“可变形基板”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果1090941个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]磁存储器、将数据写入磁存储器的方法及半导体装置-CN201580074919.8有效
发明人：福泽英明 -专利权人：株式会社青纺
申请日： 2015-07-30 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： H01L21/8246 文献下载
摘要：一种磁存储器，具有可变形基板、与可变形基板耦合并且将数据存储为磁化方向的至少一个自旋器件元件、以及用于弯曲可变形基板的弯曲机构。可变形基板的上表面和/或下表面中的至少一个面向未填充有固体物质的空间。
磁存储器数据写入方法半导体装置

[发明专利]用于可变形电子器件的装置及相关联的方法-CN201580056493.3有效
发明人： A·罗宾逊;D·柯顿;P·安德鲁 -专利权人：诺基亚技术有限公司
申请日： 2015-08-28 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： H05K1/02 文献下载
摘要：一种装置包括可变形基板，适于将位于可变形基板上的一个或多个电子部件彼此互连或者与位于另一个基板上的一个或多个电子部件互连的电互连，以及被配置为将电互连耦合到可变形基板的支撑梁，其中电互连包括一个或多个弯曲部和邻接的直线部，其中电互连经由邻接的直线部附接到支撑梁，以使得一个或多个弯曲部悬挂在可变形基板之上，以使电互连在可变形基板经受操作变形时能够适应应变。
用于变形电子器件装置相关方法

[发明专利]一种基于电隔离磁阻应力敏感元件的氢气传感器-CN201911048138.8在审
发明人：詹姆斯·G·迪克;周志敏 -专利权人：江苏多维科技有限公司
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2020-01-03 - 主分类号： G01N27/72 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种基于电隔离磁阻应力敏感元件的氢气传感器，包括：可变形基板；位于可变形基板上的磁阻应力传感器电桥、覆盖磁阻应力传感器电桥的电隔离层以及位于电隔离层上的磁屏蔽层；位于可变形基板上方的氢敏感层，氢敏感层在可变形基板所在平面的正投影覆盖电隔离层，氢敏感层用于吸附或脱附氢气以发生膨胀或收缩形变并引起可变形基板的应力变化，磁阻应力传感器电桥用于根据可变形基板的应力变化进行氢气浓度测量。
可变形基板磁阻应力传感器电隔离层敏感层电桥氢气传感器应力变化氢气浓度测量应力敏感元件磁屏蔽层所在平面氢气形变电隔离正投影覆盖脱附吸附收缩膨胀

[实用新型]一种基于电隔离磁阻应力敏感元件的氢气传感器-CN201921848576.8有效
发明人：詹姆斯·G·迪克;周志敏 -专利权人：江苏多维科技有限公司
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： G01N27/72 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一种基于电隔离磁阻应力敏感元件的氢气传感器，包括：可变形基板；位于可变形基板上的磁阻应力传感器电桥、覆盖磁阻应力传感器电桥的电隔离层以及位于电隔离层上的磁屏蔽层；位于可变形基板上方的氢敏感层，氢敏感层在可变形基板所在平面的正投影覆盖电隔离层，氢敏感层用于吸附或脱附氢气以发生膨胀或收缩形变并引起可变形基板的应力变化，磁阻应力传感器电桥用于根据可变形基板的应力变化进行氢气浓度测量。
一种基于隔离磁阻应力敏感元件氢气传感器

[发明专利]基板接合装置和使用其制造半导体器件的方法-CN202010805107.9在审
发明人：金会哲;金兑泳;李学骏;罗勋奏 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2020-08-12 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明构思提供了基板接合装置和通过使用该基板接合装置制造半导体器件的方法。该基板接合装置包括配置为支撑第一基板的第一接合卡盘、以及配置为支撑第二基板使得第二基板面对第一基板的第二接合卡盘。第一接合卡盘包括：第一基座；第一可变形板，在第一基座上，配置为支撑第一基板，并且配置为变形使得第一基座与第一可变形板之间的距离变化；以及第一压电片，在第一可变形板上，并且配置为响应于施加到其的电力而变形以使第一可变形板变形
接合装置使用制造半导体器件方法

