂含有水溶性聚合物和含酰胺基的单体，或者含有至少含有(甲基)丙烯酰胺作为构成单体的水溶性聚合物。本发明还提供一种使用上述任何一种用于图案细微化的涂膜形成剂形成细微图案的方法。利用本发明，可以显著提高加热处理时用于图案细微化的涂膜形成剂的热收缩率，能够得到外形良好、具备现有半导体器件所要求特性的细微图案。
图案细微化用形成使用方法

[发明专利]用于制造光学片模块的方法和设备-CN201780034290.3在审
发明人：闵池泓 -专利权人：株式会社LMS
申请日： 2017-06-02 - 公布日： 2019-02-12 - 主分类号： G02B5/28 文献下载
摘要：本发明涉及用于制造光学片模块的方法，并且该方法包括：用液态源材料涂覆第一基础膜的顶表面以形成第一结构化图案的第一图案形成步骤；在保持第一结构化图案的形状的同时使第一结构化图案半固化的临时图案固化步骤；用粘合层涂覆第二基础膜的表面的粘合层涂覆步骤；使涂覆在第二基础膜上的粘合层半固化的临时粘合层固化步骤；将第一基础膜的第一结构化图案的至少一部分粘合到第二基础膜的底表面的粘合步骤；以及在粘合第一基础膜和第二基础膜的同时使第一结构化图案固化的主固化步骤
基础膜结构化图案涂覆粘合层固化半固化光学片粘合图案形成步骤方法和设备液态源材料临时图案临时粘合粘合步骤顶表面主固化制造

[发明专利]用于图案细微化的涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法-CN02826382.0无效
发明人：新堀博;菅田祥树 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2002-12-26 - 公布日： 2005-04-27 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本发明提供一种用于图案细微化的涂膜形成剂，以及使用该涂膜形成剂形成细微图案的方法。该涂膜形成剂是一种用于按以下方式形成细微图案的涂膜形成剂：在具有光刻胶图案的基板上涂敷该涂膜形成剂，利用其热收缩作用使光刻胶图案间的间隔缩小后，实质上完全除去该涂膜，形成细微图案，其特征在于含有(a)水溶性聚合物和利用本发明，能够提供一种可得到具有以下特性细微图案的涂膜形成剂和使用该涂膜形成剂形成细微图案的方法：即图案尺寸控制性优良，具有良好的外形，以及半导体器件所要求的特性。
用于图案细微形成使用方法

[发明专利]用于图案细微化的涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法-CN02822202.4有效
发明人：菅田祥树;金子文武;立川俊和 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2002-11-05 - 公布日： 2005-02-16 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本发明提供一种用于图案细微化的涂膜形成剂，是一种用于按以下方式形成细微图案的涂膜形成剂：在具有光刻胶图案的基板上涂敷该涂膜形成剂，利用其热收缩作用缩小光刻胶图案间的间隔后，形成细微图案，其特征在于含有水溶性聚合物和表面活性剂本发明还提供一种使用该涂膜形成剂形成细微图案的方法。利用本发明，能够提供一种可得到具有以下特性的细微图案的涂膜形成剂和使用该涂膜形成剂形成细微图案的方法：即图案尺寸控制性优良，具有良好的外形，以及半导体器件所要求的特性。
用于图案细微形成使用方法

[实用新型]一种用于卡证的金属化预涂膜-CN201820636116.8有效
发明人：武俊 -专利权人：北京康得新功能材料有限公司
申请日： 2018-04-28 - 公布日： 2019-07-26 - 主分类号： C09J7/25 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于卡证的金属化预涂膜，包括由上往下依次设置的热熔胶层b、印刷层、基材层、结构层、底涂层、镀铝层、镀铝保护层、热熔胶层a，以及具有颜色和/或印刷图案的印刷层。本实用新型的金属化预涂膜将印刷图案与薄膜金属化相结合，不仅丰富了卡证的图案设计方案，而且采用预涂的方式解决了金属化装饰层与卡面粘接不牢的问题，从而扩展了预涂膜的应用领域。
预涂膜金属化卡证本实用新型热熔胶层印刷图案印刷层薄膜金属化金属化装饰图案设计依次设置保护层底涂层镀铝层基材层结构层镀铝卡面预涂粘接