[发明专利]一种显示基板、其制作方法及显示装置-CN202110107916.7在审
发明人：张渊明;王铁石 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-01-27 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本公开提供了一种显示基板、其制作方法及显示装置，包括：衬底基板，衬底基板包括多个子像素；像素界定层，位于衬底基板之上；像素界定层具有多个开口，每个开口内设置一个子像素；可变形结构，位于像素界定层之上；可变形结构的底部嵌入像素界定层远离衬底基板的表面，可变形结构在远离衬底基板的延伸方向上，相对于开口垂直衬底基板的中心轴倾斜设置，且一个开口周围的可变形结构相对于开口垂直衬底基板的中心轴全部外扩或内缩；并且可变形结构被配置为在子像素的制作过程中倾斜方向可调
一种显示制作方法显示装置

[发明专利]可变形装置和方法-CN201580067857.8有效
发明人： D·柯顿;A·罗宾逊;P·安德鲁 -专利权人：诺基亚技术有限公司
申请日： 2015-10-12 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： B81B7/00 文献下载
摘要：一种装置和方法，其中，该方法包括：可变形基板；弯曲的支撑结构，其被配置为支撑电阻传感器的至少一部分，其中，电阻传感器包括第一电极、第二电极和设置在电极之间的电阻传感器材料；至少一个支撑件，其被配置为将弯曲的支撑结构与可变形基板间隔开，以使得当可变形基板变形时，弯曲的支撑结构不以相同的方式变形；其中，电阻传感器位于弯曲的支撑结构上，以便当可变形基板变形时限制电阻传感器的变形。
电阻传感器可变形基板支撑结构变形可变形装置第二电极第一电极时限制支撑件电极配置支撑

[发明专利]一种带孔/柱曲面的制造方法-CN200510060792.2无效
发明人：王嘻嘻 -专利权人：王引
申请日： 2005-09-16 - 公布日： 2006-03-01 - 主分类号： B21D11/20 文献下载
摘要：该带孔/柱曲面的制造方法，所述的曲面是用常规平面加工法加工而成的平面状基板后，再经外力弯曲变形而成，在平面的基板上有用常规平面加工法加工的开孔或立柱，同时在所述基板上开有一种在基板边缘开口的贯通整个基板厚度的通透式窄槽，并且在基板的一面或二面上设有一种厚度仅为基板部分厚度的可变形断面，所述可变形断面以及通透式窄槽将基板划分为各个小块；通过改变对基板上不同部位作用力的大小和方向，使基板沿可变形断面弯曲，可以获得从平面到曲面的连续可变曲面本发明是一种通过沟槽及厚度仅为基板部分厚度的相向性可变形断面来实施的由平面到曲面的转变过程，由于这一方法可以通过平面方法来实施加工，因此特别简单便捷。
一种曲面制造方法

[发明专利]一种智能表面-CN202011261612.8在审
发明人：周幼宁;西尔瓦诺·弗兰 -专利权人：周幼宁;西尔瓦诺·弗兰
申请日： 2020-11-12 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明涉及一种智能表面，用于检测至少一个触摸的位置和/或压力，该智能表面包括：支撑基板(1100)；位于支撑基板(1100)上方的可变形的光导(1200)，可变形的光导(1200)用来传输感测光；位于可变形光导(1200)上方的覆盖层(2500)；和位于可变形光导(1200)与覆盖层(2500)之间的中间层(3600)。
一种智能表面

[发明专利]用于与流体的体积流相互作用的MEMS换能器及其制造方法-CN201680048446.9有效
发明人：哈拉尔德·琛克;霍尔格·康拉德;马蒂厄·高德特;克劳斯·席曼茨;塞尔久·兰达;贝尔特·凯泽 -专利权人：弗劳恩霍夫应用研究促进协会
申请日： 2016-06-14 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： H04R19/00 文献下载
摘要：一种用于与流体的体积流相互作用的MEMS换能器包括基板和机电换能器，所述基板具有腔体，所述机电换能器在腔体与基板连接并且包括能够沿着侧向移动方向变形的可变形元件，其中，可变形元件沿着侧向移动方向的变形和流体的体积流之间存在因果关系
用于流体体积相互作用 mems 换能器及其制造方法