[发明专利]形成细微图案的方法-CN02821984.8有效
发明人：新堀博;菅田祥树;金子文武;立川俊和 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2002-11-05 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： G03F7/40 文献下载
摘要：本发明提供一种形成细微图案的方法，特征在于重复进行以下工序：在具有光刻胶图案的基板上涂敷用于图案细微化的涂膜形成剂的工序；利用热处理使所述涂膜形成剂收缩，利用该热收缩作用缩小光刻胶图案间的间隔的工序；和除去所述用于图案细微化的涂膜形成剂的工序利用本发明，可以提供这样一种细微图案的形成方法，即在图案尺寸的控制性方面优良，可以用于形成具有良好外形和半导体器件所要求特性的细微图案，即使在使用具有膜厚为1.0μm左右以上的厚膜光刻胶图案的基板时，也可以得到具有良好外形的细微图案
形成细微图案方法

[发明专利]用于图案细微化的涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法-CN03137790.4无效
发明人：菅田祥树;金子文武;立川俊和 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-06-23 - 公布日： 2004-01-21 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种用于图案细微化的涂膜形成剂，是一种用于按以下方式形成细微图案的涂膜形成剂：在具有光刻胶图案的基板上涂敷该涂膜形成剂，利用其热收缩作用缩小光刻胶图案的间隔后，实质上完全除去该涂膜，形成细微图案本发明还提供一种使用该涂膜形成剂形成细微图案的方法。利用本发明，可以降低发泡、减少缺陷、流平性和涂布性优良，可以得到外形良好、具有现有半导体器件所要求特性的细微图案。
用于图案细微形成使用方法

[发明专利]量子点发光结构、其光致图案化方法和应用-CN202310107399.2在审
发明人：樊军鹏;徐锐;章婷;钱磊 -专利权人：宁波杭州湾新材料研究院;中国科学院宁波材料技术与工程研究所
申请日： 2023-02-08 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： H10K71/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种量子点发光结构、其光致图案化方法和应用。所述光致图案化方法包括：提供涂覆液，所述涂覆液中包括量子点以及光敏添加剂，且所述量子点表面具有配体；使所述涂覆液成膜，形成前体膜；在保护性气氛下，对所述前体膜进行图案化光照，后通过显影步骤去除部分所述前体膜，获得图案化的量子点发光结构。本发明所提供的光致图案化方法能够实现量子点材料的直接光刻成形且便于获得高分辨率量子点发光结构的像素阵列，并且，由于采用保护性气氛下的紫外光照，能够降低对量子点性能的影响获得更好的光刻效果，较好地保留了量子点的光学性能
量子发光结构图案方法应用

[发明专利]形成细微图案的方法-CN03147903.0无效
发明人：菅田祥树;金子文武;立川俊和 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-06-25 - 公布日： 2004-01-21 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种形成细微图案的方法，包括以下工序：在具有光刻胶图案的基板上涂敷用于图案细微化的涂膜形成剂的工序；除去附着在基板的端缘部和/或里面部的不需要的涂膜形成剂的工序；利用热处理使所述涂膜形成剂热收缩，利用该热收缩作用缩小光刻胶图案间的间隔的工序；和实质上完全除去所述涂膜形成剂的工序。利用本发明，可以很好地控制图案尺寸，同时可以得到外形良好和具有半导体器件所要求特性的细微图案，还可以防止导致器件污染的颗粒的发生。
形成细微图案方法

[发明专利]形成半导体器件的图案的方法-CN200910150093.5无效
发明人：李基领 -专利权人：海力士半导体有限公司
申请日： 2009-07-13 - 公布日： 2010-06-09 - 主分类号： H01L21/82 文献下载
摘要：本发明公开一种形成半导体器件的图案的方法，具体地公开了使用间隔物图案化工序形成半导体器件的图案的方法，该方法包括：在包括间隔物图案的基板上涂覆可显影的抗反射膜；在抗反射膜上涂覆光阻膜；以及利用曝光和显影工序将抗反射膜和光阻膜图案化以形成蚀刻掩模图案蚀刻掩模图案具有良好的轮廓。当使用蚀刻掩模图案蚀刻下面的基层时，可以保证足够的蚀刻裕量，从而获得可靠的半导体器件。
形成半导体器件图案方法

[发明专利]多层图案化涂膜的形成方法-CN200710004097.3有效
发明人：神守功;小野郁美;河崎尚 -专利权人：关西涂料株式会社
申请日： 2007-01-23 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： B05D1/36 文献下载
摘要：本发明提供一种多层图案化涂膜形成方法，包括步骤：(1)将第一着色底基涂料组合物涂布于衬底，(2)以第一着色底基涂膜部分露出的方式在第一着色底基涂料组合物的未固化涂膜上涂布第二着色底基涂料组合物，第二着色底基涂料组合物能够形成与第一着色底基涂料组合物不同颜色和/或可见质地的涂膜，并且涂布30秒后底基涂料组合物的固体成分含量为30至60质量％，和(3)在固化或未固化的第一和第二着色底基涂料组合物上涂布覆面透明涂料组合物，并且将未固化组合物固化。
多层图案化涂膜形成方法

[发明专利]一种平版胶印个性化图案金属面板及其制造工艺-CN201310135847.6有效
发明人：方宏;蒋学文;丁旭东 -专利权人：浙江墙煌建材有限公司
申请日： 2013-04-18 - 公布日： 2013-08-07 - 主分类号： B44C5/04 文献下载
摘要：本发明提供一种平版胶印个性化图案金属面板及其制造工艺，产品包括从下而上的预辊涂彩板、平版胶印印刷层、罩光保护清漆层及可撕透明保护膜。制造工艺是首先金属基板经碱洗、前处理，背涂增加防锈性、亲和性的环氧漆，正面涂改性背景底漆制得预辊涂彩板，分成片材；将个性化图案信息通过菲林片、晒版将图案转移到PS版上完成制版工序，然后由金属平版胶印机印刷得到平版胶印印刷层，最后涂覆罩光保护清漆层，覆上可撕透明保护膜。本发明产品不但具有预辊涂彩板的优良性能，而且可实现清晰、逼真图案的个性化设计，同时可实现小批量或批量连续化灵活生产，节约资源，提高效率。
一种平版胶印个性化图案金属面板及其制造工艺

[发明专利]在基底上形成图案的方法及其应用-CN202010150705.7有效
发明人：姜学松;李甜甜 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2020-03-06 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种在基底上形成图案的方法及其应用。具体地，本申请的方法包括如下步骤：(a)将光敏材料和聚合物在溶剂中的溶液施涂于所述基底上并干燥，从而形成涂膜，其中所述光敏材料在紫外光照射下可直接发生光化学反应；以及(b)穿过非接触式掩模，对所述涂膜进行紫外光照射，在照射过程中，所述光敏材料从涂膜的非曝光区迁移至曝光区，使得所述曝光区按照所述掩模版的图案进行生长，从而在所述涂膜上形成所述图案。而且，根据本发明的方案尤其适于体光栅的制备和芯片的图案化封装。
基底形成图案方法及其应用

[发明专利]一种薄膜晶体管膜层、制造方法和装置-CN201711447966.X在审
发明人：陈龙龙;张建华;李痛快;李喜峰 -专利权人：上海大学
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2018-05-01 - 主分类号： H01L29/417 文献下载
摘要：本发明公开一种薄膜晶体管膜层、制造方法和装置。所述膜层包括第一膜层、第二膜层、第三膜层、第五膜层、第一图案化膜层和第二图案化膜层，所述第一膜层上设置有所述第二膜层，所述第二膜层上设置有所述第三膜层，所述第三膜层上设置有所述第五膜层，所述第五膜层上设置有所述第一图案化膜层，所述第一图案化膜层上设置有所述第二图案化膜层。本发明的膜层结构、制造方法和装置中的第二图案化膜层在第一图案化膜层的基础上直接设置得到的，无需再通过旋涂光刻、湿刻等复杂的工艺，缩短了工艺周期、降低了制造薄膜晶体管成本。
一种薄膜晶体管制造方法装置

[实用新型]一种薄膜晶体管膜层-CN201721865358.6有效
发明人：陈龙龙;张建华;李痛快;李喜峰 -专利权人：上海大学
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2018-08-03 - 主分类号： H01L29/417 文献下载
摘要：本实用新型公开一种薄膜晶体管膜层。所述膜层包括第一膜层、第二膜层、第三膜层、第五膜层、第一图案化膜层和第二图案化膜层，所述第一膜层上设置有所述第二膜层，所述第二膜层上设置有所述第三膜层，所述第三膜层上设置有所述第五膜层，所述第五膜层上设置有所述第一图案化膜层，所述第一图案化膜层上设置有所述第二图案化膜层。本实用新型的膜层中的第二图案化膜层在第一图案化膜层的基础上直接设置得到的，无需再通过旋涂光刻、湿刻等复杂的工艺，缩短了工艺周期、降低了制造薄膜晶体管成本。
膜层图案化膜层薄膜晶体管本实用新型第一膜层工艺周期直接设置光刻旋涂制造

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