[发明专利]涂覆的反射光学元件上的表面校正-CN201580073765.0在审
发明人： F-J.斯蒂克尔 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2015-10-07 - 公布日： 2017-08-29 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种校正反射光学元件(1)的表面形状的方法，所述反射光学元件具有基板(2)和反射涂层(3)，其中，所述方法至少包括以下步骤通过在布置于基板(2)和反射涂层(3)之间的至少一个可变形层(7)中产生永久局部形状变化(10)来校正所述表面形状(5)，所述至少一个可变形层具有磁性形状记忆合金，其中，通过对至少一个可变形层(7)施加电磁场，尤其是磁场(9)来产生永久局部形状变化(10)。本发明还涉及包括基板(2)、反射涂层(3)和至少一个可变形层(7)的反射光学元件(1)，至少一个可变形层布置在基板(2)和反射涂层(3)之间，并具有磁性形状记忆合金。
反射光学元件表面校正

[实用新型]一种带孔/柱曲面-CN200520014950.6无效
发明人：王嘻嘻 -专利权人：王引
申请日： 2005-09-16 - 公布日： 2006-11-01 - 主分类号： F16S1/08 文献下载
摘要：所述的曲面包括一用常规平面加工法加工而成的平面状基板，在平面的基板上有用常规平面加工法加工的开孔或立柱，同时在所述基板上开有一种在基板边缘开口的贯通整个基板厚度的通透式窄槽，并且在基板的一面或二面上设有一种厚度仅为基板部分厚度的可变形断面，所述可变形断面以及通透式窄槽将基板划分为各个小块；通过改变对基板上不同部位作用力的大小和方向，使基板沿可变形断面弯曲，可以获得从平面到曲面的连续可变曲面。本实用新型是一种通过沟槽及厚度仅为基板部分厚度的相向性可变形断面来实施的由平面到曲面的转变过程，由于这一方案可以通过平面方法来实施加工，因此特别简单便捷。
一种曲面

[发明专利]具有适形目标焊盘的可变形电气触点-CN201880037900.X在审
发明人： B·哈巴;G·Z·格瓦拉 -专利权人：伊文萨思公司
申请日： 2018-05-22 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： H01L23/498 文献下载
摘要：本发明提供了用于微电子组装和其他应用的具有适形目标焊盘的可变形电气触点。例如，在管芯级或晶片级的微电子组装期间，第一基板上的多个可变形电气触点可以被接合到第二基板上的多个适形焊盘。每个可变形触点变形至某个程度，该程度与第一基板和第二基板之间的接合压力的量相关。变形工艺还利用可变形电气触点擦拭每个相应的适形焊盘以形成新的金属与金属接触以便进行良好的传导。每个适形的焊盘在被可压缩材料加压时塌缩，以呈现电气触点的近似变形的形状，从而提供大导电表面积，同时还补偿水平不对准。可以升高温度以熔化电介质，该电介质封装电气连接、平衡两个基板之间的间隙和变化，并且将两个基板永久性地固定在一起。
电气触点可变形适形焊盘电介质微电子组装第二基板第一基板基板熔化可压缩材料变形工艺电气连接接合压力金属接触目标焊盘接合变形的不对准管芯级晶片级触点导电塌缩传导擦拭封装加压近似变形升高金属平衡应用

[发明专利]可变形镜、包括可变形镜的光学系统以及眼科装置-CN201510882420.1在审
发明人：高滨慎一郎;玉森研尔 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2015-12-04 - 公布日： 2016-06-15 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：一种可变形镜、包括可变形镜的光学系统以及眼科装置。设置安装基板(第三基板)，以便面对具有较大投影面积的镜基板(第二基板)，所述镜基板在致动器基板与镜基板在与反射构件的面内方向平行的面内方向(XY方向)上彼此不交叠的区域中接合到安装基板。
变形包括光学系统以及眼科装置

[发明专利]可变形镜的制造方法-CN200710141386.8有效
发明人：前田重雄;田中克彦;石井明;杉山进 -专利权人：船井电机株式会社
申请日： 2007-08-09 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：本发明提供一种可变形镜的制造方法，其适于大规模生产，所述方法包括：接合步骤，用于将支撑柱(5)和压电元件(4)夹在支撑基板(2)和镜基板(3)之间，并且至少分别将支撑基板与支撑柱、支撑基板与压电元件、镜基板与支撑柱相互接合；弹性膜形成步骤，用于在镜基板的外表面形成平坦的弹性膜(7)；以及反射膜形成步骤，用于在弹性膜上形成反射膜(6)。本发明的可变形镜的制造方法可以可靠地获得可变形镜，且适于大规模生产。
变形制造方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条